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発明の名称 プラズマディスプレイ装置及びその製造方法
発行国 日本国特許庁(JP)
公報種別 公開特許公報(A)
公開番号 特開2007−258705(P2007−258705A)
公開日 平成19年10月4日(2007.10.4)
出願番号 特願2007−63611(P2007−63611)
出願日 平成19年3月13日(2007.3.13)
代理人 【識別番号】110000165
【氏名又は名称】グローバル・アイピー東京特許業務法人
発明者 チャ ホンレ
要約 課題
電磁波遮蔽層の接地領域の露出を容易にして低費用で製造が可能なプラズマディスプレイ装置及びその製造方法を提供する。

解決手段
本発明の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置はプラズマディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネル上に形成される電磁波遮蔽層及び電磁波遮蔽層上に形成されるフィルタを含み、フィルタは電磁波遮蔽層上に形成される粘着層と粘着層上に形成されるベースフィルム層を含む。
特許請求の範囲
【請求項1】
プラズマディスプレイパネルと、
前記プラズマディスプレイパネル上に形成される電磁波遮蔽層と、
前記電磁波遮蔽層上に形成されるフィルタと、を含み、
前記フィルタは、
前記電磁波遮蔽層上に形成される粘着層と、
前記粘着層上に形成されるベースフィルム層と、を含むことを特徴とするプラズマディスプレイ装置。
【請求項2】
前記電磁波遮蔽層はメッシュタイプまたは導電膜タイプの内の何れか一つのタイプであることを特徴とする、請求項1記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項3】
前記フィルタは前記電磁波遮蔽層の接地部を除いた領域に形成されることを特徴とする、請求項1記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項4】
前記粘着層は近赤外線遮蔽物質、ネオン波長遮断物質または選択的吸光物質の内の少なくとも一つを含むことを特徴とする、請求項1記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項5】
前記フィルタは前記ベースフィルム層上に形成される無反射層を更に含むことを特徴とする、請求項1記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項6】
プラズマディスプレイパネルと、
前記プラズマディスプレイパネル上に形成される電磁波遮蔽層と、
前記電磁波遮蔽層上に形成される樹脂層と、
を含むことを特徴とするプラズマディスプレイ装置。
【請求項7】
前記樹脂層上に形成される無反射層を更に含むことを特徴とする、請求項6記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項8】
前記電磁波遮蔽層はメッシュタイプまたは導電膜タイプの内の何れか一つのタイプであることを特徴とする、請求項6記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項9】
前記樹脂層は熱硬化性樹脂層であることを特徴とする、請求項6記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項10】
前記樹脂層は前記電磁波遮蔽層の接地部を除いた領域に形成されることを特徴とする、請求項6記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項11】
前記樹脂層は近赤外線遮蔽物質、ネオン波長遮断物質または選択的吸光物質の内の少なくとも一つを含むことを特徴とする、請求項6記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項12】
プラズマディスプレイパネル上に電磁波遮蔽層を形成する段階と、
前記電磁波遮蔽層上に樹脂層を形成する段階と、
を含むプラズマディスプレイ装置の製造方法。
【請求項13】
前記樹脂層上に無反射層を形成する段階を更に含むことを特徴とする、請求項12記載のプラズマディスプレイ装置の製造方法。
【請求項14】
前記樹脂層を形成する段階は、
前記電磁波遮蔽層の遮蔽層の接地部を除いた領域に近赤外線遮蔽物質、ネオン波長遮断物質または選択的吸光物質の内の少なくとも一つを含んだ樹脂ペーストを塗布する段階と、
前記樹脂ペーストを硬化する段階と、
を含むことを特徴とする、請求項12記載のプラズマディスプレイ装置の製造方法。
【請求項15】
前記樹脂ペーストの塗布段階は、
前記電磁波遮蔽層の接地領域をマスキングする段階を更に含むことを特徴とする、請求項14記載のプラズマディスプレイ装置の製造方法。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明はディスプレイ装置に関し、更に詳しくはプラズマディスプレイ装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
一般的にディスプレイ装置の内でプラズマディスプレイ装置はプラズマディスプレイパネルとプラズマディスプレイパネルを駆動するための駆動部を含む。
【0003】
一般的にプラズマディスプレイパネルは前面パネルと後面パネルの間に形成された隔壁が一つの放電セルを成すことで、各放電セル内にはネオン(Ne)、ヘリウム(He)またはネオン及びヘリウムの混合気体(Ne+He)のような主放電気体と少量のキセノン(Xe)を含む不活性ガスが充填されている。
【0004】
このような放電セルが複数個集まって一つのピクセル(Pixel)を成す。例えば赤色(Red、R)放電セル、緑色(Green、G)放電セル、青色(Blue、B)放電セルが集まって一つのピクセルを成すのである。
【0005】
そしてこのようなプラズマディスプレイパネルは高周波電圧によって放電される時、不活性ガスは真空紫外線(Vacuum Ultraviolet rays)を発生して隔壁の間に形成された蛍光体を発光させて画像が具現される。このようなプラズマディスプレイパネルは薄く軽い構成が可能なので次世代表示装置として脚光を浴びている。
【0006】
一方、従来のプラズマディスプレイ装置は駆動過程で高電圧及び高周波を使うので、カラー陰極選管(CRT)や液晶ディスプレイパネル(LCD)よりパネルのガラス前面で電磁波が非常に多く放出する問題点がある。
【0007】
また、プラズマディスプレイパネルはNe、Xeのような不活性ガスから誘導される近赤外線(NIR)を放出するが、このような近赤外線は家電製品のリモートコントローラーの波長と非常に近いので、製品の誤作動を起こす可能性があるという問題点があり、また、CRTやLCDなどそのほかのディスプレイと同様にパネル前面ガラスが外部光を反射することによって、眩さやコントラスト低下などのような問題点が発生するようになる。
【0008】
このような理由でPDP前面に所定の機能を持つガラスフィルタ(Glass Filter)やフィルム型フィルタ(Film Filter)を設置して上述した問題点を解決しようとした。
【0009】
しかし、従来のフィルタは別途製作されたフィルム型フィルタを前面パネルに接着する方法を主に使っているが、別途フィルム型フィルタを製造するには費用がたくさんかかるだけでなく、これをPDPパネルに接着する工程を通さなければならないし、接着後フィルタに形成された電磁波遮蔽層が前面パネルに完全に転写されると同時にバスバー(bus bar)との電気的な連結のための接地領域の電磁波遮蔽層が完全に露出しなければならない。これによって複雑で精緻な工程が要求されるので、工程費用の増加が不可避であり、また製品の歩留まりが減少するしかない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0010】
本発明の目的は、電磁波遮蔽層の接地領域の露出を容易にして低費用で製造が可能なプラズマディスプレイ装置及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0011】
本発明の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置は、プラズマディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネル上に形成される電磁波遮蔽層及び電磁波遮蔽層上に形成されるフィルタを含み、前記フィルタは前記電磁波遮蔽層上に形成される粘着層と、前記粘着層上に形成されるベースフィルム層と、を含む。
【0012】
前記電磁波遮蔽層はメッシュタイプまたは導電膜タイプの内の何れか一つのタイプであることが好ましい。
【0013】
前記フィルタは前記電磁波遮蔽層の接地部を除いた領域に形成されることが好ましい。
【0014】
前記粘着層は近赤外線遮蔽物質、ネオン波長遮断物質または選択的吸光物質の内の少なくとも一つを含むことが好ましい。
【0015】
前記フィルタは前記ベースフィルム層上に形成される無反射層を更に含むことが好ましい。
【0016】
本発明の他の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置は、プラズマディスプレイパネル、前記プラズマディスプレイパネル上に形成される電磁波遮蔽層及び前記電磁波遮蔽層上に形成される樹脂層を含む。
【0017】
前記樹脂層上に形成される無反射層を更に含むことが好ましい。
【0018】
前記電磁波遮蔽層はメッシュタイプまたは導電膜タイプの内の何れか一つのタイプであることが好ましい。
【0019】
前記樹脂層は熱硬化性樹脂層であることが好ましい。
【0020】
前記樹脂層は前記電磁波遮蔽層の接地部を除いた領域に形成されることが好ましい。
【0021】
前記樹脂層は近赤外線遮蔽物質、ネオン波長遮断物質または選択的吸光物質の内の少なくとも一つを含むことが好ましい。
【0022】
本発明の他の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置の製造方法は、プラズマディスプレイパネル上に電磁波遮蔽層を形成する段階及び前記電磁波遮蔽層上に樹脂層を形成する段階を含む。
【0023】
前記樹脂層上に無反射層を形成する段階を更に含むことが好ましい。
【0024】
前記樹脂層を形成する段階は、前記電磁波遮蔽層の遮蔽層の接地部を除いた領域に近赤外線遮蔽物質、ネオン波長遮断物質または選択的吸光物質の内の少なくとも一つを含んだ樹脂ペーストを塗布する段階及び前記樹脂ペーストを硬化する段階を含むことが好ましい。
【0025】
前記樹脂ペーストの塗布段階は、前記電磁波遮蔽層の接地領域をマスキングする段階を更に含むことが好ましい。
【発明の効果】
【0026】
本発明によるプラズマディスプレイ装置は電磁波遮蔽層を含む低価格型PDP前面フィルタを製造することができる。また、電磁波遮蔽層の接地領域の露出を非常に容易に行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0027】
以下では本発明の一つの実施形態による具体的な実施形態を添付された図面を参照して説明する。
【0028】
図1は本発明の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置を説明するための図である。
【0029】
図1に示すように、本発明の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置はプラズマディスプレイパネルの前面パネル100、電磁波遮蔽層130、フィルタ200を含み、フィルタ200はベースフィルム層210、無反射層220、粘着層230を含む。
【0030】
電磁波遮蔽層130はディスプレイ装置駆動時に発生する電磁波がディスプレイ装置の表示面を通じて外部に放出されることを遮蔽する。
【0031】
また、電磁波遮蔽層120はメッシュタイプを成す。メッシュタイプの電磁波遮蔽層120は導電性を持つ金属層をメッシュパターンで形成したことで、メッシュパターンの金属層を接地するためにその末端に接地部を持つ。
【0032】
ベースフィルム層210はポリエチレンテレフタレート(PET)や三酢酸セルロース(TAC)のような通常の透明材質のフィルムが使われる。
【0033】
無反射層220はパネル外部に放射される紫外線を遮断して外部反射光を減少させる機能を遂行する反射防止層(anti−reflection layer)または閃光防止層(anti−glare layer)が使用される。もちろん無反射層220で反射防止及び閃光防止機能を同時に遂行することができる混合物に形成された薄膜層を使用してもよい。
【0034】
粘着層230はアクリル系、ゴム系、ポリビニルエーテル系及びシリコン系などが使われる。
【0035】
図2A〜図2Dは本発明の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置の前面フィルタ製造過程を順に示した断面図である。
【0036】
図2Aを参照すれば、先ずプラズマディスプレイ装置の前面パネル100が用意される。
【0037】
前面パネル100は後続工程で形成される電磁波遮蔽層130の露出可否を基準に画面有効領域(A)及び接地領域(B)に分類される。
【0038】
画面有効領域(A)の前面基板110には後面パネル(図示せず)との間に形成される複数のピクセルを駆動するための複数の維持電極対(110A、110B)が提供される。
【0039】
維持電極対(110A、110B)はITOのような透明酸化物電極材質で形成されて、透明酸化物電極の伝導性を補うために維持電極対(110A、110B)上には金属バス電極(112A、112B)が形成される。維持電極対(110A、110B)上には酸化マグネシウム材質の保護膜120が形成される。
【0040】
以下説明する実施形態は維持電極対(110A、110B)及び保護膜などの構造物が前面フィルタの製造過程の前段階で既に形成されているものとして扱うが、本発明でこのような構造物は前面フィルタが製造された後、パネルの裏面に提供されてもよいことは本発明が属する技術分野の当業者であれば容易に理解可能である。
【0041】
図2Bを参照すれば、前面基板110に維持電極対が形成された背面には電磁波遮蔽層130が形成される。電磁波遮蔽層130はメッシュ(mesh)タイプや導電膜タイプの導電性物質で構成される。
【0042】
メッシュタイプの電磁波遮蔽層は写真蝕刻法、印刷法またはメッキ法によって形成される。写真蝕刻法はベースフィルム上に銅箔を形成した後、露光、現象及びエッチングを経ってメッシュ形態のパターンを得る方法であり、印刷法はベースフィルム層状に銅箔ペーストをスクリーンプリンティングした後乾燥してメッシュ型のパターンを得る方法で、メッキ法はベースフィルム上にシード層を形成した後電気メッキを利用して願うパターンを得る方法を言う。
【0043】
導電膜タイプの電磁波遮蔽層はAgとITOをスパッタリング(Sputtering)法によって繰り返し積層して形成される。
【0044】
図2Cを参照すれば、前面パネル100とは別に前面パネル上に形成された電磁波遮蔽層130を保護するためのフィルタ200を製作する。前記フィルタ200はベースフィルム層210と、ベースフィルム層210上に形成される少なくとも1種類の無反射層220を含むことができる。
【0045】
また図2Cを参照すれば、無反射層が形成されたベースフィルム層210の裏面には粘着層230が形成されている。
【0046】
粘着層230は近赤外線遮蔽物質、ネオン波長遮断及び色相補正のための選択的吸光物質を更に含む。選択的吸光物質としては、例えばテトラアザポルフィリン系、シアニン系、スクアリリウム系色素などを一つまたは二つ以上混合して使う。
【0047】
また、ベースフィルム層210と無反射層220の間、電磁波遮蔽層130と粘着層230の間、または粘着層230内部には要求される他の機能を遂行するためのフィルムまたは物質が介在または追加されることができる。
【0048】
例えば、フィルタ200には透明性を損傷させることがなく良好な近赤外線遮断性能(例えば、800−1200nm近赤外線波長領域において近赤外線を吸収する性能)を持つ物質として、ニッケル錯体系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン、シアニン系、デ−イモニュム系の混合色素などの近赤外線遮断物質を含む近赤外線遮断フィルムが介在されてもよく、これら物質が粘着層に追加されてもよい。
【0049】
図2Dを参照すれば、このように製作されたフィルタ200が前面パネル100の電磁波遮蔽層130上に接着される。フィルタ200は粘着層230が前面パネル100の電磁波遮蔽層130形成面と接触するように前面パネル100上に供給されて、ロールのような加圧手段によって前面パネル100に附着する。
【0050】
この時、フィルタ200は前面パネル100の電磁波遮蔽層130の一部、すなわち画面有効領域(A)のみをカバーして、接地領域(B)は外部に露出するようにする。
【0051】
これはフィルタ200を画面有効領域(A)の大きさに合わせてあらかじめ裁断して附着させる方法で遂行されてもよいが、パネル全体をカバーするようにフィルタ200を附着させた後、切断手段によって接地領域(B)部位を切断して取り除くことで遂行されてもよい。
【0052】
このように、電磁波遮蔽層130は前面パネル上に直接形成されており、従来のようにフィルム形態で提供されて前面パネルに接着されるのではない。
【0053】
したがって本発明の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置は、フィルタ200と電磁波遮蔽層130が分離しているので、フィルタ200の切断時に電磁波遮蔽層の損傷のような問題が発生する余地がない。
【0054】
図3は本発明の他の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置を示す図である。
【0055】
図3に示すように、本発明の他の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置は、プラズマディスプレイパネルの前面パネル100、電磁波遮蔽層130、樹脂層310、無反射層320を含む。
【0056】
ここで、本発明の他の実施形態によるプラズマディスプレイ装置に関する特徴の内で図1で記述された本発明の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置に関する特徴と実質的に等しい特徴はその説明を略するようにする。
【0057】
樹脂層310は透明硬化性樹脂から製造される。例えば、樹脂層310は熱硬化性アクリル系共重合体及び硬化剤を含むペースト組成物を塗布して得られる。ペースト組成物は表面を平坦にための点も調節剤または流動性調節剤を更に含んでもよい。
【0058】
図4A〜図4Dは本発明の他の実施形態によるプラズマディスプレイ装置の前面フィルタ製造過程を順に示した断面図である。
【0059】
先ず、図4A及び図4Bに示す過程は、前面パネル100の裏面に電磁波遮蔽層130を形成する過程として、図2A及び図2Bを参照して説明した内容と同じであるから、ここでは説明を略する。
【0060】
引き続き図4Cに示すように、前面パネル100の一部領域、すなわち画面有効領域(A)に樹脂層310を形成する。樹脂層310は画面有効領域(A)の電磁波遮蔽層130を覆って保護する。
【0061】
ペースト組成物の塗布方法として多様な方法を使用してもよい。塗布方法としては例えばロール塗布、噴霧塗布またはスクリーンプリンティングを適用してもよい。
【0062】
塗布時に前面パネル100の接地領域(B)には樹脂ペーストが塗布されることを防止するためのマスク層(図示せず)を提供してもよい。マスク層は粘着性テープなどを使用してもよい。
【0063】
塗布されたペーストは乾燥及び硬化を経て、樹脂層310を形成する。樹脂層310が形成された後、使われたマスク層は除去される。
【0064】
必要な場合、前述のペースト組成物は硬化後にフィルタの諸般の機能を遂行するための他の組成物を含んでもよい。例えば、ペースト組成物は近赤外線遮断、ネオン波長遮断または色相補正機能を遂行することができる組成物を含んでもよい。
【0065】
本発明が属する技術分野の当業者ならペースト組成物に添加される組成物の種類は場合によって異なって設計される可能性があることを理解することができる。例えば、電磁波遮蔽層130が導電膜タイプの場合、導電膜が近赤外線遮断機能を遂行するので、近赤外線遮断のための組成物が追加される必要はない。
【0066】
このように、本発明の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置では樹脂層310がペースト形態に塗布されるから、ペーストに追加の機能性混合物を添加することで多様な機能を持つフィルタを具現することができる。
【0067】
引き続き図4Dを参照すれば、樹脂層310表面に乾式または湿式法によって追加の無反射層320がコーティングされる。例えば無反射層320は反射防止層または閃光防止層であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【0068】
【図1】本発明の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置を説明するための図。
【図2A】本発明の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置の前面フィルタ製造過程を順に示す図。
【図2B】本発明の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置の前面フィルタ製造過程を順に示す図。
【図2C】本発明の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置の前面フィルタ製造過程を順に示す図。
【図2D】本発明の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置の前面フィルタ製造過程を順に示す図。
【図3】本発明の他の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置を示す図。
【図4A】本発明の他の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置の前面フィルタ製造過程を順に示す図。
【図4B】本発明の他の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置の前面フィルタ製造過程を順に示す図。
【図4C】本発明の他の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置の前面フィルタ製造過程を順に示す図。
【図4D】本発明の他の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置の前面フィルタ製造過程を順に示す図。




 

 


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