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発明の名称 ディスプレイフィルタ及びプラズマディスプレイ装置
発行国 日本国特許庁(JP)
公報種別 公開特許公報(A)
公開番号 特開2007−110124(P2007−110124A)
公開日 平成19年4月26日(2007.4.26)
出願番号 特願2006−277656(P2006−277656)
出願日 平成18年10月11日(2006.10.11)
代理人 【識別番号】110000165
【氏名又は名称】グローバル・アイピー東京特許業務法人
発明者 シン ウンソゥ
要約 課題
本発明は簡単な接地構造を有するディスプレイ用フィルタ及びプラズマディスプレイ装置を提供する。

解決手段
本発明は、プラズマディスプレイパネルと、電磁波遮蔽膜と、前記電磁波遮蔽膜に接触する1つ以上のフィルムと、前記1つ以上のフィルムに形成された貫通穴に充填された導電層とを含み、前記プラズマディスプレイパネル上に形成されたディスプレイ用フィルタ及び前記導電層と接続する接地部材を含む。
特許請求の範囲
【請求項1】
電磁波遮蔽膜と、
前記電磁波遮蔽膜に接触する1つ以上のフィルムと、
前記1つ以上のフィルムに形成された貫通穴に充填された導電層と
を含むディスプレイ用フィルタ。
【請求項2】
前記1つ以上のフィルムは前記電磁波遮蔽膜上に形成されることを特徴とする請求項1に記載のディスプレイ用フィルタ。
【請求項3】
前記ディスプレイ用フィルタはフィルムフィルタであることを特徴とする請求項1に記載のディスプレイ用フィルタ。
【請求項4】
前記1つ以上のフィルムは反射防止膜であることを特徴とする請求項1に記載のディスプレイ用フィルタ。
【請求項5】
反射防止膜をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のディスプレイ用フィルタ。
【請求項6】
前記貫通穴は前記反射防止膜と重ならない1つ以上のフィルム領域に形成されることを特徴とする請求項5に記載のディスプレイフィルタ。
【請求項7】
前記導電層は銀又は銅を含むことを特徴とする請求項1に記載のディスプレイフィルタ。
【請求項8】
前記電磁波遮蔽膜はメッシュ部を含むことを特徴とする請求項1に記載のディスプレイフィルタ。
【請求項9】
近赤外線遮蔽膜をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のディスプレイフィルタ。
【請求項10】
色補正膜をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のフィルムフィルタ。
【請求項11】
近赤外線遮蔽/色補正膜をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のディスプレイフィルタ。
【請求項12】
前記貫通穴の直径が、1mm以上5mm以下であることを特徴とする請求項1に記載のディスプレイフィルタ。
【請求項13】
前記導電層の膜厚は、前記貫通穴の深さ以上であることを特徴とする請求項1に記載のディスプレイフィルタ。
【請求項14】
プラズマディスプレイパネルと、
電磁波遮蔽膜、該電磁波遮蔽膜に接触する1つ以上のフィルム、及び前記1つ以上のフィルムに形成された貫通穴に充填された導電層を含み、前記プラズマディスプレイパネル上に形成されたディスプレイ用フィルタと、
前記導電層と接続する接地部材と
を含むプラズマディスプレイ装置。
【請求項15】
前記接地部材はフィンガースプリングであることを特徴とする請求項14に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項16】
前記接地部材は異方性導電フィルム又は導電性接着剤であることを特徴とする請求項14に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項17】
前記ディスプレイ用フィルタは反射防止膜をさらに含むことを特徴とする請求項14に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項18】
前記貫通穴は前記反射防止膜と重ならない1つ以上のフィルム領域に形成されることを特徴とする請求項17に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項19】
前記貫通穴の直径は1mm以上5mm以下であることを特徴とする請求項14に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項20】
電磁波遮蔽膜と、
前記電磁波遮蔽膜に接触し、貫通穴が形成された1つ以上のフィルムと
を含むことを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【請求項21】
前記貫通穴の直径は1mm以上5mm以下であることを特徴とする請求項20に記載のディスプレイ用フィルタ。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、ディスプレイ用フィルタ及びプラズマディスプレイ装置に関する。
【背景技術】
【0002】
プラズマディスプレイ装置は、放電セル内に主放電気体と不活性ガスとが充填されたプラズマディスプレイパネルを含む。高周波電圧がプラズマディスプレイパネルの電極に供給されると、不活性ガスは、真空紫外線(Vacuum Ultraviolet rays)を発生し、真空紫外線は、プラズマディスプレイパネルの隔壁の間に形成された蛍光体を発光させる。
【0003】
プラズマディスプレイ装置は、フレームを構成するサブフィールドごとに画像を表示する。各サブフィールドは、放電セルを初期化させるためのリセット期間、放電されるセルを選択するためのアドレス期間、及び放電回数に応じて階調を具現するサステイン期間を含む。
【0004】
リセット期間のセットアップ期間には、スキャン電極にセットアップパルスが供給される。セットアップパルスにより、弱い暗放電が放電セルで起きる。セットアップパルスによる暗放電により、プラズマディスプレイパネルのアドレス電極とサステイン電極上には、正極性壁電荷が蓄積され、スキャン電極上には、負極性の壁電荷が蓄積される。
【0005】
リセット期間のセットダウン期間には、スキャン電極にセットダウンパルスが供給される。セットダウンパルスにより、スキャン電極に過度に形成された壁電荷の一部が消去され、放電セルの壁電荷が均一になる。
【0006】
アドレス期間には、スキャンパルスがスキャン電極に供給され、アドレス電極にデータパルスが供給される。スキャンパルスとデータパルスとの電圧差と、リセット期間に生成された壁電圧とが加算されることにより、放電セルが選択される。
【0007】
サステイン期間には、スキャン電極等とサステイン電極にサステインパルスが供給され、アドレス期間において選択された放電セルからサステイン放電が発生する。これにより、プラズマディスプレイ装置は画像を表示する。
【0008】
プラズマディスプレイ装置の駆動部は、リセット期間、アドレス期間及びサステイン期間において、駆動パルスをプラズマディスプレイパネルの電極に供給する。すなわち、駆動部は、リセット期間のセットアップパルス及びセットダウンパルス、アドレス期間のデータパルス及びスキャンパルス、及びサステイン期間のサステインパルスを供給する。
【0009】
プラズマディスプレイ装置は、プラズマ放電のための高周波数高電圧により画像を具現することから、プラズマディスプレイパネルの前面に電磁波が放出される。また、プラズマディスプレイ装置は、不活性ガスにより近赤外線(NIR)を放出する。プラズマディスプレイ装置は、プラズマディスプレイパネルから放出される電磁波や近赤外線などを低減又は除去するために、プラズマディスプレイ装置は、ディスプレイ用フィルタを含む。
【0010】
ディスプレイ用フィルタは、電磁波を低減又は除去するために、電磁波遮蔽膜を含む。電磁波遮蔽膜が電磁波を低減又は除去するためには、接地されなければならず、簡単な接地構造を有する電磁波遮蔽膜がますます求められている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0011】
本発明の目的は、簡単な接地構造を有するディスプレイ用フィルタ及びプラズマディスプレイ装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0012】
上記の目的を達成すべく、本発明に係るディスプレイ用フィルタによれば、電磁波遮蔽膜と、前記電磁波遮蔽膜に接触する1つ以上のフィルムと、前記1つ以上のフィルムに形成された貫通穴に充填された導電層とを含む。
【0013】
上記の目的を達成すべく、本発明に係るプラズマディスプレイ装置によれば、プラズマディスプレイパネルと、電磁波遮蔽膜、該電磁波遮蔽膜に接触する1つ以上のフィルム、及び前記1つ以上のフィルムに形成された貫通穴に充填された導電層を含み、前記プラズマディスプレイパネル上に形成されたディスプレイ用フィルタと、前記導電層と接続する接地部材とを含む。
【0014】
上記の目的を達成すべく、本発明に係るディスプレイフィルタによれば、電磁波遮蔽膜と、前記電磁波遮蔽膜に接触し、貫通穴が形成された1つ以上のフィルムとを含む。
【発明の効果】
【0015】
本発明によれば、導電層が充填された貫通穴を形成することによって、簡単な接地構造を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0016】
以下、本発明の好ましい実施の形態を、添付図面に基づき詳細に説明する。
【0017】
本発明の実施の形態に係るディスプレイ用フィルタは、電磁波遮蔽膜と、前記電磁波遮蔽膜に接触する1つ以上のフィルムと、前記1つ以上のフィルムに形成された貫通穴に充填された導電層とを含む。
【0018】
前記1つ以上のフィルムは前記電磁波遮蔽膜上に形成されることができる。
【0019】
前記ディスプレイ用フィルタはフィルムフィルタであり得る。
【0020】
前記1つ以上のフィルムは反射防止膜であり得る。
【0021】
本発明の実施の形態に係るディスプレイ用フィルタは、反射防止膜をさらに含むことができる。
【0022】
前記貫通穴は前記反射防止膜と重ならない1つ以上のフィルム領域に形成されることができる。
【0023】
前記導電層は銀又は銅を含むことができる。
【0024】
前記電磁波遮蔽膜は、メッシュ部を含むことができる。
【0025】
本発明の実施の形態に係るディスプレイ用フィルタは、近赤外線遮蔽膜をさらに含むことができる。
【0026】
本発明の実施の形態に係るディスプレイ用フィルタは、色補正膜をさらに含むことができる。
【0027】
本発明の実施の形態に係るディスプレイ用フィルタは、近赤外線遮蔽/色補正膜をさらに含むことができる。
【0028】
前記貫通穴の直径は1mm以上5mm以下であり得る。
【0029】
前記貫通穴の長さは前記導電層の長さ以下であり得る。
【0030】
本発明の実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置は、プラズマディスプレイパネルと、電磁波遮蔽膜、該電磁波遮蔽膜に接触する1つ以上のフィルム、及び前記1つ以上のフィルムに形成された貫通穴に充填された導電層を含み、前記プラズマディスプレイパネル上に形成されたディスプレイ用フィルタと、前記導電層と接続する接地部材とを含むことができる。
【0031】
前記接地部材はフィンガースプリングであり得る。
【0032】
前記接地部材は異方性導電フィルム又は導電性接着剤であり得る。
【0033】
前記ディスプレイ用フィルタは反射防止膜をさらに含むことができる。
【0034】
前記貫通穴は前記反射防止膜と重ならない1つ以上のフィルム領域に形成されることができる。
【0035】
前記貫通穴の直径は1mm以上5mm以下であり得る。
【0036】
本発明の他の実施の形態に係るディスプレイ用フィルタは、電磁波遮蔽膜と、前記電磁波遮蔽膜に接触し、貫通穴が形成された1つ以上のフィルムとを含む。
【0037】
前記貫通穴の直径は1mm以上5mm以下であり得る。
【0038】
以下、本発明の好ましい具体的な実施の形態を、添付図面に基づき詳細に説明する。
【0039】
図1は、本発明の第1の実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置を示す図である。同図に示すように、本発明の実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置は、ディスプレイ用フィルタ100及びプラズマディスプレイパネル200を含む。ディプレイ用フィルタ100は、プラズマディスプレイパネル200の前面(または上面)に配置される。本発明の実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置のディスプレイ用フィルタ100は、フィルムフィルタである。
【0040】
ディスプレイ用フィルタ100は、電磁波遮蔽膜110、電磁波遮蔽膜110に接触する1つ以上のフィルム120、1つ以上のフィルム120に形成された貫通穴150に充填された導電層130、及び1つ以上のフィルム120上に形成された反射防止膜140を含む。同図では、1つのフィルム120に導電層130が形成されるが、複数のものが積層されたフィルムに導電層130が形成されることもできる。貫通穴150は、1つ以上のフィルム120の上面から下面まで貫通されている。
【0041】
1つ以上のフィルム120は、光が透過できる材質からなる。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルスルフォン、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリイミド、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、ポリウレタン、ポリテトラフルオロエチレンなどのフッ素系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル化合物、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸又はこれらの共重合体などがフィルム120として用いられることができる。
【0042】
1つ以上のフィルム120の厚さは、75μm以上150μm以下であり得る。複数のフィルムが積層される場合、積層されたフィルムの全体厚が75μm以上150μm以下であり得る。1つ以上のフィルム120の厚さが、75μm以上150μm以下であると、ディスプレイ用フィルム100は、プラズマディスプレイパネル200上に形成されることができる程度の強度と共に、可撓性を有する。
【0043】
電磁波遮蔽膜110は、銀又は銅などの導電性の高い金属を含むことができる。電磁波遮蔽膜110は、メッシュタイプ遮蔽膜又は導電膜タイプ遮蔽膜であり得る。メッシュタイプ遮蔽膜は、導電性メッシュが形成されたメッシュ部111、及びメッシュ部111の外郭領域を取り囲むように形成される金属フレーム113を含む。メッシュタイプ遮蔽膜の金属フレーム113は、メッシュ部111の外郭領域を取り囲むことによりメッシュ部111を支持する。金属フレーム113は、貫通穴150に充填された導電層130と電気的に接続される。メッシュ部111は、プラズマディスプレイパネル200から放出される光の透過率を確保し、電磁波を吸収する。電磁波遮蔽膜110は、メッシュ部のみを含むことができ、この場合、メッシュ部の導電性メッシュが導電層130と接触することができる。
【0044】
電磁波遮蔽膜110は、スパッタリング法、電解メッキ法、無電解メッキ法などにより形成されることができる。無電解メッキ法により銅層を形成するためには、フィルム115に金属の結晶成長を促進する触媒金属を付着する工程と、銅塩、還元剤、着火剤、pH調節剤、pH緩衝剤及び改良剤を含むメッキ溶液にフィルムを浸漬する工程が含まれる。
【0045】
触媒金属は、銀又はパラジウムなどの金属を含む。銅塩は、フィルムに銅イオンを供給する機能を果たす。例えば、銅塩は、銀銅塩化物、窒酸塩、硫酸塩化合物を含むことができる。還元剤は、フィルム上の金属イオンを還元する機能を果たす。還元剤は、NaBH、KBH、ヒドラジン、ホルマリン又はブドウ糖のような多糖類化合物を含む。着火剤は、アルカリ性溶液における水酸化物の沈殿を防止し、遊離した金属イオンの濃度を調節することにより、金属塩の分解防止及びメッキ速度を調節する機能を果たす。着火剤は、アンモニア溶液、酢酸、グアニン酸、酒石酸塩、EDTAなどのキレート剤又は、有機アミン化合物を含む。pH調節剤は、メッキ液のpHを調節する機能を果たす。pH調節剤は、酸又は塩基化合物を含む。pH緩衝剤は、メッキ液のpH変動を抑制し、各種有機酸、弱酸性の無機化合物を含む。改良剤は、コーティング特性及び平坦化特性を改善させる。改良剤は、界面活性剤又は結晶成長に妨害となる成分を吸着することができる吸着性物質を含む。
【0046】
無電解メッキ法を利用して、銀層を形成するためには、銀塩、還元剤、着火剤、pH調節剤、pH緩衝剤及び改良剤を含むメッキ溶液にフィルム115を浸漬して形成する。メッキ溶液の成分及び成分の機能は、上述したものと同じである。
【0047】
フィルムの全面に金属層が形成されると、フォトリソグラフィ(Photo Lithography)工程により、金属層に導電性メッシュのフォトレジスタパターンが形成され、フォトレジストパターンをマスクとして金属層がエッチングされることにより、メッシュ部111と金属フレーム113が形成される。
【0048】
メッシュ部111は、交差構造の導電性メッシュ111aを含み、導電性メッシュ111aにより、可視光透過のためにバイアス角度(Bias Angle)に傾いたホールが形成される。バイアス角度は、プラズマディスプレイパネルの解像度により変わることができる。
【0049】
図1の反射防止膜140は、可視領域において屈折率が1.5以下であり得る。例えば、反射防止膜140は、屈折率が1.4以下であり、単一層であるフッ素系透明高分子樹脂、シリコン系樹脂、酸化シリコン薄膜などで形成されることができる。また、反射防止膜140は、高屈折率層と低屈折率層の積層により形成されることもできる。高屈折率層と低屈折率層は、それぞれ金属酸化物、弗化物、硅化物、硼化物、炭化物、窒化物、硫化物などの無機化合物又はシリコン系樹脂、アクリル樹脂などの有機化合物を含む。
【0050】
単層の反射防止膜は製造が容易であり、複層の反射防止膜は反射防止性が優れており、広い波長領域にわたって反射防止能力を有し、フィルムの光学特性による光学設計の制限をあまり受けない。反射防止膜140の可視光線の反射率は、2%であり得る。
【0051】
反射防止膜140は外部に露出されるため、ハードコーティング膜を含むことができる。ハードコーティング膜は、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、フッ素系樹脂などの熱硬化型又は光硬化型樹脂により形成されることができる。
【0052】
反射防止膜140は、外部の可視光線がプラズマディスプレイパネル200の表面から反射して眩しい現象が発生するのを防止することにより、プラズマディスプレイパネル200のコントラスト及び色純度を向上させる。
【0053】
図2は、本発明の実施の形態に係るディスプレイ用フィルタの平面図であり、図3は、本発明の実施の形態に係るディスプレイ用フィルタの断面図である。1つ以上のフィルム120に形成された貫通穴150は、電磁波遮蔽膜110と接地部材(図示せず)とを電気的に接続する導電層が充填される空間である。貫通穴150の直径は、1mm以上5mm以下であり得る。貫通穴150の直径は、1mm以上5mm以下であれば、導電層の充填が容易、かつ、電磁波遮蔽膜110の形成に邪魔にならない。図2及び図3に示すように、貫通穴150が形成される領域は、フィルム120のエッジ、すなわち反射防止膜140が形成されないフィルム120の一部領域に形成されることができる。これに伴い、図1に示すように、貫通穴150の長さ(深さ)L1は、導電層130の長さ(膜厚)L2以下であり得る。言い換えれば、導電膜130の膜厚L2は、貫通穴150の深さL1以上であり得る。
【0054】
図1に示すように、貫通穴150に充填される導電層130は、銀又は銅を含むことができる。導電層130を介した安定した接地のために、導電層130は、図3の貫通穴150の内部のみならず、貫通穴150の外部、すなわちフィルム120の上面にも形成されることができる。導電層130の充填は、金属ペーストを塗布する方法又はメッキ法が用いられることができる。
【0055】
図4は、本発明の第2の実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置を示す図である。同図に示すように、貫通穴150に導電層130を充填する前に、成長核160が貫通穴150の内部に形成される。
【0056】
電磁波遮蔽膜110が形成される前に貫通穴150が予め形成される場合、スクリーンプリントなどの方法により、成長核160が電磁波遮蔽膜110上に形成され、電磁波遮蔽膜110とフィルム120とが結合される過程において、成長核160が貫通穴150の内部の一部に充填される。貫通穴150の内部の一部に成長核160が充填されると、メッキ法による導電層130を形成する際、成長核160により導電層130が早く充填され得る。
【0057】
図5は、本発明の第3の実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置を示す図である。同図に示すように、本発明の第3の実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置は、近赤外線遮蔽膜170又は色補正膜180のうちの少なくとも1つ以上をさらに含むことができる。
【0058】
近赤外線遮蔽膜170は、プラズマディスプレイパネル200から発生した800nm〜1000nm帯域の近赤外線を吸収することによって、プラズマディスプレイ装置のリモートコントローラーなどから発生する制御用赤外線が近赤外線の妨害なしでプラズマディスプレイ装置に含まれた赤外線受信部(図示せず)に正常に入力され得るようにする。
【0059】
色補正膜180は、色調節染料を含んで色調を調節することによって、プラズマディスプレイ装置の色純度を向上させる。色補正膜は、近赤外線遮蔽膜が色補正機能を果たす場合、省略することができる。
【0060】
同図に示す反射防止膜140、近赤外線遮蔽膜170及び色補正膜180の積層順序は変更可能である。例えば、電磁波遮蔽膜110下に反射防止膜140の形成が可能である。また、電磁波遮蔽膜110、色補正膜180及び近赤外線遮蔽膜170の順に積層可能である。
【0061】
図6は、本発明の第1の実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置におけるディスプレイ用フィルタと接地部材とを示した図である。同図に示すように、接地部材190は、導電層130とプラズマディスプレイ装置のケース195とを電気的に接続する。接地部材190は、フィンガースプリングを含むことができる。同図に示す接地部材190は、フィンガースプリング、又はフィンガースプリングの代りに異方性導電フィルム若しくは導電性接着剤を含むこともできる。
【0062】
図7は、本発明の第4の実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置を示したのである。図1に示す貫通穴150は、反射防止膜140とは別に備えられた1つ以上のフィルム120に形成されたが、図7に示すように、本発明の第4の実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置は、貫通穴150が形成された反射防止膜140を含む。すなわち、本発明の第4の実施の形態では、貫通穴150が反射防止膜140に形成され、貫通穴150の内部に導電層130が充填される。導電層130は、電磁波遮蔽膜110と接触する。
【0063】
本発明は、貫通穴150に導電層を形成することによって、簡単な接地構造を提供することができる。
【0064】
上述した本発明の好ましい実施の形態は、例示の目的のために開示されたものであり、本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で、様々な置換、変形、及び変更が可能であり、このような置換、変更などは、特許請求の範囲に属するものである。
【図面の簡単な説明】
【0065】
【図1】本発明の第1の実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置を示す図である。
【図2】本発明の実施の形態に係るディスプレイ用フィルタの平面図である。
【図3】本発明の実施の形態に係るディスプレイ用フィルタの断面図である。
【図4】本発明の第2の実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置を示す図である。
【図5】本発明の第3の実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置を示す図である。
【図6】本発明の第1の実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置におけるディスプレイ用フィルタと接地部材とを示す図である。
【図7】本発明の第4の実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置を示す図である。




 

 


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