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番号 発明の名称
1 フラッシュランプ装置
2 極端紫外光光源装置
3 多波長発振狭帯域レーザ装置
4 極端紫外光光源装置
5 紫外線照射装置および光照射方法
6 放電ランプ
7 光照射装置
8 狭帯域化レーザ装置
9 光照射式加熱装置および光照射式加熱方法
10 加熱ユニット
11 高圧放電ランプ用給電装置
12 レーザ装置
13 極端紫外光光源装置および極端紫外光源における堆積物除去方法
14 光加熱装置
15 紫外線照射装置
16 2ステージ狭帯域化レーザ装置
17 フラッシュ発光装置およびフラッシュランプ
18 管型フィラメントランプ、および加熱処理装置
19 極端紫外光発生装置
20 紫外線ランプ
21 フラッシュランプ
22 放電ランプ点灯装置
23 外部電極型放電ランプ、およびそのランプ装置
24 マイクロ波放電ランプおよび当該マイクロ波放電ランプを備えたマイクロ波放電光源装置
25 放電ランプ点灯装置
26 エキシマランプ及び紫外線照射装置
27 光照射式加熱方法
28 ハロゲンランプ
29 超高圧水銀ランプ
30 放電励起式パルス発振ガスレーザ装置
31 フラッシュランプ装置
32 フラッシュランプ点灯装置
33 放電ランプ点灯装置
34 ショートアーク型放電ランプ
35 光照射装置
36 フラッシュランプ
37 エキシマランプ及びエキシマランプを搭載した紫外線照射装置
38 希ガス蛍光ランプ
39 希ガス蛍光ランプ及び蛍光体層の形成方法
40 極端紫外光光源装置
41 超高圧水銀ランプ
42 ショートアーク型水銀ランプ
43 極端紫外光光源装置
44 希ガス蛍光ランプ及び光源装置
45 極端紫外光光源装置
46 放電ランプ点灯装置
47 放電ランプ点灯装置
48 放電ランプ
49 フィラメントランプ及びフィラメントランプを備えた光照射式加熱処理装置
50 フィラメントランプ
51 光照射装置
52 光照射式加熱装置
53 光照射装置
54 レジスト硬化装置
55 光源装置
56 半導体装置用基材およびその製造方法
57 紫外線光源装置
58 放電ランプ点灯回路
59 極端紫外光光源装置
60 エキシマランプ
61 エキシマランプ
62 放電ランプ点灯装置およびプロジェクタ
63 半導体ウエハ急速加熱装置
64 放電ランプ
65 フィラメントランプ
66 極端紫外光光源装置
67 表示装置用光源装置及び希ガス蛍光ランプ
68 エキシマランプ
69 超高圧水銀ランプ
70 レーザ装置
71 放電ランプ点灯装置およびプロジェクタ
72 箔シールランプ
73 極端紫外光光源装置および極端紫外光光源装置における集光光学手段の汚染抑制方法
74 平面板の保持体
75 レーザ装置
76 レーザ装置
77 加熱装置
78 放電ランプ
79 放電ランプおよびその製造方法
80 放電ランプ点灯装置
81 露光用2ステージエキシマレーザ装置
82 近接場光露光装置および近接場光露光用フォトマスク
83 ガスレーザ用予備電離電極
84 ショートアーク型水銀ランプ
85 希ガス放電ランプ点灯装置
86 ガスレーザ装置の電源回路

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