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番号 発明の名称
1 リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
2 リソグラフィ装置の予備位置合わせ基板、デバイス製造方法、およびその製造方法で製造したデバイス
3 リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
4 リソグラフィ装置、投影装置及びデバイス製造方法
5 リソグラフィ装置および汚染を軽減するために清浄空気の移動を利用するデバイス製造方法
6 マスクをアースに電気的に接続するためのシステム、マスク
7 リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
8 リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
9 リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
10 リソグラフィ装置及びリソグラフィ方法
11 リソグラフィ装置、放射線ビーム検査デバイス、放射線ビームの検査方法およびデバイス製造方法
12 リソグラフィ装置の浸漬による損害の抑制
13 マスクレス・リソグラフィのリアルタイム・パターン・ラスタ化のための、コンピュータ的に結合されたミラーを使用して最適フィーチャ表現を達成する方法及びシステム
14 リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
15 レチクル予備位置合わせセンサ用一体照明システムがあるエンドエフェクタ
16 リソグラフィ装置、放射システム、及びデバイス製造方法
17 リソグラフィ装置の基板整列
18 焦点決定方法、デバイス製造方法、及びマスク
19 測定方法及び較正基板
20 放射線源、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
21 システムの状態および性能を監視し、診断するシステムおよび方法
22 基板の歪み測定
23 リソグラフィ装置、汚染物質トラップ、およびデバイス製造方法
24 リソグラフィ装置又はその一部を較正又は検定する方法及びデバイス製造方法
25 リソグラフィ装置の偏光放射線およびデバイス製造方法
26 リソグラフィ装置における格子変形の処理レシピを修正するための格子モデルの選択方法及び該方法を使用したリソグラフィ・アセンブリ
27 リソグラフィ装置、デバイス製造方法、および、この方法により製造されて焦点深さの増したデバイス
28 ステージ装置、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
29 基板、リソグラフィ多重露光法、機械読み取り可能媒体
30 リソグラフィ装置、照射システム、照射制御装置及び制御方法
31 リソグラフィ装置のレベルセンサ
32 印写リソグラフィ
33 基板歪測定
34 リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
35 位置合わせ、および位置合わせマーク
36 基板ホルダおよびデバイス製造方法
37 位置合わせ測定機構及び位置合わせ測定方法
38 リソグラフィー装置およびデバイス製造方法
39 実質的に透過性のプロセス層に整列マークを備える基板、上記マークを露出するためのマスク、デバイス製造方法、およびそれによって製造したデバイス
40 照明プロファイルを決定する方法及びデバイス製造方法
41 リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
42 リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
43 リソグラフィ方法
44 リソグラフィ装置、及び機構
45 露光装置、パーティクル検査システム、パーティクル検査方法、及びデバイス製造方法
46 照明ビーム測定
47 リソグラフィ装置及びデバイス製造装置の内部空間調整方法
48 放電発生器を備えたリソグラフィ装置及びリソグラフィ装置の素子を洗浄する方法
49 リソグラフィ装置およびデバイス製造法
50 露光装置または基板の熱膨張を補償するためのシステム及び方法
51 リソグラフィ装置及び制御方法
52 マイクロデバイスへの接続
53 光学要素上の堆積物の装置外での除去
54 リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
55 リソグラフィ投影装置、デバイス製造方法、およびデバイス製造方法で使用するマスク
56 基板の熱的に引き起こされる変形を予測する方法及び設備、並びに半導体デバイス
57 リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
58 リソグラフィ基板をオーバーレイするポジ型レジストレイヤをパターニングする方法
59 放射で誘発された熱歪みを補償するシステムおよび方法
60 リソグラフィ装置及びマスクレス・リソグラフィにおける倍率及び位置の動的修正を利用したデバイス製造方法
61 リソグラフィ装置
62 リソグラフィ装置、デバイス製造方法、および照射コレクタの使用
63 リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
64 リソグラフィ装置
65 リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
66 インプリントリソグラフィ
67 電磁放射線源、リソグラフィ装置、デバイス製造方法、および該製造方法によって製造されたデバイス
68 リソグラフィ投影装置、支持アセンブリ、およびデバイス製造方法
69 アライメントマークとしての2元正弦サブ波長回折格子
70 露光装置及びデバイス製造方法
71 リソグラフィ投影装置
72 ガスシャワー、リソグラフィ装置、及びガスシャワーの使用方法
73 リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
74 光学システム、リソグラフィ装置および投影方法
75 液浸型投影装置の汚染を防止または低減する方法および液浸型リソグラフィ装置
76 リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
77 リソグラフィ装置のためのラジカルクリーニング構成
78 リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
79 リソグラフィック装置及びデバイス製造方法
80 リソグラフィ装置および方法
81 放射システムおよびリソグラフィ装置
82 汚染を検出するためのモニタデバイスを有するリソグラフィ装置
83 インプリントリソグラフィ
84 デバイス製造方法およびコンピュータプログラム製品
85 リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
86 圧力シールドを組み入れたリソグラフィ装置およびデバイス製造方法
87 リソグラフィ装置、リソグラフィ装置のレチクルマスキングデバイス、気体軸受け、およびこのような気体軸受けを有する装置
88 リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
89 清浄中にコレクタを通る流れの制御
90 リソグラフィ装置、デバイス製造方法およびリソグラフィ装置の較正方法
91 リソグラフィ装置、パターニングデバイスおよびデバイス製造方法
92 パターンアライメント方法およびリソグラフィ装置
93 リソグラフィ装置および方法
94 リトグラフィー投影装置の較正方法
95 露光装置および基板端部シール
96 露光装置および露光方法
97 多数のミラーからなるコントラストデバイスにレーザトリミングを用いる露光装置及びデバイス製造方法
98 リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
99 リソグラフィ装置モジュールを浄化するための方法、リソグラフィ装置モジュールのための浄化構造および浄化構造を備えたリソグラフィ装置
100 リソグラフィ装置およびデバイス製造方法

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