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番号 発明の名称
1 マスク基板収納カセットおよびマスク基板の描画搬送ライン
2 プラズマ処理装置
3 帯電低減装置、露光装置、測定装置およびデバイス製造方法
4 荷電粒子線装置
5 半導体検査装置
6 試料作製・観察方法及び荷電粒子ビーム装置
7 プローブ付き顕微鏡及びプローブ接触方法
8 荷電ビーム装置及びそのビーム軸の軸合わせ方法
9 小型電子銃
10 アライメント用光学系
11 荷電ビームレンズ、及び荷電ビーム露光装置
12 荷電粒子線装置、レンズパワー調整方法、及びデバイス製造方法
13 静電レンズ装置、露光装置、及びデバイス製造方法
14 電子ビーム装置及び電子ビーム露光装置
15 配線基板、配線基板製造方法、及び荷電粒子線露光装置
16 試料保持装置、および電子線描画装置
17 偏向器、荷電粒子線露光装置及びデバイス製造方法
18 電子ビーム装置及びデバイス製造方法
19 荷電粒子線装置
20 荷電粒子線露光装置およびデバイス製造方法
21 電子ビーム装置およびデバイス製造方法
22 電子ビーム装置およびデバイス製造方法
23 偏向器、荷電粒子線露光装置およびデバイス製造方法
24 電子線露光装置およびデバイス製造方法
25 偏向器、荷電ビーム露光装置およびデバイス製造方法
26 顕微鏡を用いた欠陥観察方法および観察装置
27 半導体外観検査装置、及び半導体外観検査装置の画像処理装置
28 電子線描画装置
29 検査データ解析システムと検査データ解析プログラム
30 プラズマ処理装置
31 プラズマエッチング装置および微粒子除去方法
32 プラズマ処理装置
33 プラズマ処理装置
34 プラズマ処理装置
35 プラズマ処理装置および処理方法
36 回路パターン製造装置
37 半導体装置の製造方法
38 プラズマ処理装置
39 プラズマ処理装置
40 電子顕微鏡
41 真空搬送装置およびこれを備えた荷電粒子線検査装置
42 ナノインプリントパターン形成用金型およびナノレベルのパターンを有する部材の製造方法
43 プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
44 ウェハ表面検査装置及びウェハ表面検査方法
45 電子線による検査・計測方法および検査・計測装置
46 半導体集積回路装置の製造方法
47 走査電子顕微鏡
48 画像形成方法、及び荷電粒子線装置
49 試料観察方法、及び荷電粒子線装置
50 エッチング方法,エッチング装置及び半導体装置
51 真空処理装置
52 真空処理装置
53 回路パターン検査方法及びその装置
54 回路パターンの検査装置
55 回路パターン製造装置
56 走査型電子顕微鏡、及び走査型電子顕微鏡のフォーカス制御方法
57 走査電子顕微鏡
58 半導体製造装置
59 プラズマ処理装置
60 プラズマ処理装置および処理方法
61 電子顕微鏡装置および同装置における試料ステージの位置決め制御方法
62 電子線装置およびその制御方法
63 荷電粒子線装置の試料移動装置
64 走査型電子顕微鏡および画像信号処理方法
65 荷電粒子線装置
66 電子線計測装置の静電偏向制御回路および静電偏向制御方法
67 エッチング方法、エッチング装置及び半導体装置の製造方法
68 ドライエッチング方法
69 プラズマ処理方法および装置
70 プラズマ処理方法及び処理装置
71 プラズマエッチング装置およびプラズマエッチング方法
72 プラズマ処理装置および処理方法
73 電子ビーム検出器、電子ビーム計測方法、及び電子ビーム描画装置
74 電界放出型電子銃およびそれを用いた電子ビーム装置
75 荷電粒子線装置及び荷電粒子線照射方法
76 静電吸着装置およびウエハ処理装置ならびにプラズマ処理方法
77 パターン欠陥検査方法及び検査装置
78 真空処理装置
79 プラズマ処理装置用電極
80 エッチング方法および処理装置
81 プラズマ処理方法および装置
82 パターン検査方法
83 電子ビーム描画装置及び電子ビーム描画方法
84 エッチング方法およびエッチング装置
85 荷電粒子ビーム応用装置
86 集束イオンビーム装置及び集束イオンビーム装置の加工位置設定方法
87 荷電粒子線装置
88 プラズマ処理装置
89 基板裏面のドライ洗浄方法とその装置
90 プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置の制御方法
91 露光量補正方法および電子線露光装置
92 半導体検査装置及び半導体検査方法
93 走査電子顕微鏡装置における機差管理システムおよびその方法
94 ドライエッチング方法
95 誘電体膜の固有抵抗管理方法
96 真空処理方法または真空処理装置
97 帯電制御装置及び帯電制御装置を備えた荷電粒子線応用装置
98 半導体デバイス製造プロセスモニタ装置および方法並びにパターンの断面形状推定方法及びその装置
99 欠陥データ処理及びレビュー装置
100 集束イオンビーム装置及び試料処理方法

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