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番号 発明の名称
1 露光装置及びデバイス製造方法
2 投影光学系の検査装置、及び投影光学系の製造方法
3 荷電粒子線露光装置
4 露光装置及びデバイス製造方法
5 進捗状況表示方法、表示プログラム、及び表示装置、並びにデバイス製造方法
6 重ね合わせ測定装置
7 支持装置、ステージ装置及び露光装置
8 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
9 光学材料、光学部材、光学系、露光装置、および露光方法
10 推定方法、露光方法、デバイス製造方法及びデバイス、検査方法、デバイス製造装置、並びにプログラム
11 基板保持方法、位置計測方法、基板保持装置、露光装置、デバイス製造方法
12 投影露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
13 ウエハ研磨方法及びウエハ研磨装置
14 荷電粒子線光学系
15 撮影用照明装置、およびカメラシステム
16 荷電粒子線露光装置における露光方法
17 荷電粒子線光学系における照明一様性の調整方法
18 シリコンウエハの観察装置
19 位置計測装置の反射部材構造及びステージ装置並びに露光装置
20 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法
21 露光装置及び露光方法、メンテナンス方法、デバイス製造方法
22 電池室構造およびカメラ
23 光源用高ピークパワー出力光増幅器、レーザ装置、加工装置、及び検査装置
24 最適化方法及び表示方法
25 反射光学系、照明光学装置及び露光装置
26 照明光学装置、露光装置、および露光方法
27 露光方法及び装置、並びに電子デバイス製造方法
28 露光方法及び装置、並びに電子デバイス製造方法
29 気体供給装置、露光装置及びデバイスの製造方法
30 投影光学系、露光装置、およびデバイスの製造方法
31 投影光学系、露光装置、およびデバイスの製造方法
32 撮像装置
33 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
34 光学装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法
35 基板ホルダおよび露光装置
36 照明光学装置、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
37 計測装置、投影露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
38 メンテナンス方法、露光方法、露光装置及びデバイス製造方法
39 ウェハ搬送装置、ウェハ積層体搬送装置及び積層型半導体装置製造方法
40 固体撮像装置
41 搬送装置、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
42 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
43 露光装置及びデバイス製造方法
44 情報表示システム
45 ステージ装置及び露光装置
46 観察光学系の検査装置、観察光学系の検査方法、位置検出装置、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
47 位置検出装置、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
48 液浸露光用基板、露光方法及びデバイス製造方法
49 面位置検出装置、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
50 面位置検出装置、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
51 位置検出装置、アライメント装置、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
52 照明光学装置、露光装置、およびデバイスの製造方法
53 照明光学装置、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
54 ステージ装置および露光装置
55 照明光学装置の調整方法、照明光学装置、露光装置、およびデバイスの製造方法
56 露光方法及び装置、並びに電子デバイス製造方法
57 ステージ制御方法及び装置、ステージ制御プログラム、露光装置、並びにデバイス製造方法
58 ステージ装置及び露光装置
59 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
60 電子銃及び電子線露光装置
61 電子銃及び電子線露光装置。
62 露光装置及びデバイス製造方法
63 波面収差測定装置、投影露光装置、及び投影光学系の製造方法
64 照明光学装置、露光装置、露光方法、およびマイクロデバイスの製造方法
65 照明光学装置、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
66 露光装置及びデバイス製造方法
67 投影光学系、露光装置、および露光方法
68 レーザ光源の調整方法及びレーザ装置
69 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
70 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
71 光量計測装置、露光装置、およびデバイスの製造方法
72 照明光源装置、露光装置及び露光方法
73 制御システム及び露光装置
74 固体撮像装置
75 ステージ装置および露光装置
76 ステージ装置の制御方法、露光装置及びデバイスの製造方法
77 観察装置、計測装置、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法、デバイス製造用基板、位置決め装置
78 多層膜反射鏡及びEUV露光装置
79 収差測定用基板、露光装置および露光装置の製造方法
80 露光装置、及びデバイス製造方法
81 露光装置
82 位置合わせ方法、重ね合わせ精度計測方法、露光方法、位置合わせ装置、露光装置、及び重ね合わせ精度計測装置
83 露光装置及びデバイス製造方法
84 露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
85 ウェハ搬送装置、ウェハ積層体搬送装置及び積層型半導体装置製造方法
86 撮像素子、焦点検出装置、および、撮像システム
87 パターン転写方法及びパターン転写装置
88 現像装置及び露光装置
89 オブジェクトデータのデータ構造、情報処理方法、基板処理方法及び装置、表示方法、並びにプログラム
90 ステージ装置および露光装置
91 対物光学系、収差測定装置、および露光装置
92 ミラー取付構造、投影光学系および露光装置
93 投影光学系、投影露光装置、及び露光方法
94 露光装置及びデバイス製造方法、並びに観察装置
95 露光方法及び露光装置
96 露光システム、露光方法、及びデバイス製造工場
97 固体撮像素子
98 マーク位置計測装置、マーク位置計測方法、露光装置、及び露光方法
99 マスク搬送装置、マスク搬送方法、及び露光方法
100 露光装置及び露光システム並びにデバイス製造方法

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