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番号 発明の名称
801 強誘電体キャパシタおよび半導体装置
802 半導体基板処理装置及び半導体装置の製造方法
803 最適フォーカス位置検出方法及び半導体装置の製造方法
804 原子周波数取得装置および原子時計
805 光源装置およびプロジェクタ
806 半導体集積回路及びその設計方法
807 圧電素子の製造方法及び液体噴射ヘッドの製造方法
808 圧電素子の製造方法及び液体噴射ヘッドの製造方法
809 積層電極の製造方法、アクチュエータ装置及びその製造方法、並びに液体噴射ヘッド
810 圧電素子の製造方法及びアクチュエータ装置並びに液体噴射ヘッド
811 有機強誘電体キャパシタの製造方法、有機強誘電体キャパシタ、有機強誘電体メモリ、および電子機器
812 高周波モジュール及びその製造方法
813 集積回路装置及び電子機器
814 半導体装置および半導体装置の製造方法
815 面発光型の半導体発光装置およびその製造方法
816 成膜装置
817 表面処理装置
818 集積回路装置
819 集積回路装置
820 集積回路装置
821 半導体装置の製造方法及び半導体装置
822 半導体装置及びその製造方法
823 半導体チップ及びその製造方法
824 半導体装置の製造方法、電子機器の製造方法、半導体装置および電子機器
825 半導体基板の製造方法、半導体装置の製造方法、および半導体装置
826 半導体集積回路及びその設計方法
827 シャワーヘッド、シャワーヘッドを含む成膜装置、ならびに強誘電体膜の製造方法
828 半導体装置およびその製造方法
829 セラミックス膜の製造方法およびセラミックス膜製造装置
830 電子部品、電子部品の製造方法、回路基板及び電子機器
831 半導体装置、半導体装置の製造方法及び電子機器
832 半導体装置の製造方法、半導体装置及び電子機器
833 有機半導体装置、電子デバイスおよび電子機器
834 アクチュエータ装置の製造方法及び液体噴射装置
835 電子素子とその製造方法、回路基板及び半導体装置並びに電子機器
836 半導体装置、半導体装置の製造方法、及び電子機器
837 パターンの形成方法、及び液滴吐出ヘッド
838 LED駆動装置
839 電子デバイス、電子デバイスの製造方法および電子機器
840 有機半導体層用組成物、薄膜トランジスタの製造方法、アクティブマトリクス装置の製造方法、電気光学装置の製造方法および電子機器の製造方法
841 薄膜トランジスタ、電子回路、表示装置および電子機器
842 半導体装置の製造方法
843 水晶振動子の製造方法
844 電圧生成回路、レギュレータ回路及び集積回路装置
845 水晶発振器及びその製造方法
846 発光装置および画像印刷装置
847 プラズマ処理装置
848 膜状部材の製造方法及び電気光学装置の製造方法
849 照明装置及びその駆動方法、液晶装置および電子機器
850 半導体装置及びその製造方法、合わせ検査マーク
851 配線形成方法、薄膜トランジスタの製造方法及びデバイス製造方法並びに電子機器
852 発光装置、電子機器
853 圧電体積層体、表面弾性波素子、薄膜圧電共振子および圧電アクチュエータ
854 半導体装置および半導体装置の製造方法
855 電子部品、電子部品素材および電子部品の製造方法
856 電子部品、電子部品素材および電子部品の製造方法
857 MEMS振動子
858 MEMS振動子
859 バルク音波共振器
860 インピーダンス変換方法および共平面多層インピーダンス変換器
861 圧電デバイスおよび圧電デバイスの製造方法
862 発光装置および電子機器
863 エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、エレクトロルミネッセンス装置、電子機器
864 マスクの再生方法
865 発光装置および電子機器
866 発光装置の製造方法
867 発光装置、発光装置の製造方法および電子機器
868 トランス
869 半導体装置の製造方法
870 面発光型半導体レーザ
871 面発光型半導体レーザ
872 配線基板とその製造方法及び半導体装置並びに電子機器
873 配線基板の接続方法及び配線基板接続装置並びに実装構造体及び電子機器
874 配線基板の接続方法及び配線基板接続装置並びに実装構造体及び電子機器
875 半導体装置の製造方法、半導体装置、集積回路、電気光学装置、電子機器
876 半導体装置の製造方法、半導体装置、集積回路、電気光学装置、電子機器
877 デバイスとその製造方法、配線形成方法及び電気光学装置並びに電子機器
878 光素子およびその製造方法
879 半導体装置および半導体装置の製造方法
880 薄膜半導体装置及び表示システム
881 圧電体素子の製造方法
882 バラン
883 演算増幅回路、駆動回路、電気光学装置及び電子機器
884 光電変換層形成用組成物の製造方法、光電変換層形成用組成物、光電変換素子の製造方法、光電変換素子および電子機器
885 エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、エレクトロルミネッセンス装置、電子機器
886 電池アダプター
887 導体パターン用インク、導体パターン、配線基板及び電気光学装置並びに電子機器
888 導体パターン用インク、導体パターン、配線基板及び電気光学装置並びに電子機器
889 半導体装置
890 半導体装置、半導体装置の製造方法および電子機器
891 半導体装置および半導体装置の製造方法
892 半導体装置および半導体装置の製造方法
893 半導体装置の製造方法
894 シリコンデバイスの製造方法及び液体噴射ヘッドの製造方法
895 露光処理方法及び、半導体装置の製造方法
896 半導体装置および半導体装置の製造方法
897 基板加工装置及び基板加工方法
898 レジスト現像方法及び半導体装置の製造方法
899 半導体基板の製造方法及び半導体装置の製造方法、半導体装置
900 半導体装置および半導体装置の製造方法

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