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発明の名称 半導体装置及びその製造方法
発行国 日本国特許庁(JP)
公報種別 公開特許公報(A)
公開番号 特開2007−12813(P2007−12813A)
公開日 平成19年1月18日(2007.1.18)
出願番号 特願2005−190448(P2005−190448)
出願日 平成17年6月29日(2005.6.29)
代理人 【識別番号】100090387
【弁理士】
【氏名又は名称】布施 行夫
発明者 田中 秀一 / 今井 英生
要約 課題
信頼性の高い半導体装置及びその製造方法を提供する。

解決手段
半導体装置は、電極14を有する半導体基板10と、半導体基板10上に形成された樹脂突起20と、電極14と電気的に接続されてなり、樹脂突起20上に至るように形成された配線30とを含む。配線30は、樹脂突起20の上端面に形成された第1の部分31と、樹脂突起20の基端部の側方に形成された第2の部分32とを含む。第2の部分32は、第1の部分31よりも幅が狭い。
特許請求の範囲
【請求項1】
電極を有する半導体基板と、
前記半導体基板上に形成された樹脂突起と、
前記電極と電気的に接続されてなり、前記樹脂突起上に至るように形成された配線と、
を含み、
前記配線は、前記樹脂突起の上端面に形成された第1の部分と、前記樹脂突起の基端部の側方に形成された第2の部分とを含み、
前記第2の部分は、前記第1の部分よりも幅が狭い半導体装置。
【請求項2】
請求項1記載の半導体装置において、
前記配線は、前記第2の部分に延設された延設部と、前記延設部と前記電極とをつなぐ導電部とを含み、
前記延設部は前記導電部よりも幅が狭い半導体装置。
【請求項3】
請求項2記載の半導体装置において、
前記延設部は、前記第2の部分と同じ幅をなす半導体装置。
【請求項4】
請求項1記載の半導体装置において、
前記配線のうち、前記半導体基板上に形成された部分は、前記第2の部分と同じ幅をなす半導体装置。
【請求項5】
請求項1から請求項4のいずれかに記載の半導体装置において、
前記配線の前記第2の部分は、前記樹脂突起に固定されていない半導体装置。
【請求項6】
電極を有する半導体基板を用意する工程と、
前記半導体基板上に樹脂突起を形成する工程と、
前記電極と電気的に接続されてなり、前記樹脂突起の上端面に形成された第1の部分と、前記樹脂突起の基端面に形成された、前記第1の部分よりも幅が狭い第2の部分とを有する配線を形成する工程と、
前記樹脂突起の前記基端面における前記第2の部分と接触する部分の少なくとも一部を除去する工程と、
を含む半導体装置の製造方法。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、半導体装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
電子部品を小型化するためには、半導体装置の外形は小さい方が好ましい。しかし、半導体装置の役割が多様化するにつれ、半導体チップに形成される集積回路の高集積化が進み、これに伴って、半導体チップのピン数の増加が進んでいる。すなわち、現在では、半導体装置の小型化と、集積回路の高集積化という2つの要求を同時に満たすことが可能な半導体装置の開発が進んでいる。
【0003】
この要求に応えることができる半導体装置として、半導体チップ上に配線が形成されたタイプの半導体装置が注目を集めている。このタイプの半導体装置では、半導体装置の外形を半導体チップの外形とほぼ同じにすることができるため、従来の半導体パッケージに較べて、半導体装置の小型化が可能である。
【0004】
しかし、この半導体装置であっても、従来の半導体装置と同等又はそれ以上の信頼性が要求される。また、この半導体装置を、信頼性を確保しつつ、効率よく製造する方法の開発が望まれている。
【0005】
本発明の目的は、信頼性の高い半導体装置及びその製造方法を提供することにある。
【特許文献1】特開平2−272737号公報
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【0006】
(1)本発明に係る半導体装置は、電極を有する半導体基板と、
前記半導体基板上に形成された樹脂突起と、
前記電極と電気的に接続されてなり、前記樹脂突起上に至るように形成された配線と、
を含み、
前記配線は、前記樹脂突起の上端面に形成された第1の部分と、前記樹脂突起の基端部の側方に形成された第2の部分とを含み、
前記第2の部分は、前記第1の部分よりも幅が狭い。本発明によると、隣り合う2つの配線間で、マイグレーションを原因とする電気的なショートが発生しにくい、信頼性の高い半導体装置を提供することができる。
(2)この半導体装置において、
前記配線は、前記第2の部分に延設された延設部と、前記延設部と前記電極とをつなぐ導電部とを含み、
前記延設部は前記導電部よりも幅が狭くてもよい。
(3)この半導体装置において、
前記延設部は、前記第2の部分と同じ幅をなしていてもよい。
(4)この半導体装置において、
前記配線のうち、前記半導体基板上に形成された部分は、前記第2の部分と同じ幅をなしていてもよい。
(5)この半導体装置において、
前記配線の前記第2の部分は、前記樹脂突起に固定されていなくてもよい。これによると、応力に対する信頼性の高い半導体装置を提供することができる。
(6)本発明に係る半導体装置の製造方法は、電極を有する半導体基板を用意する工程と、
前記半導体基板上に樹脂突起を形成する工程と、
前記電極と電気的に接続されてなり、前記樹脂突起の上端面に形成された第1の部分と、前記樹脂突起の基端面に形成された、前記第1の部分よりも幅が狭い第2の部分とを有する配線を形成する工程と、
前記樹脂突起の前記基端面における前記第2の部分と接触する部分の少なくとも一部を除去する工程と、
を含む。本発明によると、隣り合う2つの配線間で、マイグレーションを原因とする電気的なショートが発生しにくく、かつ、応力に対する信頼性の高い半導体装置を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0007】
以下、本発明を適用した実施の形態について図面を参照して説明する。ただし、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではない。
【0008】
(半導体装置)
図1(A)〜図3は、本発明を適用した実施の形態に係る半導体装置について説明するための図である。なお、図1(A)は、本発明を適用した実施の形態に係る半導体装置1の上視図であり、図1(B)は、図1(A)のIB−IB線断面の一部拡大図である。また、図2は、半導体装置1の概略図であり、図3は、半導体装置1が実装された電子モジュールを示す図である。
【0009】
本実施の形態に係る半導体装置は、図1(A)〜図2に示すように、半導体基板10を含む。半導体基板10は、例えばシリコン基板であってもよい。半導体基板10は、チップ状をなしていてもよい(図3参照)。このとき、半導体基板10の電極14が形成された面(能動面)は長方形をなしていてもよい。ただし、半導体基板10の能動面は、正方形をなしていてもよい(図示せず)。あるいは、半導体基板10は、ウエハ状をなしていてもよい(図4(A)参照)。半導体基板10には、1つ又は複数の(半導体チップには1つの、半導体ウエハには複数の)集積回路12が形成されていてもよい(図1(B)参照)。集積回路12の構成は特に限定されないが、例えば、トランジスタ等の能動素子や、抵抗、コイル、コンデンサ等の受動素子を含んでいてもよい。
【0010】
半導体基板10は、図1(A)及び図1(B)に示すように、電極14を有する。電極14は、半導体基板10の内部と電気的に接続されていてもよい。電極14は、集積回路12と電気的に接続されていてもよい。あるいは、集積回路12に電気的に接続されていない導電体を含めて、電極14と称してもよい。電極14は、半導体基板の内部配線の一部であってもよい。このとき、電極14は、半導体基板の内部配線のうち、外部との電気的な接続に利用される部分であってもよい。電極14は、アルミニウム又は銅等の金属で形成されていてもよい。
【0011】
半導体基板10は、図1(B)に示すように、パッシベーション膜16を有していてもよい。パッシベーション膜16は、電極14を露出させるように形成されていてもよい。パッシベーション膜16は、電極14を露出させる開口を有していてもよい。パッシベーション膜16は、電極14を部分的に覆うように形成されていてもよい。パッシベーション膜16は、電極14の周囲を覆うように形成されていてもよい。パッシベーション膜は、例えば、SiOやSiN等の無機絶縁膜であってもよい。あるいは、パッシベーション膜16は、ポリイミド樹脂などの有機絶縁膜であってもよい。
【0012】
本実施の形態に係る半導体装置は、図1(A)〜図2に示すように、半導体基板10上に形成された樹脂突起20を含む。樹脂突起20は、パッシベーション膜16上に形成されていてもよい。樹脂突起20の材料は特に限定されず、既に公知となっているいずれかの材料を適用してもよい。例えば、樹脂突起20は、ポリイミド樹脂、シリコーン変性ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン変性エポキシ樹脂、ベンゾシクロブテン(BCB;benzocyclobutene)、ポリベンゾオキサゾール(PBO;polybenzoxazole)等の樹脂で形成してもよい。樹脂突起20の形状も特に限定されるものではない。例えば、樹脂突起20は、直線状に形成されていてもよい(図1(A)及び図2参照)。半導体基板10が長方形をなす場合、樹脂突起20は、半導体基板10の長辺に沿って延びるように形成されていてもよい。樹脂突起20の表面は、曲面になっていてもよい。このとき、樹脂突起20の断面形状は、半円状をなしていてもよい(図1(B)参照)。ただし、樹脂突起20は、半球状をなしていてもよい(図示せず)。
【0013】
本実施の形態に係る半導体装置は、図1(A)〜図2に示すように、配線30を含む。配線30は、電極14と電気的に接続されてなる。配線30は、樹脂突起20上に至るように形成されてなる。配線30は、樹脂突起20の上端面に形成された第1の部分31と、樹脂突起20の基端部の側方に形成された第2の部分32とを含む。第2の部分32は、図1(A)及び図2に示すように、第1の部分31よりも幅が狭くなっている。第1の部分31は、樹脂突起20に固定されていてもよい。これに対して、第2の部分32は、樹脂突起20の基端部の表面に固定されていなくてもよい。このとき、図1(B)に示すように、第2の部分32は、樹脂突起20と間隔があくように形成されていてもよい。ただし、第2の部分32は、樹脂突起20に固定されていてもよい(図7参照)。なお、第2の部分32は、樹脂突起20の両側に設けられていてもよい。
【0014】
配線30は、図1(A)に示すように、第2の部分32に延設された延設部34と、延設部34と電極14とをつなぐ導電部36とを含んでいてもよい。なお、延設部34と導電部36とは、半導体基板10(パッシベーション膜16)上に設けられた部分であってもよい。このとき、第1及び第2の部分31,32は、導電部36及び延設部34を介して、電極14と電気的に接続されていてもよい。なお、延設部34は、導電部36よりも幅が狭くなっていてもよい。そして、延設部34は、第2の部分32と同じ幅をなしていてもよい。また、配線30の先端部35は、第2の部分32よりも幅が広くなっていてもよい。これにより、配線30と半導体基板10(パッシベーション膜16)との接触面積を広くすることができる。そのため、配線30の剥離が生じにくい、信頼性の高い半導体装置を提供することができる。
【0015】
ただし配線30はこれに限られず、配線30の半導体基板10上に形成された部分は、すべて、一定の幅をなしていてもよい(図示せず)。このとき、配線30における半導体基板10上に形成された部分は、第2の部分32と同じ幅をなしていてもよい。
【0016】
配線30の構造及び材料は、特に限定されるものではない。例えば、配線30は、複数層で形成されていてもよい。このとき、配線30は、チタンタングステンによって形成された第1の層と、金によって形成された第2の層とを含んでいてもよい(図示せず)。あるいは、配線30は、単層で形成されていてもよい。
【0017】
本実施の形態に係る半導体装置1は、以上の構成をなしていてもよい。先に説明したように、配線30は、樹脂突起20の上端面に形成された第1の部分31と、樹脂突起20の基端部の側方に配置された第2の部分32を有する。そして、第2の部分32は、第1の部分31よりも幅が狭くなっている。そのため、半導体装置1によると、隣り合う2つの配線30の第2の部分32の間隔を広くすることができる。そのため、配線30の第2の部分32の間で、マイグレーションを原因とする電気的なショートが発生しにくくなる。以下、この効果について詳述する。
【0018】
半導体装置を製造する工程では、樹脂突起20の表面に炭化層が形成されることがある。炭化層は樹脂に比べて絶縁抵抗が低いため、炭化層上に形成された2つの配線は、樹脂層上に形成された2つの配線よりも、電気的なショートが発生しやすくなる。そして、配線の微細化や、狭ピッチ化が進むと、この絶縁抵抗の低下が、半導体装置の信頼性に影響を与えることが懸念される。
【0019】
この点に鑑みて、信頼性の高い半導体装置を製造するために、隣り合う2つの配線の間の炭化層を除去して、配線間の絶縁抵抗を確保する技術が知られている。例えば、Oプラズマエッチングによって、隣り合う2つの配線間の樹脂層を除去することが知られている。ところが、樹脂突起20の基端部は、半導体基板10に対して垂直に近い角度を有している。そのため、従来の方法では、樹脂突起20の基端部の表面に形成された炭化層を、効率よく確実に除去することが困難であった。
【0020】
しかし、本発明によると、配線30のうち樹脂突起20の基端部の側方に形成された第2の部分32は、第1の部分31に較べて幅が狭くなっている。そのため、半導体装置1によると、隣り合う2つの配線30の第2の部分32の間隔を広くすることができる。そのため、樹脂突起20の基端部の表面に炭化層が形成されていた場合(除去しきれずに残っていた場合)でも、隣り合う2つの配線30間で、電気的なショートが発生しにくくすることができる。
【0021】
なお、第2の部分32が樹脂突起20に固定されていない場合には、樹脂突起20の変形が第2の部分32に与える影響を小さくすることができる。そのため、第2の部分32の幅を狭くした場合でも、第2の部分32を、断線しにくくすることができる。
【0022】
また、配線30のうち樹脂突起20の上端面に形成された第1の部分31は、他の電子部品等との電気的な接続に利用される部分である。そのため、半導体装置の実装性を高めるためには、その幅はなるべく広いことが好ましい。そして、樹脂突起20の上端面は、半導体基板の表面とほぼ同じ角度をなしている。そのため、従来の方法でも、表面の炭化層を確実に除去することが可能である。すなわち、隣り合う2つの配線30の第1の部分31は、その間隔が狭くなった場合でも、電気的なショートは発生しにくくすることができる。
【0023】
このことから、本発明に係る半導体装置によると、実装性に優れ、かつ、電気的な信頼性の高い半導体装置を提供することができる。
【0024】
図3には、半導体装置1が実装された電子モジュール1000を示す。図3に示す例では、半導体装置1は、基板2に実装されている。ここで、基板2は、例えば、フレキシブル基板であってもよい。半導体装置1は、配線30が形成された面が基板2と対向するように搭載されていてもよい。このとき、基板2の配線と半導体装置1の配線30とは、接触して電気的に接続されていてもよい。詳しくは、基板2の配線と配線30の第1の部分31とが、接触して電気的に接続されていてもよい。これによると、樹脂突起20の弾性力によって、配線30(第1の部分31)を、基板2の配線に押し付けることができる。そのため、電気的な接続信頼性の高い電子モジュールを提供することができる。なお、半導体装置1は、接着剤(樹脂系接着剤)によって、基板2に接着されていてもよい。電子モジュール1000は、表示デバイスであってもよい。表示デバイスは、例えば液晶表示デバイスやEL(Electrical Luminescence)表示デバイスであってもよい。そして、半導体装置1は、表示デバイスを制御するドライバICであってもよい。
【0025】
(半導体装置の製造方法)
図4(A)〜図7は、本発明を適用した実施の形態に係る半導体装置の製造方法について説明するための図である。
【0026】
本実施の形態に係る半導体装置の製造方法は、図4(A)及び図4(B)に示す、電極14を有する半導体基板10を用意することを含む。半導体基板10は、例えば、ウエハ状で用意してもよい。ウエハ状の半導体基板10は、図4(A)に示すように、複数の半導体装置となる領域11を有していてもよい。半導体基板10は、図4(B)に示すように、パッシベーション膜16を有していてもよい。パッシベーション膜16には、開口17が形成されていてもよい。半導体基板10は、酸化膜18を有していてもよい。酸化膜18は、電極14に形成されていてもよい。酸化膜18は、電極14における開口17とオーバーラップする領域に形成されていてもよい。酸化膜18は、図4(B)に示すように、開口17の内側に形成されていてもよい。
【0027】
本実施の形態に係る半導体装置の製造方法は、半導体基板10上に樹脂突起20を形成することを含む(図5(C)参照)。樹脂突起20を形成する方法は特に限定されるものではないが、以下、図5(A)〜図5(C)を参照して、樹脂突起20を形成する方法の一例について説明する。はじめに、図5(A)に示すように、半導体基板10(パッシベーション膜16)上に、樹脂材料21を設ける。そして、図5(B)に示すように、樹脂材料21をパターニングする。その後、樹脂材料21を硬化(例えば熱硬化)させることによって、図5(C)に示すように、樹脂突起20を形成してもよい。なお、樹脂突起20を形成する工程で、樹脂材料21を溶融させ、その後硬化させることによって、表面が曲面になるように樹脂突起20を形成することができる。
【0028】
本実施の形態に係る半導体装置の製造方法は、図6に示すように、酸化膜18の少なくとも一部を除去して、電極14を露出させることを含んでいてもよい。本工程によって、樹脂突起20の上端部の表面を炭化させて、炭化層を形成してもよい。本工程は、Arガスを利用して行ってもよい。例えば、半導体基板10をArガスの雰囲気内(Arイオンを含む雰囲気内)に配置し、電位差を利用してArイオンを加速させ、Arイオンを酸化膜18に衝突させることを含んでいてもよい。このとき、Arイオンを酸化膜18に衝突させることによって酸化膜18を飛散させ、電極14を露出させてもよい。なお、本工程は、Arガス以外のガスを利用してもよい。
【0029】
本実施の形態に係る半導体装置の製造方法は、図7に示すように、電極14と電気的に接続された配線30を形成することを含む。配線30は、樹脂突起20の上端部に至るように形成する。配線30は、樹脂突起20の上端面に形成された第1の部分31と、基端面に形成された第2の部分32を有するように形成する。配線30を形成する方法は特に限定されない。例えば、スパッタリングによって金属箔を形成し、その後、該金属箔をパターニングすることによって配線30を形成してもよい。金属箔をパターニングする工程で、配線30を、第2の部分32が第1の部分31よりも幅が狭くなるように形成してもよい。なお、本工程では、図7に示すように、第1及び第2の部分31,32は、樹脂突起20に接触するように形成してもよい。このとき、第1及び第2の部分31,32は、樹脂突起20に固定されていてもよい。
【0030】
本実施の形態に係る半導体装置の製造方法は、配線30を形成する工程の後に、樹脂突起20の表面に形成された炭化層を部分的に除去することを含んでいてもよい。このとき、炭化層のうち配線30からの露出部を除去してもよい。本工程は、例えば、Oプラズマを利用して行ってもよい。樹脂突起20の上端部付近では、樹脂突起20の表面は、半導体基板10とほぼ同じ方向を向いている。そのため、Oプラズマを利用することによって、樹脂突起20の上端部の表面に形成された炭化層を、効率よく確実に除去することができる。そして、本工程では、樹脂突起20の基端面における第2の部分32と接触する部分の少なくとも一部を除去してもよい。これにより、第2の部分32の少なくとも一部を、樹脂突起20に固定されていない状態にしてもよい(図1(B)参照)。例えば、エッチャント(エッチングガス、エッチング液等)の回り込みを利用して、樹脂突起20の第2の部分32と接触する部分を除去してもよい。先に説明したように、第2の部分32は、第1の部分31よりも幅が狭くなっている。そのため、エッチャントを、第2の部分32の裏側に回りこませることができる。すなわち、第2の部分32の裏側を、容易にエッチングすることが可能になる。そのため、本方法によると、信頼性の高い半導体装置を、効率よく製造することができる。
【0031】
そして、半導体基板10を切断する工程や、検査工程等を経て、半導体装置1を製造してもよい。
【0032】
なお、本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成(例えば、機能、方法及び結果が同一の構成、あるいは目的及び効果が同一の構成)を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。
【図面の簡単な説明】
【0033】
【図1】図1(A)及び図1(B)は、本発明を適用した実施の形態に係る半導体装置について説明するための図である。
【図2】図2は、本発明を適用した実施の形態に係る半導体装置について説明するための図である。
【図3】図3は、本発明を適用した実施の形態に係る半導体装置が実装された電子モジュールを示す図である。
【図4】図4(A)及び図4(B)は、本発明を適用した実施の形態に係る半導体装置の製造方法を説明するための図である。
【図5】図5(A)〜図5(C)は、本発明を適用した実施の形態に係る半導体装置の製造方法を説明するための図である。
【図6】図6は、本発明を適用した実施の形態に係る半導体装置の製造方法を説明するための図である。
【図7】図7は、本発明を適用した実施の形態に係る半導体装置の製造方法を説明するための図である。
【符号の説明】
【0034】
1…半導体装置、 10…半導体基板、 11…領域、 12…集積回路、 14…電極、 16…パッシベーション膜、 17…開口、 18…酸化膜、 20…樹脂突起、 21…樹脂材料、 30…配線、 31…第1の部分、 32…第2の部分、 34…延設部、 35…先端部、 36…導電部




 

 


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