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番号 発明の名称
1 多層リソグラフィプロセスにおいて用いられる複素環芳香族構造物を含む基層組成物、リソグラフィ構造物、材料層または材料要素を基板上に形成させる方法
2 集積回路最適化方法(性能向上のためのOPCトリミング)
3 集積回路フィーチャを形成するための方法およびプログラム
4 後の修正のためにマスク欠陥データをフィードフォワードすることによって基板にパターンを形成する方法
5 フォトマスクを流体中に保管し輸送するためのシステムおよび方法
6 電子ベース・リソグラフィのための高感度レジスト組成物
7 減衰位相シフト・マスクの位相較正の方法、試験構造、およびシステム

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