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エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. - 特許情報
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番号 発明の名称
1 リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
2 リソグラフィ機器及びデバイスの製作方法
3 基板ハンドラー、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
4 ピクセルグリッド描像と組み合わせた連続光ビームを使用するリソグラフィ装置およびデバイス製造方法
5 リソグラフィ装置、及びFPDのための複合辞書圧縮方法を利用したデバイス製造方法
6 デバイス製造方法、マスクおよびデバイス
7 リソグラフィ装置及びレチクル誘導CDUを補償するデバイス製造方法
8 基板、基板露光方法、および機械読取可能媒体
9 誘起されたトポグラフィおよび導波路効果を減少させるための位相シフト・マスクおよびプレーナ位相シフト・マスク用の埋め込み型エッチング停止部
10 マルチレンズアレイのフィールド湾曲を補正するシステムおよび方法

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