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番号 発明の名称
1 レジストパターン及びその製造方法、並びに、半導体装置及びその製造方法
2 ホログラム記録装置
3 ホログラム記録装置
4 レジスト組成物、レジストパターンの形成方法、半導体装置及びその製造方法
5 レジストパターン厚肉化材料、レジストパターンの形成方法、半導体装置及びその製造方法
6 露光用マスク、マスクパターン補正方法、及び、半導体装置
7 パターン露光方法および露光マスク
8 フォトマスク、フォトマスクの製造方法および半導体装置の製造方法
9 固定歪み補正機能を持つ記録再生装置
10 記録再生装置
11 パターンレイアウト及びレイアウトデータの生成方法
12 ホログラム記録再生装置
13 パターンデータ変換方法
14 画像形成装置の定着器入口ガイド部、定着器入口ガイド部を有する画像形成装置、および入口ガイド位置決めプログラム。
15 レジストパターン厚肉化材料、レジストパターンの形成方法、半導体装置及びその製造方法
16 レチクルの検査方法
17 フォトマスクの製造方法、デバイスの製造方法、及び、フォトマスクのモニタ方法
18 パターン形成方法
19 レイアウト方法、CAD装置、プログラム及び記憶媒体
20 フォトマスクの製造方法
21 フォトマスクの製造方法
22 フォトマスクの設計方法及び設計装置
23 集積回路の設計方法、設計装置及びプログラム
24 レジストカバー膜形成材料、レジストパターンの形成方法、半導体装置及びその製造方法
25 位相シフトレチクルとその製造方法とその欠陥検査方法
26 シミュレーション方法及び半導体装置の製造方法
27 フォトレジスト膜等の除去工程を有する半導体装置の製造方法及びフォトレジスト膜除去装置
28 撮影装置、照明制御装置及び照明制御方法
29 ホログラム記録再生装置
30 ホログラム記録装置
31 半導体装置製造用レチクルセット
32 回路パターンデータ補正方法及び半導体装置の製造方法
33 樹脂パターンの形成方法
34 レジスト組成物、レジストパターンの形成方法、半導体装置及びその製造方法

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