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HOYA株式会社 - 特許情報
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番号 発明の名称
1 ペリクル付きフォトマスク及びペリクル
2 位相シフトマスクの検査方法
3 ハーフトーン型位相シフトマスク及びマスクブランク
4 マスクブランクス用ガラス基板の製造方法、マスクブランクス用ガラス基板、マスクブランクスの製造方法、及びマスクブランクス
5 マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、露光用マスクの製造方法、及び欠陥検査装置
6 マスクブランクス用ガラス基板の製造方法、及びマスクブランクスの製造方法
7 マスクブランクの製造方法及び露光用マスクの製造方法
8 マスクブランク収納ケース、マスクブランクの収納方法及びマスクブランク収納体
9 マスクブランクス及びその製造方法
10 マスクブランク収納ケース、マスクブランクの収納方法及びマスクブランク収納体
11 フォトマスクブランクの製造方法及びフォトマスクの製造方法
12 位相シフトマスクブランクス及び位相シフトマスク
13 フォトマスクブランクの製造方法
14 反射型マスクブランク用基板の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法
15 マスクブランクス、および転写マスクの製造方法
16 マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、露光用マスクの製造方法、及びリソグラフィー用ガラス部材の製造方法
17 マスクブランク、マスクブランクの製造方法、及びマスクの製造方法
18 透光性基板の位置決め方法、マスクブランクスの製造方法および位置決め装置
19 マスクブランクスの製造方法、処理装置および台車
20 マスクブランク及びフォトマスク
21 マスクブランク及びマスク
22 フォトマスクブランクの製造方法及びフォトマスクの製造方法
23 ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク
24 ブランクス収納ケース
25 マスクブランク及びフォトマスク
26 マスクブランク及びフォトマスク
27 パターン形成方法及び位相シフトマスクの製造方法
28 位相シフトマスクの製造方法
29 パターン形成方法及び位相シフトマスクの製造方法
30 スピン洗浄方法及びスピン洗浄装置
31 洗浄装置
32 マスク収容ユニット、フォトマスク基板の搬送方法、フォトマスク製品の製造方法及びフォトマスクの露光・転写方法。
33 グレートーンマスクの欠陥修正方法、及びグレートーンマスク
34 液晶プロジェクタ
35 パターン形成方法及びグレートーンマスクの製造方法
36 パターン形成方法及びグレートーンマスクの製造方法
37 グレートーンマスクの製造方法
38 4階調フォトマスクの製造方法、及びフォトマスクブランク
39 パターン形成方法、グレートーンマスクの製造方法、及びパターンの転写方法
40 グレートーンマスク及びその製造方法

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