米国特許情報 | 欧州特許情報 | 国際公開(PCT)情報 | Google の米国特許検索
 
     特許分類
A 農業
B 衣類
C 家具
D 医学
E スポ−ツ;娯楽
F 加工処理操作
G 机上付属具
H 装飾
I 車両
J 包装;運搬
L 化学;冶金
M 繊維;紙;印刷
N 固定構造物
O 機械工学
P 武器
Q 照明
R 測定; 光学
S 写真;映画
T 計算機;電気通信
U 核技術
V 電気素子
W 発電
X 楽器;音響


  ホーム -> 写真;映画 -> 東京応化工業株式会社

番号 発明の名称
1 感光性樹脂組成物ならびにこれを用いたパターンおよびカラーフィルタ
2 顔料分散型感放射線樹脂組成物および着色パターンの形成方法
3 顔料分散型感放射線樹脂組成物および着色パターンの形成方法
4 感光性組成物
5 ポジ型ホトレジスト組成物
6 保護膜形成用材料、およびこれを用いたホトレジストパターン形成方法
7 レジスト組成物の製造方法、ろ過装置、レジスト組成物の塗布装置およびレジスト組成物
8 リソグラフィー用洗浄液及びそれを用いたレジストパターン形成方法
9 レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
10 感光性組成物およびブラックマトリクス
11 ポジ型レジスト組成物の製造方法、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
12 リソグラフィー用洗浄液
13 リソグラフィー用洗浄液
14 レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
15 現像液組成物およびその製造方法、ならびにレジストパターンの形成方法
16 機能性パターン形成用感光性樹脂組成物および機能性パターン形成方法
17 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
18 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
19 膜形成組成物、これを用いたパターン形成方法及び三次元モールド
20 三次元微小成形体製造用感光性ドライフィルム
21 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
22 黒色感光性樹脂組成物
23 感光性樹脂組成物
24 感光性組成物
25 感光性組成物
26 レジスト液製造方法及びこれを用いたレジスト膜
27 レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
28 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
29 保護膜形成用材料およびこれを用いたホトレジストパターン形成方法
30 ネガ型感光性樹脂組成物およびこれを用いたカラーフィルタの製造方法
31 ナノインプリント用の膜形成組成物およびパターン形成方法
32 保護膜形成用材料およびこれを用いたホトレジストパターン形成方法
33 保護膜形成用材料およびこれを用いたホトレジストパターン形成方法
34 保護膜形成用材料およびこれを用いたホトレジストパターン形成方法
35 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
36 ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
37 フレキソ印刷版用水溶性感光性樹脂組成物および水溶性感光性フレキソ印刷原版
38 機能性パターン形成用感光性樹脂組成物および機能性パターン形成方法
39 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
40 ホトレジスト上層膜形成用材料
41 レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
42 化学増幅型ホトレジスト組成物、レジスト層積層体およびレジストパタ−ン形成方法
43 サーマルフロー用ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物および該高分子化合物を用いたポジ型レジスト組成物
44 ホトレジスト用剥離液
45 ポジ型レジスト組成物、サーマルフロー用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
46 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
47 感光性樹脂組成物及びパターン形成方法
48 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
49 感光性樹脂組成物及びパターン形成方法
50 スプレー塗布用ホトレジスト組成物および積層体
51 液浸露光プロセス用保護膜形成用材料およびこれを用いたホトレジストパターン形成方法
52 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
53 洗浄剤
54 レジスト組成物およびレジスト組成物の製造方法
55 レジスト下層膜用組成物、これを用いたレジスト下層膜及び基板のパターン形成方法
56 ホトリソグラフィ用洗浄液およびその循環使用方法
57 ホトリソグラフィ用洗浄液およびこれを用いた基板の洗浄方法
58 液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
59 液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
60 液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
61 厚膜レジスト膜形成用のポジ型レジスト組成物、厚膜レジスト積層体およびレジストパターン形成方法
62 液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
63 レジスト保護膜形成用組成物及びこれを用いたレジストパターンの形成方法
64 パターン形成方法および半導体装置の製造方法
65 超臨界現像プロセス用レジスト組成物
66 接着層形成用組成物、及びこれを用いた凸版印刷版、並びに凸版印刷版の製造方法
67 下層膜用組成物及び多層レジストパターン形成方法
68 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
69 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
70 レジスト保護膜形成用組成物及びこれを用いたレジストパターンの形成方法
71 保護膜除去用溶剤およびこれを用いたホトレジストパターン形成方法
72 厚膜レジスト膜形成用のポジ型レジスト組成物、厚膜レジスト積層体およびレジストパターン形成方法
73 黒色感光性組成物、この黒色感光性組成物より製造された遮光膜及びEL素子
74 黒色感光性組成物
75 液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
76 保護膜形成用材料およびこれを用いたホトレジストパターン形成方法
77 感光性樹脂組成物およびこれを用いたパターン形成方法
78 リソグラフィー用洗浄液、およびこれを用いた基材の洗浄方法、並びに薬液供給装置の洗浄方法

[1]
 

 


     NEWS
会社検索順位 特許の出願数の順位が発表

URL変更
平成6年
平成7年
平成8年
平成9年
平成10年
平成11年
平成12年
平成13年


 
   お問い合わせ info@patentjp.com patentjp.com   Copyright 2007-2013