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番号 発明の名称
1 パターン作成方法、データ処理方法、半導体装置製造方法及びデータ処理プログラム
2 フォトマスク評価システム、フォトマスク評価方法、及び半導体装置の製造方法
3 マスクパターン検査方法、露光条件検証方法、および半導体装置の製造方法
4 リソグラフィシミュレーション方法、マスクパターン作成方法および半導体装置の製造方法
5 マスクの製造方法、マスク平坦度測定方法、ペリクル装着装置、及び半導体装置の製造方法
6 ライン照明装置及び画像入力装置
7 マスク基板情報生成方法、マスク基板の製造方法およびマスク基板の検査方法
8 背面投射型カラー映像表示装置
9 半導体装置の設計データ処理方法、そのプログラム、及び半導体装置の製造方法
10 電子機器
11 半導体装置のマスクパターン補正システム
12 ホログラム記録媒体
13 マスク欠陥修正方法及び半導体装置の製造方法
14 パターン検査方法、露光用マスク、およびパターン検査プログラム
15 パターン検証方法、そのプログラム、半導体装置の製造方法
16 電子写真感光体
17 カメラ装置およびカメラ装置の制御方法
18 テストパターン作成方法、テストパターン作成プログラム、マスク作製方法、及び半導体装置製造方法
19 基板洗浄方法、位相シフトマスクの製造方法および半導体装置の製造方法
20 マスク欠陥検査方法、マスク欠陥検査装置、および半導体装置の製造方法
21 照明装置及び照明装置付撮像装置
22 映像投影装置
23 ホログラム記録媒体、マスターホログラムの製造方法およびコピーホログラムの製造方法
24 消去可能な画像形成材料
25 消去可能な画像形成材料
26 消色可能な画像形成材料
27 カメラ照明付きスタンド
28 画像消去装置及び画像消去方法
29 三次元光線入力装置
30 マスクパターンの作成方法、マスクの製造方法およびプログラム
31 手ぶれ補正機能を有する撮影装置
32 フォトマスク用基板の選別方法、フォトマスク作製方法及び半導体装置製造方法
33 パターン補正方法及びそのプログラム
34 投射型画像表示装置及びランプ点灯回路制御方法
35 フォトマスク及び半導体装置の製造方法
36 画像形成装置
37 プロジェクタ
38 マスクパターン評価方法及び評価装置
39 投写型表示装置
40 フォトマスクの製造方法および半導体装置の製造方法
41 画像形成装置
42 フォトマスクの白欠陥修正方法及び装置
43 投射型表示装置
44 投射形表示装置
45 投射形表示装置および投射形表示装置の冷却方法
46 投写型表示装置
47 投写型表示装置
48 光情報記録媒体、光情報記録媒体の製造方法、光情報記録媒体の再生方法、および光情報記録媒体の再生装置
49 電子ビーム描画装置
50 偏光評価マスク、偏光評価方法、及び偏光計測装置
51 半導体製造方法、マスクパターンの形成方法及びレベンソン型位相シフトマスク。
52 投影露光マスク合否判定方法システム及び投影露光マスク合否判定方法
53 画像形成装置およびベルト駆動機構ならびにベルト体駆動方法
54 投射型画像表示装置および投射型画像表示システム
55 検査方法、検査装置
56 パターン寸法測定方法及び寸法測定装置
57 投影装置
58 光近接効果補正方法
59 画像消去装置
60 電波発射源可視化装置及びその方法
61 露光装置
62 フォトマスクの作成方法
63 OPC検査システム
64 半導体集積回路装置の製造方法及びフォトマスク
65 光情報記録媒体、光情報記録装置および光情報記録方法
66 ナノパターン製造方法およびナノパターン基板、半導体メモリセル

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