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発明の名称 カラーフィルタ基板の製造方法
発行国 日本国特許庁(JP)
公報種別 公開特許公報(A)
公開番号 特開2007−114654(P2007−114654A)
公開日 平成19年5月10日(2007.5.10)
出願番号 特願2005−308215(P2005−308215)
出願日 平成17年10月24日(2005.10.24)
代理人
発明者 上元 章弘 / 楠 進也
要約 課題
同一基板内に形成された複数ショットのカラーフィルタを検査することにより共通欠陥を認識し、共通欠陥発生場所と同位置の露光マスクの状態を確認しながらフィルタの形成を行うカラーフィルタ基板の製造方法を提供することを目的とする。

解決手段
少なくともパターン露光、現像等のパターニング処理を行ってブラックマトリクスを形成するラックマトリクス形成工程と、複数の着色パターンを形成する着色フィルタ形成工程と、透明電極形成工程と、パターン露光、現像等のパターニング処理を行って柱状スペーサを形成する柱状スペーサ形成工程とを有し、各種パターンを形成した後に欠陥検査をインラインで実施し、同一基板内に形成された複数ショットカラーフィルタ間のカラーフィルタを検査することにより共通欠陥を認識し、共通欠陥発生場所と同位置の露光マスクの状態を確認しながらカラーフィルタの形成を行う。
特許請求の範囲
【請求項1】
少なくとも透明基板上に黒色感光性樹脂層をパターン露光、現像等のパターニング処理を行ってブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス形成工程と、着色感光性樹脂層をパターン露光、現像等のパターニング処理を行って複数の着色パターンを形成する着色フィルタ形成工程と、透明電極形成工程と、感光性樹脂層をパターン露光、現像等のパターニング処理を行って柱状スペーサを形成する柱状スペーサ形成工程とを有し、各種パターンを形成した後にインラインで欠陥検査を実施するカラーフィルタ基板の製造方法において、前記欠陥検査が同一基板内の複数ショット間のカラーフィルタを検査することにより共通欠陥を認識し、欠陥発生場所と同位置の露光マスクの状態を確認しながらカラーフィルタの形成を行うことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、カラー液晶ディスプレイ及び有機ELカラー表示装置等に使用されるカラーフィルタ基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、大型カラーテレビ、ノートパソコン、携帯用電子機器の増加に伴い、液晶ディスプレイ、特にカラー液晶ディスプレイの需要の増加はめざましいものがある。
一般に、液晶表示ディスプレイパネルにおいて、現在最も広く使用されている液晶セル駆動方式は、TN(ねじれネマティック)方式とSTN(超ねじれネマティック)方式による縦電界駆動型であり、近年、横電界駆動型(IPS)による液晶セル駆動方式の開発も進んでいる。
【0003】
カラー液晶ディスプレイ及び有機ELカラー表示装置等に用いられるカラーフィルタ基板は、透明基板上に、ブラックマトリックス、赤色フィルタ、緑色フィルタ、青色フィルタからなる着色フィルタ、透明電極及び柱状スペーサー等が形成されたものである。
【0004】
以下カラーフィルタ基板の製造方法について説明する。
図9(a)〜(f)に一般的なカラーフィルタの製造方法の一例を工程順に示す。
まず、透明基板11上にアクリル系樹脂にカーボンブラック等の黒色顔料を分散した黒色感光性樹脂をスピンナーにて塗布し、黒色感光性樹脂層21を形成し(図9(a)参照)、パターン露光、現像等のパターニング処理を行って、ブラックマトリクス21bを形成する(図9(b)参照)。
【0005】
次に、アクリル系の感光性樹脂に赤色顔料を分散した赤色感光性樹脂溶液をスピンナーを用いてブラックマトリクス21bが形成された透明基板11上に塗布して赤色感光性樹脂層を形成し、所定の露光マスクを使ってパターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、赤色フィルタ31Rを形成する(図9(c)参照)。
【0006】
次に、アクリル系の感光性樹脂に緑色顔料を分散した緑色感光性樹脂溶液をスピンナーを用いてブラックマトリクス21b及び赤色フィルタ31Rが形成された透明基板11上に塗布して緑色感光性樹脂層を形成し、所定の露光マスクを使ってパターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、緑色フィルタ32Gを形成する(図9(d)参照)。
【0007】
次に、アクリル系の感光性樹脂に青色顔料を分散した青色感光性樹脂溶液をスピンナーを用いてブラックマトリクス21b、赤色フィルタ31R及び緑色フィルタ32Gが形成された透明基板11上に塗布して青色感光性樹脂層を形成し、所定の露光マスクを使ってパターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、青色フィルタ33Bを形成し、ブラックマトリクス21bが形成された透明基板上に赤色フィルタ31R、緑色フィルタ32G及び緑色フィルタ33Bからなる着色フィルタ層30を形成する(図9(e)参照)。
【0008】
次に、スパッタリング等により酸化インジウム錫膜からなる透明電極41を形成する。さらに、アクリル系樹脂を主成分とする感光性樹脂溶液をスピンナーで塗布して透明樹脂感光層を形成し、パターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、加熱硬化して柱状スペーサー52を形成し、カラーフィルタ基板200を得ることができる(図9(f)参照)。
【0009】
上記フォトリソグラフィー方式でのカラーフィルタ基板の製造工程では、露光マスクのキズ、または付着した異物等が原因でカラーフィルタ基板に共通(同一)欠陥が発生することがある。
共通欠陥とは、基板内の同一箇所に発生する欠陥のことである。
露光マスクに異物等が付着すると、露光光が遮断されるため、本来露光されるべき箇所が未露光になり、ネガ型レジストの場合は白抜け、ポジ型レジストの場合はレジスト残り等の共通欠陥が発生する。
露光マスクの傷における共通欠陥は上記の場合と逆になる。
【0010】
この共通欠陥は、一度発生すると連続的に発生し、カラーフィルタ基板の大量不良につながり、問題である。
この共通欠陥を早く見つけだすために、カラーフィルタ製造工程中の各着色画素形成工程で欠陥検査を実施し、露光工程にフィードバックするカラーフィルタの共通欠陥検査方式が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
これは、自動外観検査機において、検査対象カラーフィルタ基板の欠陥情報を前回の検査基板の欠陥情報と比較して、座標位置が一致するものを共通欠陥として認識している。
【0011】
しかしながら、自動外観検査機における従来の共通欠陥認識は、基板間において同位置の欠陥を共通欠陥として認識している。
これは、2枚以上の基板を連続して検査し、それぞれの基板の欠陥位置を比較し、同一の欠陥であれば共通欠陥と認識するという方法である。
この方式では、基板を2枚以上検査しなければ共通欠陥の認識ができない。
【特許文献1】特開平5−26642号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0012】
本発明は、上記問題点に鑑み考案されたもので、同一基板内に形成された複数ショット間のカラーフィルタを検査することにより共通欠陥を認識し、共通欠陥発生場所と同位置の露光マスクの状態を確認しながらフィルタの形成を行うカラーフィルタ基板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0013】
本発明に於いて上記課題を達成するために、本発明では、少なくとも透明基板上に黒色感光性樹脂層をパターン露光、現像等のパターニング処理を行ってブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス形成工程と、着色感光性樹脂層をパターン露光、現像等のパターニング処理を行って複数の着色パターンを形成する着色フィルタ形成工程と、透明電極形成工程と、感光性樹脂層をパターン露光、現像等のパターニング処理を行って柱状スペーサを形成する柱状スペーサ形成工程とを有し、各種パターンを形成した後にインラインで欠陥検査を実施するカラーフィルタ基板の製造方法において、前記欠陥検査が同一基板内の複数ショット間のカラーフィルタを検査することにより共通欠陥を認識し、欠陥発生場所と同位置の露光マスクの状態を確認しながらカラーフィルタの形成を行うことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法としたものである。
【発明の効果】
【0014】
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法によれば、同一基板内に形成された複数ショットカラーフィルタの各ショット間のカラーフィルタを検査することにより、同一カラーフィルタ基板内で共通欠陥を早期に発見することが可能となり、不良カラーフィルタ基板の発生を最小限に抑えることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0015】
以下、本発明の実施の形態について説明する。
【0016】
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法は、少なくとも透明基板上に黒色感光性樹脂層をパターン露光、現像等のパターニング処理を行ってブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス形成工程と、着色感光性樹脂層をパターン露光、現像等のパターニング処理を行って複数の着色パターンを形成する着色フィルタ形成工程と、透明電極形成工程と、感光性樹脂層をパターン露光、現像等のパターニング処理を行って柱状スペーサを形成する柱状スペーサ形成工程とを有し、各種パターンを形成した後に欠陥検査をインラインで実施し、同一基板内に形成された複数ショットカラーフィルタ間のカラーフィルタを検査することにより共通欠陥を認識し、共通欠陥発生場所と同位置の露光マスクの状態を確認しながらカラーフィルタの形成を行うようにしたものである。
【0017】
図1は、上記各種パターン形成工程のパターン露光工程において、2面付けのカラーフィルタパターンが形成された露光マスクを用いて、透明基板11上に6回露光(E−1、E−2、E−3、E−4、E−5、E−6)して12面付けのカラーフィルタを形成したカラーフィルタ基板の一例を示す模式平面図である。
ここで、上記カラーフィルタパターンは、ブラックマトリクス形成工程、着色フィルタ形成工程、柱状スペーサ形成工程で使用される各種パターンを指している。
【0018】
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法は、ブラックマトリクス形成工程、着色フィルタ形成工程、柱状スペーサ形成工程とがあり、いずれもフォトリソ工程が適用され、ブラックマトリクス、着色フィルタ、柱状スペーサ等を形成した後にインラインで同一基板内での欠陥検査を実施して共通欠陥を認識すると、共通欠陥発生場所と同位置の露光マスクの状態を確認(露光マスクの交換、もしくは露光マスクのパターン修正)しながら各種パターンの形成を進めていき、最後にカラーフィルタを作製する。
このような製造方法を適用することにより、共通欠陥を早期に発見し、露光マスクへフィードバックするすることにより、不良カラーフィルタ基板の発生を最小限に抑えることができる。
【0019】
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法の基本プロセスは、図2に示すように、透明基板11の前洗浄、レジストコート、プリベーク、パターン露光、現像・水洗、欠陥検査、ポストベーク工程からなり、ブラックマトリクス形成工程、着色フィルタ形成工程、柱状スペーサ形成工程を経ることによりカラーフィルタ基板が作製される。
【0020】
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法について説明する。
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法の一実施例を図3(a)〜(h)、図4(i)〜(p)及び図5(q)〜(v)にそれぞれ示す。
【0021】
まず、透明基板11を前洗浄し、アクリル系樹脂にカーボンブラック等の黒色顔料を分散した黒色感光性樹脂レジストをスピンナー等にてコートし、所定の温度でプリベークして所定厚の黒色感光性樹脂層21を形成する(図3(a)参照)。
ここで、透明基板11としては、低膨張ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス等のガラス基板及びプラスチックフィルム等が利用できる。
【0022】
次に、透明基板12に2面付けのブラックマトリクスパターン62が形成された露光マスク60bを用いて、透明基板11上の黒色感光性樹脂層21に6回(E−1〜E−6)パターン露光する(図3(b)参照)。
ここで、パターン露光は、基板サイズとパターン精度の点からレンズスキャン方式が一般
的に使用される。
【0023】
次に、専用の現像液で現像、水洗、乾燥して、透明基板11上に12面付けされたブラックマトリクス21bを形成する(図3(c)参照)。
【0024】
次に、ブラックマトリクス21bが形成された基板を欠陥検査機にかけて共通欠陥の有無を検査する(図3(d)参照)。
ここでは、露光工程で露光マスクに付着した異物等により発生する共通欠陥をなるべく早く見つけ出し、工程不良の発生を最小限に抑えようというものである。
露光マスクに付着する異物としては、ネガ型レジスト使用工程では白抜け、ポジ型レジスト使用工程ではレジスト残りとなる。
また、こういった共通欠陥は、パターン形成後なるべく早く検査することが望ましいので、ポストベーク前に実施する。
【0025】
ブラックマトリクス21bが形成された12面付けのカラーフィルタ基板をラインセンサからなる検査機にて検査し、共通欠陥を検査している状態の一例を図6に示す。
この事例では、12面付けの基板の縦方向の検査ラインを8ラインに分割し、1ラインと5ライン、2ラインと6ライン、3ラインと7ライン、4ラインと8ラインというように、露光面付けに応じたペアのラインで同一パターンの画素単位を比較しながら比較検査を行うことにより、共通欠陥としての認識を行う。
比較はグレースケールの輝度値を用い、設定閾値を超えるものを欠陥として認識するようにしている。
【0026】
カラーフィルタ基板の欠陥検査は、図7に示すように、反射光学系、透過光学系等を用いて行われ、反射系黒欠陥としては異物、レジスト残り、ハーフ白抜けが、反射系白欠陥としてはITO(透明電極)ピンホールが、反射系黒欠陥としては裏面汚れ、裏面キズが、透過系白欠陥としては白抜け等がある。
【0027】
図8に、12面付けの基板の検査ラインの4ラインと8ラインの同一パターンの同一位置に共通欠陥71が発生した事例を示す。
共通欠陥71は、カラーフィルタC−1での位置を特定することにより、露光マスクピッチExP、EyPが予め分かっているので、露光マスクの同位置での確認作業ができ、修正、露光マスク交換等の処置作業を素早く行うことができる。
【0028】
次に、ブラックマトリクス21bを所定の温度でポストベークを行い、透明基板11上に12面付けされたブラックマトリクス21bを形成する。
【0029】
次に、アクリル系の感光性樹脂に赤色顔料(例えば、ジアントラキノン系顔料)を分散した赤色感光性樹脂溶液をスピンナーを用いてブラックマトリクス21bが形成された透明基板11上に塗布し、赤色感光性樹脂層31Rを形成する(図3(e)参照)。
【0030】
次に、透明基板12に2面付けの赤色フィルタパターン63が形成された露光マスク60cを用いて、透明基板11上の赤色感光性樹脂層31Rに6回(E−1〜E−6)パターン露光する(図3(f)参照)。
ここで、パターン露光は、基板サイズとパターン精度の点からプロキシミティー露光が一般的に使用される。
【0031】
次に、専用の現像液で現像、水洗、乾燥して、透明基板11上に12面付けされたブラックマトリクス21bと赤色フィルタ31R’とを形成する(図3(g)参照)。
【0032】
次に、ブラックマトリクス21b及び赤色フィルタ31R’が形成された12面付けのカラーフィルタ基板を欠陥検査機にかけて共通欠陥の有無を検査する(図3(h)参照)。
カラーフィルタ基板の共通欠陥を検査している状態の一例を図6に示す。
この事例では、12面付けのカラーフィルタ基板の縦(y)方向の検査ラインを8ラインに分割し、1ラインと5ライン、2ラインと6ライン、3ラインと7ライン、4ラインと8ラインというように、露光面付けに応じたペアのラインで同一パターンの画素単位を比較しながら比較検査を行うことにより、共通欠陥としての認識を行う。
比較はグレースケールの輝度値を用い、設定閾値を超えるものを欠陥として認識するようにしている。
【0033】
図8に示すように、12面付けの基板の検査ラインの4ラインと8ラインの同一パターンの同一位置に共通欠陥71が発生したとすると、カラーフィルタC−1での共通欠陥71の位置を特定することにより、露光マスクピッチExP、EyPが予め分かっているので、露光マスクの同位置での確認作業ができ、修正、露光マスク交換等の処置作業を素早く行うことができる。
【0034】
次に、赤色フィルタ31R’を所定の温度でポストベークを行い、透明基板11上に12面付けされたブラックマトリクス21bと赤色フィルタ31R’とを形成する。
【0035】
次に、アクリル系の感光性樹脂に緑色顔料(例えば、フタロシアニングリーン系顔料)を分散した緑色感光性樹脂溶液をスピンナーを用いてブラックマトリクス21b及び赤色フィルタ31R’が形成された透明基板11上に塗布し、緑色感光性樹脂層32Gを形成する(図4(i)参照)。
【0036】
次に、2面付けの緑色フィルタパターン64が形成された露光マスク60dを用いて、透明基板11上の赤色感光性樹脂層32Gに6回(E−1〜E−6)パターン露光する(図4(j)参照)。
ここで、パターン露光は、基板サイズとパターン精度の点からプロキシミティー露光が一般的に使用される。
【0037】
次に、専用の現像液で現像、水洗、乾燥して、透明基板11上に12面付けされたブラックマトリクス21b、赤色フィルタ31R’及び緑色フィルタ32G’を形成する(図4(k)参照)。
【0038】
次に、ブラックマトリクス21b、赤色フィルタ31R’ 及び緑色フィルタ32G’が形成された12面付けのカラーフィルタ基板を欠陥検査機にかけて共通欠陥の有無を検査する(図4(l)参照)。
カラーフィルタ基板の共通欠陥を検査している状態の一例を図6に示す。
この事例では、12面付けのカラーフィルタ基板の縦(y)方向の検査ラインを8ラインに分割し、1ラインと5ライン、2ラインと6ライン、3ラインと7ライン、4ラインと8ラインというように、露光面付けに応じたペアのラインで同一パターンの画素単位を比較しながら比較検査を行うことにより、共通欠陥としての認識を行う。
比較はグレースケールの輝度値を用い、設定閾値を超えるものを欠陥として認識するようにしている。
【0039】
図8に示すように、12面付けの基板の検査ラインの4ラインと8ラインの同一パターンの同一位置に共通欠陥71が発生したとすると、カラーフィルタC−1での共通欠陥71の位置を特定することにより、露光マスクピッチExP、EyPが予め分かっているので、露光マスクの同位置での確認作業ができ、修正、露光マスク交換等の処置作業を素早
く行うことができる。
【0040】
次に、緑色フィルタ32G’を所定の温度でポストベークし、透明基板11上に12面付けされたブラックマトリクス21b、赤色フィルタ31R’及び緑色フィルタ32G’を形成する。
【0041】
次に、アクリル系の感光性樹脂に青色顔料(例えば、フタロシアニンブルー系顔料)を分散した青色感光性樹脂溶液をスピンナーを用いてブラックマトリクス21b、赤色フィルタ31R’ 及びが緑色フィルタ32G’形成された透明基板11上に塗布し、青色感光性樹脂層33Bを形成する(図4(m)参照)。
【0042】
次に、2面付けの青色フィルタパターン65が形成された露光マスク60eを用いて、透明基板11上の赤色感光性樹脂層33Rに6回(E−1〜E−6)パターン露光する(図4(n)参照)。
ここで、パターン露光は、基板サイズとパターン精度の点からプロキシミティー露光が一般的に使用される。
【0043】
次に、専用の現像液で現像、水洗、乾燥して、透明基板11上に12面付けされたブラックマトリクス21b、赤色フィルタ31R’、緑色フィルタ32G’及び青色フィルタ33B’を形成する(図4(o)参照)。
【0044】
次に、ブラックマトリクス21b、赤色フィルタ31R’、緑色フィルタ32G’及び青色フィルタ33B’が形成された12面付けのカラーフィルタ基板を欠陥検査機にかけて共通欠陥の有無を検査する(図4(p)参照)。
カラーフィルタ基板の共通欠陥を検査している状態の一例を図6に示す。
この事例では、12面付けのカラーフィルタ基板の縦方向の検査ラインを8ラインに分割し、1ラインと5ライン、2ラインと6ライン、3ラインと7ライン、4ラインと8ラインというように、露光面付けに応じたペアのラインで同一パターンの画素単位を比較しながら比較検査を行うことにより、共通欠陥としての認識を行う。
比較はグレースケールの輝度値を用い、設定閾値を超えるものを欠陥として認識するようにしている。
【0045】
図8に示すように、12面付けしたカラーフィルタ基板の検査ラインの4ラインと8ラインの同一パターンの同一位置に共通欠陥71が発生したとすると、カラーフィルタC−1での共通欠陥71の位置を特定することにより、予め露光マスクピッチExP、EyPが分かっているので、露光マスクの同位置での確認作業ができ、修正、露光マスク交換等の処置作業を素早く行うことができる。
【0046】
次に、緑色フィルタ32G’を所定の温度でポストベークし、透明基板11上に12面付けされたブラックマトリクス21bと赤色フィルタ31R’、緑色フィルタ32G’及び青色フィルタ33B’からなる着色フィルタ30とを形成する。
【0047】
次に、着色フィルタ30上にスパッタリング等にて酸化インジウム錫膜からなる透明電極41を形成する(図5(q)参照)。
【0048】
次に、アクリル系樹脂からなるクリアレジストをスピンナーで塗布し、透明電極41上にクリアレジスト層51を形成する(図5(r)参照)。
【0049】
次に、2面付けの柱状スペーサーパターン66が形成された露光マスク60fを用いて、透明基板11上のクリアレジスト層51に6回(E−1〜E−6)パターン露光する(
図5(s)参照)。
ここで、パターン露光は、基板サイズとパターン精度の点からプロキシミティー露光が一般的に使用される。
【0050】
次に、専用の現像液で現像、水洗、乾燥して、透明基板11上に12面付けされたブラックマトリクス21bと着色フィルタ30上の所定位置に柱状スペーサ51sを形成する(図5(t)参照)。
【0051】
次に、ブラックマトリクス21bと着色フィルタ30と柱状スペーサ51sとが形成された12面付けのカラーフィルタ基板を欠陥検査機にかけて共通欠陥の有無を検査する(図5(u)参照)。
カラーフィルタ基板の共通欠陥を検査している状態の一例を図6に示す。
この事例では、12面付けのカラーフィルタ基板の縦方向の検査ラインを8ラインに分割し、1ラインと5ライン、2ラインと6ライン、3ラインと7ライン、4ラインと8ラインというように、露光面付けに応じたペアのラインで同一パターンの画素単位を比較しながら比較検査を行うことにより、共通欠陥としての認識を行う。
比較はグレースケールの輝度値を用い、設定閾値を超えるものを欠陥として認識するようにしている。
【0052】
図8に示すように、12面付けしたカラーフィルタ基板の検査ラインの4ラインと8ラインの同一パターンの同一位置に共通欠陥71が発生したとすると、カラーフィルタC−1での共通欠陥71の位置を特定することにより、予め露光マスクピッチExP、EyPが分かっているので、露光マスクの同位置での確認作業ができ、修正、露光マスク交換等の処置作業を素早く行うことができる。
【0053】
上記、カラーフィルタ形成工程と検査工程を経て、透明基板11上にブラックマトリクス21bと赤色フィルタ31R’、緑色フィルタ32G’及び青色フィルタ33B’からなる着色フィルタ30と柱状スペーサ51sとが形成された12面付けのカラーフィルタ基板を作製する。
このように、カラーフィルタ形成工程の各工程毎に、同一基板内で共通欠陥を認識する検査工程を入れることにより、露光マスクへの素早い対応が可能になり、生産効率を落とすことなく、不良カラーフィルタ基板の発生を最小限に抑えることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【0054】
【図1】多面付けカラーフィルタ基板の一例を示す模式平面図である。
【図2】カラーフィルタ基板の製造方法の基本工程の一例を示す説明図である。
【図3】(a)〜(h)は、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法の一実施例の製造工程の一部を示す説明図である。
【図4】(i)〜(p)は、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法の一実施例の製造工程の一部を示す説明図である。
【図5】(q)〜(v)は、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法の一実施例の製造工程の一部を示す説明図である。
【図6】多面付けカラーフィルタ基板の検査状態の一例を示す説明図である。
【図7】カラーフィルタ基板の欠陥検査の一例を示す説明図である。
【図8】多面付けカラーフィルタ基板の共通欠陥の発生状況を示す説明図である。
【図9】(a)〜(f)は、カラーフィルタ基板の製造方法の製造工程の一例を示す説明図である。
【符号の説明】
【0055】
11、12……透明基板
21……黒色感光性樹脂層
21b……ブラックマトリクス
30……着色フィルタ
31R……赤色感光性樹脂層
31R’……赤色フィルタ
32G……緑色感光性樹脂層
32G’……緑色フィルタ
33B……赤色感光性樹脂層
33B’……青色フィルタ
41……透明電極
51……クリアレジスト
51s、52……柱状スペーサ
60b、60c、60d、60e、60f……露光マスク
62……ブラックマトリクスパターン
63……赤色フィルタパターン
64……緑色フィルタパターン
65……青色フィルタパターン
66……柱状スペーサーパターン
100、200……カラーフィルタ基板
C−1、C−2……カラーフィルタ
E−1、E−2、E−3、E−4、E−5、E−6……露光ショット
ExP……x方向の露光ピッチ
EyP……y方向の露光ピッチ




 

 


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