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番号 発明の名称
1 巻取式真空成膜装置および巻取式真空成膜方法
2 ガスバリア性フィルムの製造方法およびその製造装置
3 電子ビーム照射装置、蒸着装置および蒸着方法
4 スパッタリング装置及びスパッタリング方法
5 スパッタリング装置及びスパッタリング方法
6 真空処理装置
7 蒸着用ボートおよびこれを備えた真空蒸着装置
8 ターゲット組立体及びこのターゲット組立体を備えたスパッタリング装置
9 電子ビーム蒸着装置、当該装置を用いて行う基板の表面への蒸着被膜の形成方法、ピアス式電子銃、および、ピアス式電子銃のビーム状態のモニタ方法
10 スパッタ電極及びスパッタ電極を備えたスパッタリング装置
11 有機薄膜製造方法および光CVD装置
12 電子線励起発光素子用蛍光体、その作製方法、及び電子線励起発光素子
13 電子線励起発光素子用蛍光体、その作製方法、及び電子線励起発光素子
14 電子線励起発光素子用蛍光体、その作製方法、及び電子線励起発光素子
15 蛍光体、その作製方法及び発光素子
16 蛍光体及びその作製方法、並びに発光素子
17 蒸発材料及びその製造方法並びにその保管方法
18 成膜材料供給装置
19 成膜装置、パネルの製造方法
20 蒸着膜の形成方法、保護膜の形成方法及びプラズマディスプレイパネル製造装置
21 成膜装置
22 マグネトロンスパッタ電極及びマグネトロンスパッタ電極を備えたスパッタリング装置
23 スパッタリング装置
24 アルミニウム及びアルミニウム合金の表面処理方法
25 細胞分離方法ならびに細胞検査方法とその試薬キット
26 成膜装置
27 マグネトロンスパッタ電極及びマグネトロンスパッタ電極を用いたスパッタリング装置
28 成膜装置及び成膜方法
29 蛍光体及びその作製方法、並びに発光素子
30 蛍光体及びその作製方法、並びに発光素子
31 ナノ粒子蛍光体及びその作製方法、並びに発光素子
32 スパッタ成膜方法及び装置
33 スパッタリング方法及びスパッタリング装置
34 スパッタリング方法及びスパッタリング装置
35 スパッタリング装置
36 真空処理装置
37 粉体処理装置
38 真空装置
39 多元薄膜形成装置
40 プラズマCVD装置および成膜方法
41 金属とSiO2の混合膜の成膜方法及びその成膜装置
42 ダイヤモンド膜製造装置、ダイヤモンド膜製造方法

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