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番号 発明の名称
1 自熔製錬炉の熔融製錬反応の制御方法
2 自熔製錬炉の操業方法
3 酸化物焼結体及びその製造方法、酸化物焼結体を用いて得られる非晶質酸化物膜、並びにその非晶質酸化物膜を含む積層体
4 Ru合金ターゲットとその製造方法
5 巻取式複合真空表面処理装置及びフィルムの表面処理方法
6 耐食光輝性顔料とその製造方法および耐食光輝性塗料
7 耐食光輝性顔料とその製造方法、および耐食光輝性塗膜用塗料組成物
8 酸性塩化物水溶液からの鉄の電解採取方法
9 蒸着用酸化物焼結体タブレットおよび酸化物透明導電膜
10 サファイア単結晶の育成方法
11 ロータリーキルンダストの造粒方法
12 酸化物焼結体及びそれを用いて得られる酸化物膜、並びにその酸化物膜を含む積層体
13 透明導電膜及びそれを含む透明導電性基材
14 塩化第2銅イオンの還元方法
15 スパッタリングターゲットの製造方法
16 フープ材のメッキ処理槽及びそれを用いたメッキ処理装置
17 透明導電塗料及び透明導電膜
18 エポキシ樹脂接着組成物及びそれを用いた光半導体用接着剤
19 エポキシ樹脂接着組成物及びそれを用いた光半導体用接着剤
20 ホウ素含有水の浄化処理方法
21 ホウ素含有水の浄化処理方法
22 蛍光体薄膜とその成膜方法
23 硫化物蛍光体粉末及びその製造方法
24 封着樹脂組成物及びそれを用いた複層ガラス構造体
25 湿式銅製錬法における銀の回収方法
26 鉛フリーめっき皮膜の形成方法
27 フレーク状着色金属顔料と、これを用いた塗料、及びフレーク状着色金属顔料の製造方法
28 多孔質金属箔およびその製造方法
29 タンタル酸リチウム基板の製造方法
30 巻取式複合真空表面処理装置及びフィルムの表面処理方法
31 金属膜を有する成型体およびその製造方法
32 アンダコート用および蒸着用マスク治具と、これを用いた電磁波シールド膜の成膜方法
33 塩化ニッケル水溶液からの銅イオンの除去方法
34 酸化アルミニウム単結晶の製造方法及びこの方法を用いて得られる酸化アルミニウム単結晶
35 導電性接着剤
36 黄銅鉱を含む硫化銅鉱の浸出方法
37 Zn−Nb−Ga酸化物焼結体およびその製造方法
38 フレーク状干渉色顔料およびその製造方法
39 酸化物焼結体および、それを用いて得られる酸化物膜、それを含む透明基材
40 塩化鉄水溶液から電解鉄の製造方法
41 フッ化ホウ素含有排水の処理方法
42 酸化物単結晶の育成方法
43 酸化ガリウム系焼結体およびその製造方法
44 高純度銀インゴットの製造方法
45 銀インゴットの製造方法
46 透明導電膜製造用焼結体ターゲット及びそれを用いて製造される透明導電膜、透明導電性基材
47 塩化鉄水溶液から電解鉄の回収方法
48 酸化アルミニウム単結晶の製造方法
49 塩化銀の精製方法
50 ホウ素吸着材及びホウ素含有水の処理方法
51 ペースト組成物
52 転炉排ガス冷却システムおよび転炉排ガス冷却システム運転方法
53 非鉄金属製錬における排ガス処理設備の並列運転制御方法
54 酸化物焼結体、その製造方法、酸化物透明導電膜の製造方法、および酸化物透明導電膜
55 酸化アルミニウム単結晶の製造方法及び得られる酸化アルミニウム単結晶
56 金属粉末のめっき方法

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