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番号 発明の名称
1 化学的気相成長装置
2 波長変換部材、発光装置及び波長変換部材の製造方法
3 スクライブ装置及びそれを用いた基板の切断方法
4 ポリパラキシリレン膜の形成方法、ポリパラキシリレン膜、インクジェットヘッド
5 金属イオン水生成装置
6 気相成長装置および気相成長方法
7 水処理装置および水処理方法
8 水処理方法および水処理装置
9 水処理方法、マイクロナノバブル微生物活性ユニットおよび水処理装置
10 気相成長装置
11 気相成長装置
12 水処理装置
13 粒子線エピタキシャル装置、プログラム、コンピュータ読み取り可能な記録媒体、粒子線強度の制御方法、及び薄膜形成基板の製造方法
14 水処理方法および水処理システム
15 排水処理方法および排水処理装置
16 金属イオン水生成装置
17 分子線源セルの制御システム、その制御方法および分子線エピタキシャル装置
18 ウェハホルダー、メッキ成膜装置およびメッキ成膜方法
19 金属イオン水生成装置
20 分子線エピタキシャル成長装置および分子線エピタキシャル成長方法
21 半導体結晶成長方法および半導体結晶成長装置
22 薄板製造方法および薄板製造装置
23 波長変換部材及び発光装置
24 水処理方法および水処理装置
25 微生物を用いる金属類の除去・回収方法、除去・回収装置、除去・回収剤およびバイオセンサー
26 c軸選択配向性ZnO膜の製造方法、及びc軸選択配向性のZnO薄膜構造
27 シロキサン系分子膜、その製造方法及びその膜を用いた有機デバイス
28 水処理方法および水処理装置
29 分断装置および分断方法
30 成膜装置および成膜方法
31 薄板製造用基板、薄板製造装置、および薄板製造方法
32 電解メッキ装置および電解メッキ方法
33 高周波誘導加熱装置および高周波誘導溶解方法
34 薄板製造装置および薄板製造方法
35 発光装置
36 有機シラン化合物の製造方法
37 気相成長装置および気相成長方法
38 水素生成能力に関する遺伝子が改良された微生物、その微生物の培養法及び水素生成方法
39 水素生成能力に関する遺伝子が改良された微生物およびその微生物を用いた水素の製造方法
40 気相成長装置および気相成長方法
41 重合体膜製造装置およびポリパラキシリレン膜の製造方法
42 インクジェット記録用インク
43 液体処理方法および液体処理装置
44 排ガス排水処理方法および排ガス排水処理装置
45 蛍光体およびそれに用いるイオン注入装置
46 気相成長装置および気相成長方法
47 気相成長装置、気相成長方法、基板加熱装置、および基板加熱方法
48 抗菌水生成装置
49 排水処理方法および排水処理システム
50 排水処理方法および排水処理装置
51 排水処理方法および排水処理装置
52 排水処理方法および排水処理装置

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