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番号 発明の名称
1 成膜方法および機能性膜、並びに電気光学装置、電子機器
2 デバイス製造方法、電気光学装置、及び電子機器
3 放電加工用電極型、放電加工用電極型の製造方法
4 冷却プレート
5 レンズ基板の製造方法、レンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタ
6 液滴吐出装置
7 液滴吐出方法、液滴吐出装置、電気光学装置及び電子機器
8 粉砕方法、粉砕装置および粉末
9 レンズ基板の製造方法、レンズ基板およびリア型プロジェクタ
10 重合炉の脱臭方法
11 スクライブ形成方法、分割予定線付き基板
12 レーザ加工装置およびレーザ加工方法
13 スクライブ形成方法、スクライブ形成装置、多層基板
14 スピンコート用保持具、および、スピンコート装置
15 スクライブ形成方法、分割予定線付き基板
16 レーザ照射装置、レーザスクライブ方法
17 レーザ照射装置、レーザスクライブ方法
18 レーザ照射装置およびレーザスクライブ方法
19 カッティング処理装置、カッティング処理装置のカッティング処理方法およびプログラム
20 接合構造及び方法、並びに記録ヘッドユニット
21 液滴吐出方法、電気光学装置及び電子機器
22 マスク基板、レーザダイシング装置及びレーザダイシング方法
23 研磨ポリシャ、研磨治具及び研磨ポリシャの製造方法
24 光学板、バックライトユニット、電気光学装置及び電子機器、並びに光学板の製造方法及び液滴吐出装置
25 膜の製造方法、膜形成基板の製造方法、電気光学装置の製造方法、及び電子機器の製造方法
26 膜製造装置
27 液滴吐出方法、電気光学装置及び電子機器
28 粉砕方法、粉砕装置および粉末
29 構造体の製造方法
30 プレス装置
31 X軸移動ステージおよびこれを備えたプレス装置
32 紙切断装置およびプリンタ
33 表面処理方法、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置
34 裁断装置、裁断検知ユニット及び記録裁断複合機
35 裁断装置、裁断検知ユニット及び記録裁断複合機
36 シート基板保持治具
37 描画装置、デバイス及び電気光学装置並びに電子機器
38 裁断装置、記録裁断複合装置およびカッタヘッド
39 注入針、注入針製造方法、および合成樹脂成形物製造方法
40 液滴吐出装置及び方法、電気光学装置、並びに電子機器
41 描画システム、デバイス及び電気光学装置並びに電子機器
42 液滴吐出装置の液滴吐出方法及び液滴吐出装置
43 製膜方法及びパターニング方法、並びにこれらを用いた電子装置の製造方法
44 記録装置、及び、記録装置におけるカッタ機構
45 パターン膜形成基板及びパターン膜形成基板の製造方法、並びに電気光学装置及び電子機器
46 機能液滴吐出ヘッドの保守方法、機能液滴吐出ヘッドの保守装置およびこれを備えた液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器
47 膜形成方法、有機エレクトロルミネセンス装置の製造方法、有機エレクトロルミネセンス装置及び電子機器
48 接合材および接合材の製造方法
49 ミシン目カット装置及びプリンタ
50 フレキシブル基材打ち抜き装置及びフレキシブル基材ガイドレール
51 層形成方法
52 膜の製造方法、デバイスの製造方法、燃料電池の製造方法、デバイス、電気光学装置、燃料電池及び電子機器
53 除害装置
54 機能液滴吐出ヘッドの保守装置およびこれを備えた液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器
55 裁断装置および記録裁断複合装置
56 裁断装置および記録裁断複合装置
57 樹脂成型品の取り出し構造、及び樹脂成形用金型装置
58 排気ガス処理装置及び排気ガス処理方法
59 光触媒インク保管装置及び方法、塗布装置及び方法
60 層形成方法、アクティブマトリクス基板の製造方法、および多層配線基板の製造方法
61 液滴吐出装置、パネルの製造方法、画像表示装置および電子機器
62 金型のガス成分除去構造、射出成形用の金型装置、射出成形装置
63 同一表面上に異なる親水性及び親油性を呈する領域を有する基板の製造方法
64 膜パターンの形成方法、デバイスの製造方法
65 膜形成方法、有機エレクトロルミネセンス装置の製造方法、有機エレクトロルミネセンス装置及び電子機器
66 乾燥方法、乾燥装置、および成膜方法、電気光学装置の製造方法、並びに電気光学装置、電子機器
67 液滴吐出ヘッドの固定装置、ヘッドユニットの組立装置および液滴吐出ヘッドの固定方法、並びに液晶表示装置の製造方法、有機EL装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、PDP装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機ELの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法
68 フィルム溶着方法、製品、テープ及び流路形成方法
69 基板の割断方法、電気光学装置の製造方法
70 基板の割断方法、電気光学装置の製造方法
71 基板の割断方法、電気光学装置の製造方法
72 パターン形成方法及び液滴吐出装置
73 パターン形成方法及び液滴吐出装置
74 パターン形成方法及び液滴吐出装置
75 パターン形成方法及び液滴吐出装置
76 ヘッドキャップの管理方法、吸引ユニットおよび液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器
77 パターン形成方法及び液滴吐出装置
78 ヘッドキャップ、吸引ユニットおよび液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器
79 塗布装置及び塗布方法
80 膜形成方法及び電気光学装置の製造方法
81 描画装置
82 薄膜形成方法及び薄膜形成装置
83 薄膜形成方法及び薄膜形成装置
84 薄膜形成方法及び薄膜形成装置
85 薄膜形成方法及び薄膜形成装置
86 ヘッドキャップ、吸引ユニットおよび液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器
87 液滴吐出装置の描画方法、液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器
88 薄膜形成方法及び薄膜形成装置
89 パターン形成方法及び液滴吐出装置
90 積層体の加工方法
91 積層体の加工方法
92 液滴吐出量測定方法、液滴吐出量測定用治具、液滴吐出量調整方法、液滴吐出量測定装置、描画装置、デバイス及び電気光学装置並びに電子機器
93 レーザ加工装置
94 裁断システム制御プログラムおよび制御方法
95 液滴吐出装置
96 液滴吐出量測定方法、液滴吐出量測定用治具、液滴吐出量調整方法、液滴吐出量測定装置、描画装置、デバイス及び電気光学装置並びに電子機器
97 液滴吐出装置の液滴着弾位置補正方法、液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器
98 ワーク処理方法、ワーク処理システム、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器
99 液滴吐出ヘッドの着弾位置検査方法、液滴吐出ヘッドの着弾位置検査装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器
100 液滴吐出方法および液滴吐出装置、並びに電気光学装置、電子機器

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