米国特許情報 | 欧州特許情報 | 国際公開(PCT)情報 | Google の米国特許検索
 
     特許分類
A 農業
B 衣類
C 家具
D 医学
E スポ−ツ;娯楽
F 加工処理操作
G 机上付属具
H 装飾
I 車両
J 包装;運搬
L 化学;冶金
M 繊維;紙;印刷
N 固定構造物
O 機械工学
P 武器
Q 照明
R 測定; 光学
S 写真;映画
T 計算機;電気通信
U 核技術
V 電気素子
W 発電
X 楽器;音響


  ホーム -> スポ−ツ;娯楽 -> 大都販売株式会社

発明の名称 メダル洗浄装置
発行国 日本国特許庁(JP)
公報種別 公開特許公報(A)
公開番号 特開2006−334196(P2006−334196A)
公開日 平成18年12月14日(2006.12.14)
出願番号 特願2005−163680(P2005−163680)
出願日 平成17年6月3日(2005.6.3)
代理人 【識別番号】100106448
【弁理士】
【氏名又は名称】中嶋 伸介
発明者 菊池 俊一 / 田中 良治
要約 課題
メダル洗浄の精度を高め、殺菌もできるドライ洗浄方式のメダル洗浄装置を提供する。

解決手段
ゲーム機やスロットマシンに使用するメダルや硬貨を収容するホッパー100と、ホッパーの出口102と連通し、前記メダル等を一列に整列させた状態にて流下搬送すると共に、該メダル等の表面を紫外線照射手段300に露出するための開口部201を有する蛇行したメダル搬送路200と、搬送途中のメダル等の表面に紫外線を照射するように設けられた紫外線照射手段300とを具備するメダル洗浄装置1。
特許請求の範囲
【請求項1】
ゲーム機やスロット機に使用するメダルや硬貨を収容するホッパーと、該ホッパーの出口と連通し、前記メダル等を一列に整列させた状態で流下搬送すると共に、該メダル等の表面を紫外線照射手段に露出するための開口部を有する蛇行したメダル搬送路と、搬送途中のメダル等の表面に紫外線を照射するように設けられた紫外線照射手段とを具備するメダル洗浄装置。
【請求項2】
前記紫外線照射手段と前記メダル搬送路との距離が15mm以下である、請求項1に記載のメダル洗浄装置。
【請求項3】
メダル等への紫外線照射時間が0.3秒以上である、請求項1または2に記載のメダル洗浄装置。
【請求項4】
メダル搬送路処理能力以上のメダル等を迂回させるバイパスをさらに具備する、請求項1〜3のいずれか一項に記載のメダル洗浄装置。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、主としてスロットマシン遊技場内で使用されるメダルや、ゲーム機に利用する硬貨を、ドライ洗浄するのに適したメダル洗浄装置に関する。
【背景技術】
【0002】
遊技場のスロットマシンで使用されるメダル、コインや硬貨(以下、メダル等という)は、使用につれ、人の皮脂、タバコの煙等さまざまな汚れが付着、堆積する。この汚れは、見た目に好ましくないばかりでなく、不衛生な印象を与える。そこで、スロットマシン遊技場では、通常、使用済みメダルを一旦回収し、専用のメダル洗浄装置で洗浄している。従来の洗浄装置は、ウエット方式のロール洗浄機が主流であって、メダルを搬送するベルト上にブラシロールをメダルの搬送方向と逆向きに回転するように設け、ブラシロールへ洗浄液を噴射する手段を設置し、搬送ベルトとブラシロールとの間にメダルをくぐらせてブラシロールの接触によりメダルを洗浄するものである。他にも、メダルをポリマーペレットと共に攪拌し、メダル表面の汚れを研磨するドライ方式の洗浄装置も開発されている。
【0003】
これらの方式は、有機物系の汚れの中でも人の皮脂やタバコのニコチン・タール成分といった比較的緩やかに付着したものを想定している。前記方式はそれらに対して一定の洗浄能力があるものの、メダル自体の清浄度はまだ満足ゆくレベルにない。さらに、ウエット洗浄方式の洗浄装置では、洗浄液の除去と乾燥の手段が必要となり、装置の構造が複雑となる。ポリ研磨方式の洗浄装置は、メダルの乾燥等の工程を必要としないものの、装置が大型になりやすく、またポリマーペレット更新等のメンテナンス作業が煩雑である。
【0004】
スロットマシン遊技場は、不特定多数の人間が頻繁に出入りし、また長時間遊技する間にトイレを利用するために、外部から病原菌を持ち込む等して、衛生的に良い環境とはいえない。メダルに不特定多数の人間が接触すると、メダルは細菌や真菌類の繁殖や感染の媒体となりうる。
【0005】
そこで、本発明者は、特開2005-80809号において、紫外線照射方式のメダル洗浄装置を提案した。この洗浄装置は、メダル等に付着した有機物を分解除去すると同時に、メダル表面に付着した細菌や真菌類の殺菌洗浄を行うことが可能である。
【特許文献1】特開2005−80809
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明の目的は、上記メダル洗浄装置の改良であって、より一層効率的に洗浄可能な装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0007】
上記課題を解決するために、本発明は、ゲーム機やスロット機に使用するメダルや硬貨を収容するホッパーと、該ホッパーの出口と連通し、前記メダル等を一列に整列した状態にて流下搬送すると共に、該メダル等の表面を紫外線照射手段に露出するための開口部を有する蛇行したメダル搬送路と、搬送途中のメダル等の表面に紫外線を照射するように設けられた紫外線照射手段とを具備するメダル洗浄装置を提供する。ここで、メダルの表面は、正面および/または背面を意味し、また、一列に整列した状態とは、メダル等の側面同士が隣接または対面するような態様をいう。
【0008】
メダルへの紫外線照射時間が0.3秒以上であることが好ましい。そして、前記光源とメダルとの距離が15mm以下であることが好ましい。
【0009】
本発明はまた、メダル搬送路処理能力以上のメダル等を迂回させるバイパスをさらに具備する前記メダル洗浄装置もまた提供する。
【発明の効果】
【0010】
請求項1の本発明のメダル洗浄装置は、特開2005-080809に記載の紫外線を利用したメダル洗浄装置と同様に、蛇行した搬送路中でメダルの表裏面を紫外線洗浄することで、メダル表裏面全体への照射と長期間の照射時間を実現する。しかし、本発明のメダル洗浄装置は、メダルの自重による流下搬送を特徴とする。これにより、特開2005-080809に記載されるようなメダル押送手段を設置する必要なく、メダル押送のための一定量のメダルの確保の必要もないなど、特開2005-080809発明にくらべて機構がより一層簡単となる。メダルの処理量が変動しても、メダル搬送路内の通過時間は不変であるため、洗浄処理の管理が容易である。本発明のメダル洗浄装置は、小型かつ簡易な構造であるため、低コストで作製可能であり、メンテナンスも容易である。スロットマシン等で構成される遊技機島内に設置することがきわめて容易であり、メダル洗浄作業の省力化に大いに貢献する。本発明のメダル洗浄装置を遊技機島とは独立に設置しても、あまり面積をとらない。
【0011】
請求項2の本発明のメダル洗浄装置は、紫外線照射手段とメダル搬送路との離隔を15mm以下としたので、紫外線照射手段による洗浄効果を最大限に引き出すことが可能となる。
【0012】
請求項3の本発明のメダル洗浄装置は、メダル等への一回の紫外線照射時間を0.3秒以上確保できればよい。短時間の照射は、装置のより一層の小型化を可能にする。
【0013】
請求項4の本発明のメダル洗浄装置は、メダル搬送路処理能力以上のメダル等を迂回させるバイパスをさらに具備する構成したので、搬送トラブルを生じない。なお、バイパスを通った未洗浄のメダルは、循環後、再度、ホッパーへ収容される。
【発明を実施するための最良の形態】
【0014】
以下、本発明のメダル洗浄装置を添付の図面を用いて説明する。図1は、本発明の洗浄装置の縦断面図であり、図2は、図1の装置を90°回転させた方向から見た側面図であり、図3は、図1のAA矢視横断面図である。このメダル洗浄装置1は、回収したメダル2を収容するホッパー100と、メダル搬送路200と、紫外線照射機構300とからなる。以下、各構成要素を順に説明する。
【0015】
ホッパー100は、上方および下方が開口し、上部開口101が、各スロットマシンから回収される使用メダル2をコンベア400等によって受け入れ、一方、下部開口102が、一旦蓄積されたメダル2をメダル搬送路200へ供給するためのホッパー出口となっている。ホッパー100の形状は、下方が先細りであればよく、円錐、角錐のいずれでもよく、またシュートでもよい。
【0016】
ホッパー100の上部開口101には、水平に設置されたコンベア400が設置されている。上記コンベア400は、通常、1個の駆動ローラ401と少なくとも1個の従動ローラ(図示せず)とを軸支したフレームと、該ローラに巻架した無端ベルトとからなる。コンベアの駆動ローラ401は、フレームに固定されたモータによりベルト、チェーン等の回転力伝達手段を介してそれぞれ図1の矢印方向に駆動される。
【0017】
コンベア400上には、メダル約1枚分の離隔を開けて、堰402が設置されている。堰402は、コンベア400上のメダル等を非積層状態へ分離して、ホッパー100内の通過を円滑にする。さらに、メダル搬送路200の処理能力以上のメダル等をここで堰き止め、バイパス103に迂回させる。
【0018】
ホッパーの下部開口102は、後述のメダル搬送路200の入口へ連通している。ホッパー100へ投入されたメダル2は、下部開口部102から、1枚ずつ分離されて、メダル搬送路200に順次送出される。
【0019】
メダル搬送路200は、一行程が下方に傾斜しながら蛇行している。下方に傾斜した蛇行搬送路は、流下時間が自由落下よりも延びるため、紫外線照射時間をより長く確保できる。紫外線の届かない範囲まで蛇行させると無駄となるため、蛇行する一行程は、後述の紫外線照射手段の紫外線照射域内に留めるのが望ましい。
【0020】
メダル搬送路200の両面には、メダル等の表面を紫外線照射手段300に露出するための開口部201を設けている。この開口部を介して、メダル等への紫外線照射が行われる。メダル等は、搬送路中を流下する際に、搬送路側面に当接して回転する。この回転に伴って、搬送路端でガイドされ隠れているメダル端部も開口部に現れるので、メダル全面に紫外線を照射することができる。より好ましくは、開口部201は、メダル等をガイドできる限度において、より広く開口している。
【0021】
図3のAA矢視断面図に示すように、蛇行したメダル搬送路200の両側に開口部201を設け、さらに紫外線照射手段300を設置して、両開口部から紫外線を照射することが、メダル等の洗浄効率を上げる点で好ましい。
【0022】
メダルの流下搬送時間が、通常、0.3秒以上、好ましくは2秒以上となるように、メダル搬送路の全長および蛇行する一行程の傾斜が調整される。この流下時間は、一回の紫外線照射時間でもある。メダル等は循環使用され、メダルの汚れは、複数回の紫外線照射によって徐々に軽減され、長期運転後に清浄となる。メダル等を紫外線照射手段で一度に洗浄しなくてもよいので、上記のような短時間の流下(照射)時間でも充分である。
【0023】
前記メダル搬送路の開口部201に対面するように紫外線照射手段300が敷設される。紫外線照射手段は、波長域130〜240nm(好ましくは170〜200nm)と、波長域200〜300nm(好ましくは240〜260nm)とにおいて発光スペクトルを有する光源301が好ましい。前記第一の波長域と第二の波長域が重複しているが、重複している波長域を使用する場合には1種類のスペクトルでよく、重複しない波長域を使用する場合には、2種類のスペクトルを使用する意味である。紫外線は、一般に広い波長域において光化学反応により有機物を分解する作用を有するが、紫外線を利用して得られるオゾンおよび活性酸素は、プラスチック系を含む有機物を水、二酸化炭素まで迅速に酸化分解して、揮散させることができる。波長130〜240nmのエネルギーの高い紫外線は、空気中の酸素に効率よく吸収され、酸素をオゾンに変える作用を有する。一方、200〜300nmの波長の比較的長い紫外線は、生成したオゾンに効率よく吸収され、特に光吸収の係数は240〜260nmで最大となり、オゾンを活性酸素に変える作用を有する。したがって、上記二帯域で発光ピークを有する光源を用いれば、メダルに付着したプラスチック系有機物の汚れを効率よく除去することができる。しかも、この波長域の紫外線は殺菌効果も有する。
【0024】
本発明のメダル洗浄装置は、人の皮脂やタバコの煙成分からプラスチック成分まで幅広い汚れ成分に対応し、さらに、表面に付着する菌の除去も可能である。本装置が対象とする汚れの具体例は、人の皮脂;機械油;タバコのニコチン・タール成分;ポリアミド、ABS、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル等のプラスチック;大腸菌、ビブリオ菌、レジオネラ菌のような細菌、ウイルス、真菌等の微生物;ならびに硫化メチル、二硫化メチル、メチメルカプタン、プロピオン酸、トリメチルアミン等の臭気成分である。
【0025】
光源301の具体的な候補としては、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、エキシマランプ、パルスドキセノンランプ等がある。ランプの形状は、図1の直管型のほかに、U字型、N字型、W字型、グリッド型等も適宜可能である。この中で、低圧水銀ランプが以下の2点の理由から好適である。まず、低圧水銀ランプは、水銀の共鳴線である253.7nmの光が最強のスペクトル線なので、オゾン分解に利用できる。さらに、低圧水銀ランプは、もう1つの共鳴線184.9nmの光を放出しており、この光が空気中の酸素から光化学反応でオゾンを生成させる。よって、低圧水銀ランプは、スペクトル強度の高い184.9nmと253.7nm線の両方をメダルの洗浄に利用できる。本洗浄装置1において、メダル2の殺菌の最大限に発揮するためには、光源は254nm付近に発光スペクトルを有するものが好ましく、低圧水銀ランプは、殺菌効果の面からも好ましい。
【0026】
本洗浄装置は、上記光源を、200mWsec/cm以上、好ましくは450mWsec/cm以上露光量で放出するように設置する。露光量が200mWsec/cmより少なすぎると、プラスチック系有機物の分解、揮散する能力不足となる場合がある。なお、単独の光源では露光量が足りない場合には、複数の光源を縦横に配列すればよい。
【0027】
光源301から発生した紫外線は、大気中に容易に吸収されやすいので、本洗浄装置は、搬送されるメダル2に近接するほど有利である。具体的には、光源301とメダルとの距離で50mm以下が好ましく、特に好ましくは15mm以下である。
【0028】
光源301の使用は、連続的、間歇的のいずれでもよい。メダルの汚れがひどいときには紫外線を連続照射し、汚れが減じてきたら間歇運転に切り替えることが、省エネルギーや光源を長持ちさせる点で有利である。その場合、光源のオンオフによる劣化を防止するために、複数の光源を一度にオンオフするよりも、それらを状況に応じて間引き運転することが好ましい。
【0029】
本発明のメダル洗浄装置へ、以下に示すような装置や部材を適宜付設してもよい。例えば、下部開口102のメダル詰まり防止のために、ホッパー100の外周にバイブレータを設置する。バイブレータの振動によって、下部開口102に貯留したメダルが揺動され、順次、開口から一枚ずつ払い出され易くなる。バイブレータは、ホッパー内のメダル詰まりを解消する機能も有する。下部開口102にスクリュー式攪拌機を縦置または横置しても、同様の効果が得られる。そのほか、メダル回収機で汎用されているメダル順送り機構をホッパー100に転用することもできる。
【0030】
図1のコンベア上での堰402の代わりに、ホッパーの上部開口101の一部に切欠きを設けて、ホッパーから溢れるメダル等をバイパス103に通すようにしてもよい。こうすることで、メダル搬送路の収容能力以上のメダル等がホッパー100に収容されても、詰まりなどの搬送トラブルを生じない。バイパス103を通った未洗浄のメダル等は、循環して、再度、ホッパー100へ収容される。
【0031】
バイパス103内に、邪魔板のような落下するメダルへの障害物を複数設置し、さらに紫外線照射手段を付設してもよい。こうすることで、バイパスを通るメダル等への洗浄も可能となる。
【0032】
光源301の搬送路とは反対側の背面に、断面山型のアルミ製紫外線反射板(図示せず)を設置する。反射板は、メダルへの紫外線照射効率を改善する。反射板をランプ側に傾斜することによって、紫外線の発散を防ぐ。
【0033】
メダル搬送路200の下流には、集塵機構(図示せず)を設けてもよい。集塵機構は、通常、集塵フィルタと吸引ファンからなる。
【0034】
本発明のメダル洗浄装置には、ブラシ、バフ、ポリマーペレット等を使用した既存の物理研磨装置を付設してもよい。
【0035】
次に、本洗浄装置の使用方法を説明する。本メダル洗浄装置は、ゲーム機やスロットマシンからなる島、メダル回収機等からコンベア400にて回収されるメダル2をホッパー100が受け取り、それを下部開口から1〜2枚ずつ、メダル搬送路200へ払い出す。メダル2は、自重によってメダル搬送路200を蛇行しながら流下する。本発明のメダル洗浄装置では、メダル等を一列に連続させて押送する必要がないため、ホッパー100から払い出されるメダル等は、待ち時間なくリアルタイムに処理される。メダル2は、メダル搬送路を流下する途中で、メダル表面を紫外線照射手段300に露出するための開口部201を介して光源301からの紫外線を浴びる。メダル2は非積層状態で送られるので、メダル等の表裏両面が紫外線を浴びることになる。入射した紫外線によってメダル表面にオゾンが発生し、さらにオゾンが分解して活性酸素が発生する。オゾンおよび活性酸素の酸化作用が、メダルの一面に付着した有機系の汚れを酸化分解、揮散させる。さらに、紫外線、オゾンおよび活性酸素が、メダル玉表面を殺菌する。メダル搬送路の終端では、洗浄および殺菌されたメダルが適宜のメダル回収手段内に回収される。
【産業上の利用可能性】
【0036】
本発明の洗浄装置は、主にスロットマシン遊技場の既存の洗浄装置の代替手段として好適である。本発明の洗浄装置は、スロットマシンに使用される擬似硬貨以外に、通常の硬貨の洗浄装置としても使用可能である。
【図面の簡単な説明】
【0037】
【図1】本発明のメダル洗浄装置の一実施態様を示す断面図である。
【図2】図1のメダル洗浄装置をB方向から見た側面図である。
【図3】図1の洗浄装置のAA矢視断面図である。
【符号の説明】
【0038】
1 メダル洗浄装置
2 メダル等
100 ホッパー
101 上部開口
102 下部開口
103 バイパス
200 メダル搬送路
201 開口部
300 紫外線照射手段
301 光源
400 コンベア
401 駆動ローラ
402 堰




 

 


     NEWS
会社検索順位 特許の出願数の順位が発表

URL変更
平成6年
平成7年
平成8年
平成9年
平成10年
平成11年
平成12年
平成13年


 
   お問い合わせ info@patentjp.com patentjp.com   Copyright 2007-2013