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番号 発明の名称
1 画像表示装置およびその製造方法
2 偏向ヨーク装置
3 プラズマ処理装置及び可変パワー分配器
4 非水電解質電池用負極材料、負極、非水電解質電池及び非水電解質電池用負極材料の製造方法
5 非水電解液二次電池
6 電池パック及びAC/DC変換回路基板付き電池パック
7 燃料電池用の燃料組成物
8 非水電解液二次電池およびその製造方法
9 半導体記憶装置及びその製造方法
10 半導体レーザ装置
11 コネクタの固定構造、印刷配線板およびコネクタ固定方法
12 プリント基板及びプリント基板検査装置
13 絶縁ゲート型半導体装置
14 半導体装置
15 半導体装置
16 受光素子及び光半導体装置
17 磁気記憶装置及びその製造方法
18 半導体装置
19 高耐圧半導体装置及びその製造方法
20 磁気記憶装置の製造方法
21 電界効果型トランジスタおよびその応用装置
22 半導体積層基板および光半導体素子
23 X線検出器
24 半導体試験装置、半導体装置試験用コンタクト基板、半導体装置の試験方法、半導体装置及びその製造方法
25 固体磁気素子及び固体磁気素子アレイ
26 磁性体論理素子及び磁性体論理素子アレイ
27 MOSFET、その製造方法及びそれを用いた光半導体リレー装置
28 半導体装置
29 電力変換装置
30 窒化ガリウム系化合物半導体レーザ及びその製造方法
31 突き上げピンおよび半導体製造装置および半導体装置の製造方法
32 半導体装置の製造方法
33 携帯無線通信装置
34 平衡型増幅器及びこれを用いたフィルタ並びに電圧電流変換回路
35 可変電流分割回路
36 クライストロン装置
37 電子放出素子及びその製造方法
38 真空バルブ
39 真空遮断器
40 電子銃の検査方法およびその装置
41 画像表示装置およびその製造方法
42 半導体装置及び容量調節回路
43 半導体装置
44 半導体レーザ及びその製造方法
45 半導体装置及びその製造方法
46 半導体集積回路及びアナログ回路特性調整方法
47 半導体装置および半導体装置のパッケージ方法
48 半導体レーザダイオード及びその製造方法
49 半導体発光素子、半導体発光素子の製造方法
50 荷電ビーム描画装置及び描画方法
51 CMOS出力バッファー回路
52 発振回路及び半導体装置
53 転流コンデンサの充電装置
54 基板の処理装置および基板の処理方法
55 半導体装置及びその製造方法
56 ダブルへテロ接合バイポーラトランジスタ
57 半導体装置及びその製造方法
58 半導体装置
59 半導体装置
60 プリント配線用基板
61 変圧器のタップ切換装置
62 不揮発性半導体記憶装置
63 圧接型半導体装置
64 アンテナアレー及び無線装置
65 アンテナ装置とこのアンテナ装置を備えた移動通信端末
66 画像表示装置の製造方法
67 有機EL材料塗布装置とその塗布方法および有機EL表示装置
68 有機EL表示パネル製造のためのインクジェット塗布装置および塗布方法
69 押釦装置
70 画像表示装置の製造方法
71 磁気メモリ装置
72 電極基板
73 半導体装置の製造方法及び半導体製造装置
74 放送受信装置及び放送受信方法
75 ICP質量分析装置及びその分析方法
76 真空遮断器
77 真空遮断器
78 複合絶縁体および複合絶縁体を用いた開閉器
79 複合碍管ブッシング
80 リチウム二次電池
81 多結晶半導体膜の製造方法、薄膜トランジスタの製造方法、表示装置、およびパルスレーザアニール装置
82 研磨装置、研磨方法、および半導体装置の製造方法
83 フレキシブルプリント回路基板ユニット、ヘッドアクチュエータアッセンブリ、およびこれを備えたディスク装置
84 電子機器
85 回路基板および電子機器
86 半導体装置及び半導体装置の製造方法
87 半導体装置
88 電界効果トランジスタ及びその製造方法
89 電力用変圧器およびその冷却方法
90 露光量モニタ方法及び半導体デバイスの製造方法
91 半導体装置及びその製造方法
92 電子デバイスの接続方法
93 半導体装置の製造方法及び製造装置
94 半導体発光装置および画像表示装置
95 画像表示装置
96 表示装置及びスペーサ部材
97 半導体装置及びその製造方法
98 半導体装置及びその製造方法
99 流路管用熱電変換モジュール
100 固体撮像装置

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