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番号 発明の名称
1 X線イメージ管装置及びこれを用いたX線検査システム
2 X線管
3 X線管
4 半導体デバイス検査装置
5 半導体検査装置
6 固体撮像装置
7 半導体装置の製造方法
8 半導体装置及びその製造方法
9 半導体装置の製造方法
10 半導体装置及びその製造方法
11 半導体装置及びその製造方法
12 半導体装置及びその製造方法
13 光検出装置
14 レーザ装置
15 半導体レーザ装置
16 投受光装置
17 投受光装置
18 撮像デバイスとその動作方法
19 半導体レーザ装置
20 半導体位置検出器
21 測距装置
22 半導体素子及びその製造方法
23 半導体レーザ装置
24 半導体光電陰極及びそれを用いた光検出器及びそれを用いた光検出装置
25 集光装置
26 半導体レーザ装置
27 化合物半導体発光材料、その製造方法、波長可変レーザ及び赤外光源
28 ロッドレンズ、ロッドレンズ用ホルダー及びロッドレンズ付きLDアレイ
29 開放型X線発生装置
30 非破壊検査装置
31 半導体発光素子
32 レーザ加工装置
33 X線イメージ管
34 受光素子
35 光位置検出装置
36 光源装置
37 光源装置
38 多層プリント基板のビアホール形成装置
39 光電子放出面とこれを利用した光検出器
40 ストリーク装置
41 光電子増倍管
42 ビューポート、光源付きビューポート、ビューポートガラス窓の透過状態測定装置、プラズマモニタ装置およびプラズマ処理方法
43 光電子又は二次電子放射用陰極、光電子増倍管及び電子増倍管
44 除電機能付き熱処理装置
45 厚み計測装置、及びそれを用いたウエットエッチング装置、ウエットエッチング方法
46 光 源
47 半導体受光素子及びその製造方法
48 半導体受光素子
49 光追尾センサ
50 半導体レーザ装置
51 ガス放電管
52 ガス放電管及び光源装置
53 光源装置
54 製造システム
55 信号処理回路
56 蛍光体層およびその製造方法
57 電子増倍管及び光電子増倍管
58 半導体エネルギー検出素子
59 固体撮像装置
60 放射線検出器
61 半導体受光装置
62 冷却機能付き光照射式静電気除去装置
63 厚み計測装置、及びそれを用いたウエットエッチング装置、ウエットエッチング方法
64 電子デバイスの製造方法
65 半導体エネルギー検出素子
66 光電陰極
67 半導体エネルギー検出素子
68 光 源
69 光 源
70 マイクロチャネルプレート
71 電子増倍器
72 イオン検出器及び電子増倍器
73 質量分析装置
74 イオン検出器
75 ホトダイオードアレイ

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