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番号 発明の名称
1 フラッシュEEPROMセル及びその製造方法
2 フラッシュメモリセルの製造方法
3 SOI素子及びその製造方法
4 半導体生産ベイを自動的に管理するためのシステム、方法及び記録媒体
5 半導体素子の製造方法
6 CMOSトランジスタ製造方法
7 フラッシュメモリ素子、その製造方法及び消去方法
8 スタックトゲート型フラッシュEEPROMセルのゲート形成方法
9 ウェーハレベルパッケージ及びその製造方法
10 ウェーハレベルスタックパッケージ及びその製造方法
11 チップサイズスタックパッケージ及びその製造方法
12 チップサイズスタックパッケージ及びメモリモジュールとその製造方法
13 半導体メモリデバイス及びその製造方法
14 メモリセルに使用する半導体デバイス及びその製造方法。
15 半導体デバイス及びその製造方法
16 半導体メモリ素子のキャパシタ及びその製造方法
17 半導体素子のキャパシタ製造方法
18 半導体メモリ素子のキャパシタ及びその製造方法
19 半導体メモリ素子のキャパシタ及びその製造方法
20 ダマシン及び化学的機械的研磨工程を用いたMOSトランジスタの形成方法
21 電界放出表示素子
22 半導体工場自動化システム及び自動化方法
23 半導体素子のコンタクトパッド形成方法
24 半導体デバイス及びその製造方法
25 イメージセンサ及びその製造方法
26 半導体素子の製造方法
27 パワーオンリセット回路
28 パワーオンリセット回路
29 強誘電体メモリセルに用いられる絶縁層の平坦化方法
30 不揮発性強誘電体メモリ・デバイス及びその製造方法
31 半導体メモリ素子のキャパシタ及びその製造方法
32 半導体メモリ素子のキャパシタ及びその製造方法
33 半導体メモリ素子のキャパシタの製造方法
34 半導体メモリ素子のキャパシタ形成方法
35 半導体ウェーハのロットを処理するための半導体工場自動化装置及び自動化システム並びに自動化方法とその記録媒体
36 ストッカーモニタリング装置及びストッカーモニタリング用半導体工場自動化システムとその自動化方法
37 半導体メモリ素子のキャパシタ及びその製造方法
38 半導体素子の製造方法
39 半導体素子のトランジスタ及びその製造方法
40 半導体工場自動化装置及び自動化システム並びに自動化方法と記録媒体
41 半導体工場自動化装置及びその自動化システム並びにその自動化方法
42 一対の拡散防止膜を備える半導体素子及びその製造方法
43 半導体デバイス及びその製造方法
44 エレベイテッドソース及びドレイン領域を有するトランジスタ製造方法
45 半導体ウェーハを測定する測定装備を制御するための半導体工場自動化システム及び自動化方法
46 半導体素子のキャパシタ製造方法
47 電荷転送デバイス
48 半導体素子のコンタクト形成方法
49 半導体素子の金属配線形成方法
50 半導体メモリ素子のキャパシタ形成方法
51 半導体素子のキャパシタ製造方法
52 不揮発性強誘電体メモリ素子並びにその製造方法
53 SOI素子及びその製造方法
54 アナログデジタルコンバータ
55 半導体素子の製造方法
56 不揮発性強誘電体メモリ素子並びにその製造方法
57 キャパシタを備えた半導体素子及びその製造方法
58 パルス発生器
59 SOIウェーハの製造方法
60 半導体素子の同期式フリップフロップ回路
61 半導体素子の金属配線並びにその製造方法
62 フラッシュEEPROMセル及びその製造方法
63 フラッシュメモリ素子のCAMセル
64 フラッシュメモリ素子
65 ウェーハレベルパッケージ
66 半導体メモリ素子及びその製造方法
67 キャパシタを含む半導体メモリ素子製造方法
68 フラッシュメモリ素子の製造方法
69 フラッシュメモリ素子
70 フラッシュメモリ素子の製造方法
71 フラッシュメモリのソースコンタクトモニタリング方法
72 半導体素子のカラムトランジスタ
73 キャパシタを備えた半導体素子及びその製造方法
74 半導体素子のオーバーレイバーニヤ形成方法
75 フラッシュメモリ素子の製造方法
76 フラッシュメモリ素子の製造方法
77 半導体素子のキャパシターの製造方法
78 誘電体膜としてTa2O5薄膜を用いるTa2O5キャパシターの製造方法
79 半導体素子のキャパシタ製造方法
80 平面形マイクロストリップパッチアンテナ
81 マルチビットフラッシュメモリセル及びこれを用いたプログラム方法
82 フラッシュメモリ素子の製造方法
83 マルチレベルフラッシュEEPROMセル及びその製造方法
84 フラッシュメモリのゲート電極製造方法
85 不揮発性強誘電体メモリ素子並びにその製造方法
86 半導体装置のキャパシターの製造方法
87 電気メッキ法を利用して下部電極を形成する方法
88 半導体素子のキャパシタ製造方法

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