米国特許情報 | 欧州特許情報 | 国際公開(PCT)情報 | Google の米国特許検索
 
     特許分類
A 農業
B 衣類
C 家具
D 医学
E スポ−ツ;娯楽
F 加工処理操作
G 机上付属具
H 装飾
I 車両
J 包装;運搬
L 化学;冶金
M 繊維;紙;印刷
N 固定構造物
O 機械工学
P 武器
Q 照明
R 測定; 光学
S 写真;映画
T 計算機;電気通信
U 核技術
V 電気素子
W 発電
X 楽器;音響


  ホーム -> 電気素子 -> セイコーインスツルメンツ株式会社

番号 発明の名称
1 イオンビームを用いた加工方法
2 リセット回路
3 コイン型あるいはボタン型電池およびそのホルダ
4 有機EL表示装置、及び、有機EL素子の駆動方法
5 シリコンウエハの切断方法
6 携行型電子機器
7 バンプ電極を有する半導体装置
8 表面電位に基づく孤立パターン検出方法及びその装置
9 半導体集積回路装置
10 予測型増幅回路
11 初期化信号発生回路
12 半導体集積回路装置
13 熱電変換素子とその製造方法
14 防水スイッチ構造
15 非水電解質二次電池
16 集束イオンビームを用いた加工方法
17 半導体装置とその製造方法
18 半導体不揮発性メモリとその製造方法
19 半導体装置
20 半導体集積回路および半導体集積回路の製造方法
21 四重極型プラズマイオン源質量分析装置
22 四重極型プラズマイオン源質量分析装置
23 圧電アクチュエータ
24 電気化学セル
25 半導体製造装置
26 超伝導放射線検出素子
27 フォトダイオード
28 SmCo永久磁石粉体の製造方法と永久磁石粉体、及びボンド磁石
29 超伝導デバイス
30 ラッチ回路
31 磁石製造方法とその磁石
32 半導体装置の製造方法
33 半導体装置および半導体装置の形成方法
34 半導体装置
35 非水電解質二次電池
36 電子回路装置及び液晶表示装置
37 のこぎり波発生回路
38 半導体装置の組立方法
39 集束イオンビーム装置のレンズ保護用絞り
40 走査顕微鏡装置
41 電子情報機器
42 半導体装置
43 ADコンバータ回路
44 有機EL素子
45 水晶振動子の製造方法
46 圧電振動子とその製造方法
47 電子線装置
48 縦形MOSトランジスタ及びその製造方法
49 半導体装置
50 イオンビーム加工位置補正方法
51 半導体装置の電極パッド構造
52 半導体装置および半導体装置の形成方法
53 電子機器
54 半導体選別装置
55 非水電解質電池および電気二重層キャパシタ
56 水晶振動子の製造方法
57 半導体装置およびその製造方法
58 希土類磁石の製造方法
59 半導体装置
60 超伝導X線検出素子のトンネル酸化膜形成方法
61 圧電振動子の電極構造
62 有機EL発光素子
63 半導体装置及びその製造方法
64 水晶振動子およびその製造方法
65 耐熱非水電解質二次電池
66 半導体装置
67 半導体パッケージおよびリードフレームの製造方法
68 搬送用トレイ
69 発信回路
70 半導体装置
71 電子部品、回路基板または半導体デバイスへの導電材料供給方法
72 半導体酸化炉外部燃焼装置
73 半導体装置の製造方法
74 縦形MOSトランジスタ及びその製造方法
75 縦形MOSトランジスタ及びその製造方法
76 トンネル接合素子及びその製造方法
77 受光回路
78 受光回路
79 増幅回路
80 リミッタ回路
81 閾値設定回路
82 充放電制御回路および充電式電源装置
83 携帯機器の腕装着装置
84 コイルブロック及びその製造方法
85 電子機器
86 小型電子機器
87 電子回路装置
88 圧電機能部品製造治具および圧電機能部品製造方法
89 圧電発振器
90 圧電振動子
91 半導体不揮発性メモリとその製造方法
92 半導体装置
93 半導体装置の製造方法
94 半導体装置およびその製造方法。
95 熱電素子及びその製造方法
96 半導体不揮発性メモリとその製造方法
97 半導体装置とその製造方法
98 縦形MOSトランジスタ及びその製造方法
99 スイッチングレギュレータのプリドライバ回路

[1]
 

 


     NEWS
会社検索順位 特許の出願数の順位が発表

URL変更
平成6年
平成7年
平成8年
平成9年
平成10年
平成11年
平成12年
平成13年


 
   お問い合わせ info@patentjp.com patentjp.com   Copyright 2007-2013