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発明の名称 基板保持機構
発行国 日本国特許庁(JP)
公報種別 公開特許公報(A)
公開番号 特開2001−77180(P2001−77180A)
公開日 平成13年3月23日(2001.3.23)
出願番号 特願平11−252496
出願日 平成11年9月7日(1999.9.7)
代理人
発明者 宮 尾 裕 文
要約 目的


構成
特許請求の範囲
【請求項1】 基板を静電吸着によりチャックする面を有する静電チャック体のチャック面に1個以上の固定ピンを設け、この固定ピンに基板のノッチ/オリフラを接触させた状態で基板を前記チャック面に静電吸着させるように成した基板保持機構において、その取り付け軸を支点として傾斜可能に成し、基板のセット時にその基板接触部が前記チャック面から上方に出る様に傾斜され、該基板接触部が前記チャック面から上方に出た状態を保って一定方向に傾斜角度を変えていき、基板のノッチ/オリフラが前記固定ピンに接触した時に前記基板接触部が前記チャック面とほぼ面一になるように成した補助レバーを静電チャック体に設けた基板保持機構。
【請求項2】 基板を静電吸着によりチャックする面を有する静電チャック体のチャック面に1個以上の固定ピンを設け、この固定ピンに基板のノッチ/オリフラを接触させた状態で基板を前記チャック面に静電吸着させるように成した基板保持機構において、その取り付け軸を支点として傾斜可能に成し、基板のセット時にその基板接触部が前記チャック面から上方に出る様に傾斜され、該基板接触部が前記チャック面から上方に出た状態を保って一定方向に傾斜角度を変えていき、基板のノッチ/オリフラが前記固定ピンに接触した時に前記基板接触部が前記チャック面とほぼ面一になるように成し、静電吸着を解除し、前記基板接触部が前記チャック面から上方に出た状態を保って前記傾斜方向と逆の方向に傾斜角度を変えていき、基板のセット時の状態に戻るように成した補助レバーを静電チャック体に設けた基板保持支持機構。
【請求項3】前記補助レバーの一部に軸を接続し、該軸を直線運動させることにより、前記補助レバーを傾斜させるように成した請求項1,2記載の基板保持支持機構。
【請求項4】前記基板を押圧体により押圧する事により、前記補助レバーを傾斜させるように成した請求項1,2記載の基板保持支持機構。
【請求項5】前記補助レバーの前記基板接触部が摩擦係数の大きな材料で成した請求項1,2記載の基板保持支持機構。
【請求項6】 静電チャック体のチャック面に穴を開け、該穴内に補助レバーを取り付けた軸を取り付けた請求項1〜2記載の基板保持機構。
【請求項7】 静電吸着時以外においては前記チャック面に基板が接触しないように前記補助レバーが基板を支持できるように、各々間隔を開けて3個以上の補助レバーを設けた請求項1〜2記載の基板保持機構。
【請求項8】 前記静電チャック体の中央部にウエハを載置して少なくとも上下動可能なテーブルが通過できる穴が開けられている請求項1〜2記載の基板保持機構。
【請求項9】 少なくとも前記テーブルと駆動軸が前記静電チャック体に設けられた穴内に設けられている請求項8記載の基板保持機構。
発明の詳細な説明
【0001】
【発明の属する分野】本発明は、荷電粒子ビーム装置の基板保持機構に関する。
【0002】
【従来の技術】描画装置においては、例えば、ウエハの如き基板上にICパターンを描画している。又、観察,検査,分析,測定装置等においては、ICパターンが描かれた基板(この様な基板を通常、試料と称している)について、それぞれパターンの観察,パターン欠陥等の検査,基板上に付着しているごみ等の分析,パターンの測長等を行っている。
【0003】通常、前記描画,観察,検査,分析,測定等の処理を行う処理チャンバーの隣に、ゲートバルブを介して予備チャンバーが設けられており、ウエハの如き基板を予備チャンバーを介して外部(大気側)から処理チャンバーへ入れたり、処理チャンバーから外部へ出したりしている。
【0004】尚、前記予備チャンバーにおいては基板の一次アライメントが行われており、該一次アライメントを行った基板を処理チャンバーに送って、そこで精密なアライメントを行った後、所定の処理を行うようにしている。
【0005】図1はこの様な装置の一例を示したもので、1は処理チャンバーの一例で、走査電子顕微鏡の試料室で、その上には電子銃,集束レンズ,対物レンズ,偏向コイル等の電子光学系を備えた鏡筒が載っている。該試料室内部にはX方向及びY方向に移動可能なステージ2が設けられており、該ステージ2上にウエハ3が載置される。
【0006】該試料室には隣接して予備チャンバー4が設けられており、該試料室1と予備チャンバー4との間にはゲートバルブ5が設けられており、両室は独立に真空排気されるように構成されている。
【0007】該予備チャンバー4内には、ウエハ3をホールドするためのホルダ台6、ウエハ3を載せるテーブル7、該テーブルを上下移動及び回転させるための駆動軸8,該駆動軸の駆動機構9、アーム付きウエハ搬送機構10が備えられている。尚、ホルダ台6にはテーブル7を通過させるための孔が開けられている。又、該予備チャンバーと外部(大気側)との間にはゲートバルブ11が設けられている。
【0008】12は複数のウエハを貯蔵したキャリアで、テーブル13の上に載置されている。14は該テーブルを上下移動させるための駆動軸である。15は該駆動軸14の駆動機構、16はアーム付きウエハ搬送機構である。
【0009】この様な装置において、ゲートバルブ5を閉じ、ゲートバルブ11を開けた状態で、キャリア12に貯蔵されたウエハを予備チャンバー4内に運ぶ。その時、予備チャンバー4内においては駆動機構9によって駆動された駆動軸8によりテーブル7がホルダ台6の上面より所定の距離だけ上方に移動されており、この状態でテーブル13の上下動により取り出すべきウエハの棚をウエハ搬送位置に持って来て、ウエハ搬送機構16のアーム(図示せず)にキャリア12内のウエハを載せ、予備チャンバー4内のテーブル7上に載せる。そして、ウエハ搬送機構16を外部に移動させた後にゲートバルブ11を閉じ、駆動機構9によって駆動された駆動軸8によりテーブル7を適宜回転させ、ウエハ3をアライメントし(この様なアライメントは従来から行われているので特に説明しない)、該アライメント後に駆動機構9によって駆動された駆動軸8によりテーブル7を下降させ、ウエハ3をホルダ台6にホールドさせる。そして、ゲートバルブ5を開け、予備チャンバー4内において、ホルダ台6上でのウエハ3の固定状態を解除した後、駆動機構9により駆動された駆動軸8によりテーブル7をホルダ台6の上面より所定の距離だけ上方に移動させ、ウエハ搬送機構10のアーム(図示せず)にテーブル7上のウエハ3を載せ、試料室1のステージ2上に載せる。そして、ウエハ搬送機構10を予備チャンバー4内に戻してからゲートバルブ5を閉じる。そして、試料室1内においてステージ2上のウエハの位置の微調整が行われた後、ステージ2の移動によって観察すべきウエハ3内の領域が走査電子顕微鏡の光軸位置に移動させられ、該領域の観察が実行される。
【0010】試料室1からウエハを予備チャンバー4に取り出す時は、ゲートバルブ5を開け、ウエハ搬送機構10のアーム(図示せず)に試料室1内のステージ2に載置された検査済みウエハを載せ、予備チャンバー4内でホルダ台6上面より上に来ているテーブル7に載せ、ゲードバルブ5を閉じる。そして、該テーブルを下降させて一旦ウエハ3をホルダ台6に固定する。そして、ゲートバルブ11を開け、ホルダ台6の固定を解除した後、駆動機構9により駆動された駆動軸8によりテーブル7をホルダ台6の上面より所定の距離だけ上昇させ、この状態でウエハ搬送機構16のアーム(図示せず)にテーブル7上のウエハを載せ、外部に運び出し、テーブル13の上下動によりウエハ搬送位置に来たキャリア12の所定の棚に戻す。
【0011】図2は試料室の一概略例を示したもので、前記図1で使用された記号と同一記号の付されたものは同一構成要素である。
【0012】図中17はステージ2の上に固定された静電チャックプレートで、円筒状に形成されている。該静電チャックプレートは絶縁部材から作られており、肉厚部内にはドーナツ状の電極18が設けられている。又、該チャックプレートの空間部17Kにはテーブル19,該テーブルを上下方向(光軸方向)に移動させるための駆動軸20、該駆動軸の駆動機構21が設けられている。
【0013】22はステージ2と静電チャックプレート17に亘って設けられたアースピンで、ウエハ3に接触することにより該ウエハをアースに落とすためのものである。23は前記電極18に正の電圧を印加するための電源である。
【0014】図3は図2において、ウエハ3が載せられた静電チャックプレートをウエハ上方から見た場合の図で、静電チャックプレート17には固定ピン24、押し付け用可動ピン25,26、押し戻し用可動ピン27,28が設けられている。前記各可動ピン25,26,27,28は各専用の押し棒29,30,31,32の押圧により長穴33,34,35,36の中で、図の左右方向に移動可能となっている。又、押し付け用可動ピン25,26は真空チャックプレート17に設けられたバネ(図示せず)等により図の右側に引っ張られており、それぞれ押し棒29,30により押されることにより図の左方向に移動する様になっている。同じ様に、押し戻し用可動ピン27,28は真空チャックプレート17に設けられたバネ(図示せず)などにより図の左側に引っ張られており、それぞれ押し棒31,32により押されることにより図の右方向に移動する様になっている。
【0015】しかして、ゲートバルブ5を開け、予備チャンバー4内においてアライメントされたウエハ3をウエハ搬送機構10のアーム(図示せず)に載せ、該アームがゲートバルブ5を通って試料室1内に入って来る。この際、駆動機構21により駆動された駆動軸20によってテーブル19が所定の位置まで上昇する。そして、前記ウエハ搬送機構10はアーム(図示せず)に載せたウエハ3を該テーブル19上に載せると、予備チャンバー4内に戻り、ゲートバルブ5が閉じられる。
【0016】次に、駆動機構21により駆動された駆動軸20によってウエハ3を載せたテーブル19は下降し、その結果、ウエハ3が静電チャックプレート17上に載置される(図3の(a))。このテーブル19から静電チャックプレートのチャック面に置かれた状態のウエハの位置をウエハの基準位置と称す。この状態からウエハ3の位置決め操作が次の様に行われる。尚、ウエハ3としては、例えば、ノッチ37付きのものとした。
【0017】先ず、押し棒29,30により押し付け用可動ピン25,26を図の左方向に押すことにより、該各可動ピンを介してウエハ3を左方向に移動させ、ノッチ37と固定ピン24を完全に接触させる(図3の(b))。この時点で位置決め操作が終了する。この時のウエハの位置を位置決め終了位置と称す。
【0018】この状態において、電源23を作動させ、静電力によりウエハ3を静電チャックプレート17のチャック面上に吸着させる。そして、この状態で、走査電子顕微鏡による像観察等が行われる。
【0019】次に、試料室1からウエハを予備チャンバー4に取り出す時は、次の操作が行われる。
【0020】電源23の作動を停止させ(電源23を切り)、静電力による吸着を解いた状態において、押し棒29,30を図の右方向に移動させ、押し付け用可動ピン25,26を元の位置に戻し、更に、押し棒31,32によって押し戻し用可動ピン27,28を図の右方向に押すことにより、該各可動ピンを介してウエハ3を右方向に移動させ、ノッチ37と固定ピン24を離す。このノッチ37と固定ピン24が所定の距離離れたところで(図3の(a))、押し棒31,32を図の左方向に移動させて押し戻し用可動ピン27,28を図の左方向に移動させ、元の位置に戻す。この状態で、駆動機構21により駆動された駆動軸20によってウエハ3を載せたテーブル19を所定の位置まで上昇させる。
【0021】この時、ゲートバルブ5を開け、ウエハ搬送機構10のアーム(図示せず)に前記テーブル19に載置されたウエハを載せ、予備チャンバー4内でホルダ台6上面より上に来ているテーブル7に載せ、ゲードバルブ5を閉じる。
【0022】
【発明が解決しようとする課題】さて、前記静電チャックプレート17上に次々に別のウエハが載せられてウエハの観察等が行われるわけであるが、該静電チャックプレート17には残留電荷に基づく残留吸着力が存在し、更に、この静電チャックプレトート17のチャック面とウエハの間に摩擦力が働く。その為に、ウエハ3を静電チャックプレート17上においた時点(電源23はオフの状態にある)で、前記残留吸着力と摩擦力に基づき、ある程度の力でウエハ3が静電チャックプレート17のチャック面上に吸着されてしまう。その為に、前記押し付け用可動ピン25,26の押圧によるウエハ3の位置合わせ(ノッチ37と固定ピン24の合わせ)がスムーズに行かない。この結果、ウエハ3が所定以外の方向にずれてしまう。
【0023】又、観察等の終了したウエハを静電チャックプレート17から外す場合、前記電源23を切っているにも拘わらず、前記残留吸着力と摩擦力に基づき、ある程度の力でウエハ3が静電チャックプレート17のチャック面上に吸着されているので、前記押し戻し用可動ピン27,28の押圧によるウエハ3の基準位置へに移動がスムーズに行かない。この結果、ウエハ3が所定以外の方向にずれてしまう。
【0024】更に、この際、前記残留吸着力と摩擦力に基づき、テーブル19によるウエハ3の持ち上げもスムーズに行かない。この結果、ウエハが基準位置から大きくずれてしまう。
【0025】更に又、前記残留吸着力と摩擦力に基づき、ある程度の力でウエハ3が静電チャックプレート17のチャック面上に吸着されている時に該チャック面上でウエハ3を移動させようとすると、ウエハが該チャック面上をこすることになるため、ウエハ裏面に付着するパーティクルが多くなり、結果として、このパーティクルが試料室内に貯まり、ウエハ上に降ってくる。
【0026】本発明は、この様な問題を解決するもので、新規な基板保持機構を提供するものである。
【0027】
【課題を解決するための手段】 本発明の基板保持機構は、基板を静電吸着によりチャックする面を有する静電チャック体のチャック面に1個以上の固定ピンを設け、この固定ピンに基板のノッチ/オリフラを接触させた状態で基板を前記チャック面に静電吸着させるように成した基板保持機構において、その取り付け軸を支点として傾斜可能に成し、基板のセット時にその基板接触部が前記チャック面から上方に出る様に傾斜され、該基板接触部が前記チャック面から上方に出た状態を保って一定方向に傾斜角度を変えていき、基板のノッチ/オリフラが前記固定ピンに接触した時に前記基板接触部が前記チャック面とほぼ面一になるように成した補助レバーを静電チャック体に設けたことを特徴としている。
【0028】又、本発明の基板保持機構は、基板を静電吸着によりチャックする面を有する静電チャック体のチャック面に1個以上の固定ピンを設け、この固定ピンに基板のノッチ/オリフラを接触させた状態で基板を前記チャック面に静電吸着させるように成した基板保持機構において、その取り付け軸を支点として傾斜可能に成し、基板のセット時にその基板接触部が前記チャック面から上方に出る様に傾斜され、該基板接触部が前記チャック面から上方に出た状態を保って一定方向に傾斜角度を変えていき、基板のノッチ/オリフラが前記固定ピンに接触した時に前記基板接触部が前記チャック面とほぼ面一になるように成し、静電吸着を解除し、前記基板接触部が前記チャック面から上方に出た状態を保って前記傾斜方向と逆の方向に傾斜角度を変えていき、基板のセット時の状態に戻るように成した補助レバーを静電チャック体に設けたことを特徴としている。
【0029】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【0030】図4及び図5は本発明の基板保持持機構の一例を示したもので、図4はステージ上に載った基板保持機構を真横から見た図、図5は図4のA−A断面図である。図中前記図2,3にて使用した記号と同一記号の付されたものは同一構成要素である。図中40は静電チャックプレートであるが、内部に位置決め用の補助レバーを備えている点で従来のものと異なる。
【0031】即ち、静電チャックプレート40の肉厚部に設けられているドーナツ状の電極18と静電チャックプレート40のチャック面の間の肉厚部内に、例えば、直方体状の穴41A,41B,41Cを開け、各穴に、位置決め用の補助レバー42A,42B,42Cが軸43A,43B,43Cを支点として、基準位置から位置決め終了位置へのウエハの移動方向(図の左方向、即ちX方向))及び位置決め終了位置から基準位置へのウエハの移動方向(図の右方向、即ち−X方向)に傾斜する様に、各軸付き位置決め補助レバー42A,42B,42Cが取り付けられている。尚、前記穴41A,41B,41Cは、静電チャックプレート上方から見た時に、例えば、各穴を結ぶ軌跡が正三角形を描くような位置に開けられている。
【0032】この補助レバー42A,42B,42Cは、頂部が球状面を成した球状面体部と軸43A,43B,43Cが貫通した棒状体部とで成されており、ウエハが載せられていない時及びウエハ3が基準位置(テーブル19から該各補助レバーを介して静電チャックプレート40のチャック面に載せられたときのウエハの位置)にある時、少し左傾きになるように取り付けられている。該補助レバーがこの状態にある時の位置を、補助レバーの基準位置と称す。そして、該補助レバーの基準位置、即ちウエハの基準位置においては、図4に示す様に、補助レバーの球状面体部のウエハ接触部と静電チャックプレート40のチャック面との距離がDaあり(この時、ウエハ3のノッチ37と固定ピン24との距離がDbある)、ウエハ3をX方向に押圧してウエハ3のノッチ37が固定ピン24に完全に接触した時、即ち、ウエハが位置決め終了位置に来た時に、丁度、前記補助レバーの球状面体部のウエハ接触部と静電チャックプレート40のチャック面との距離がほぼ0となる様に、各補助レバーが取り付けられている。尚、前記補助レバーの球状面体部の少なくともウエハ接触部はゴムなどの摩擦係数の大きな物質でコーティングされている。
【0033】しかして、ゲートバルブ5を開け、予備チャンバー4内においてアライメントされたウエハ3をウエハ搬送機構10のアーム(図示せず)に載せ、該アームがゲートバルブ5を通って試料室1内に入って来る。この際、静電チャックプレート40の空間部40K内に設けられた駆動機構21により駆動された駆動軸20によってテーブル19が所定の位置まで上昇する。そして、前記ウエハ搬送機構10はアーム(図示せず)に載せたウエハ3を該テーブル19上に載せると、ウエハ搬送機構10は予備チャンバー4内に戻り、ゲートバルブ5が閉じられる。
【0034】次に、駆動機構21により駆動された駆動軸20によってウエハ3を載せたテーブル19は下降し、その結果、図4及び図6の(a)に示す様に、ウエハ3が静電チャックプレート30のチャック面に接触せずに、補助レバー42A,42B,43Cの球状面体部上に載置される。この状態、即ちウエハの基準位置状態からウエハ3の位置決め操作が次の様に行われる。
【0035】先ず、押し棒29,30により押し付け用可動ピン25,26を図の左方向(X方向)に押すことにより、該各可動ピンはウエハ3を左方向(X方向)に押圧する。従って、各補助レバー42A,42B,42Cはウエハ3を載せたままX方向に傾斜していくので、ウエハ3は静電チャックプレート40のチャック面に接触することなく、X方向に移動する。その結果、ウエハ3のノッチ37と固定ピン24を完全に接触する(図6の(b))。この時には、各補助レバーの球状面体部のウエハ接触部が静電チャックプレート40のチャック面と面一となって、ウエハ3は静電チャックプレート40のチャック面に完全接触する。この時点で位置決め操作が終了する。
【0036】この状態において、電源23を作動させ、静電力によりウエハ3を静電チャックプレート40上に吸着させる。そして、この状態で、走査電子顕微鏡による像観察等が行なわれる。
【0037】次に、試料室1からウエハを予備チャンバー4に取り出す時は、次の操作が行われる。
【0038】電源23の作動を停止させ、静電力による吸着を解いた状態において、押し棒29,30を図の左方向(−X方向)に移動させて押し付け用可動ピン25,26を元の位置に戻し、更に、押し棒31,32により押し戻し用可動ピン27,28を図の右方向(−X方向)に押すことによって該各可動ピンによりウエハ3を右方向(−X方向)に押圧する。従って、ウエハ3は静電チャックプレート40のチャック面から離れ、各補助レバー42A,42B,42Cは該ウエハ3を載せたまま右方向(−X方向)に傾斜していくので、ウエハ3は静電チャックプレート40のチャック面に接触することなく、−X方向に移動する。この時、ノッチ37と固定ピン24が所定の距離離れたところで(図3の(c))、押し棒31,32を図の左方向(X方向)に移動させて押し戻し用可動ピン27,28をX方向に移動させて元の位置に戻す。この時、ウエハ3は補助レバー42A,42B,42Cの球状面体部の頂部に載ったままである。この状態で、駆動機構21により駆動された駆動軸20によってウエハ3を載せたテーブル19を所定の位置まで上昇させる。
【0039】この時、ゲートバルブ5を開け、ウエハ搬送機構10のアーム(図示せず)に前記テーブル19に載置されたウエハを載せ、予備チャンバー4内でホルダ台6上面より上に来ているテーブル7に載せ、ゲードバルブ5を閉じる。
【0040】この様に、押し付け用可動ピン25,26の押圧によるウエハ3の位置合わせ(ノッチ37と固定ピン24の合わせ)時、押し戻し用可動ピン27,28の押圧によるウエハ3の基準位置への移動時、更に、テーブル19によるウエハ3の持ち上げ時、全ての時に、ウエハは静電チャックプレート40のチャック面に支持されることなく、複数の補助レバーにより支持されているので、静電チャックプレート40の残留吸着力及び、ウエハと静電チヤックプレート40のチャック面間の摩擦力が全く影響しないので、前記各移動及び持ち上げが極めてスムーズに行く。その結果、前記各操作時にウエハの位置ずれが発生しない。
【0041】又、前記残留吸着力及び摩擦力が全く影響しないので静電チャックプレート40のチャック面上をウエハ3がこすることがない。その為、ウエハ裏面でのパーティクルの殆ど発生しない。尚、前記例では、ウエハ自体を可動ピンを介して押し棒で押圧し、該押圧に基づいてに補助レバーを傾斜させるようにしたが、図7に示す様に、補助レバー42A,42Bの棒状体部の一部にピストン棒44A,44Bを接続し、駆動機構45A,45Bの駆動により該ピストン棒を往復運動させることにより、各補助レバーを傾斜させるように成しても良い。この際、例えば、図8に示す様に、補助レバー42の棒状体部に軸46を固定し、先端部が2つに分岐され、各分岐部にこの固定軸46の径より僅かに大きな径の孔47,48開けられたピストン棒44を用意し、該孔47,48に前記固定軸46が入る様に該ピストン棒44を補助レバー42の棒状体部に接続する。この様に成すことにより、固定軸46とピストン棒44の間はフリーの状態で該ピストン棒を直線運動させることが出来、該直線運動により補助レバー42が傾斜する。尚、分岐部の孔47,48は、固定軸46とピストン棒44の間にがたが発生しないで互いの間がフリーの状態になる大きさに開けられる。
【0042】又、前記例では球状面体部と棒状体部から成る補助レバーを設けたが、補助レバーの形状はこの様なものに限定されないことは言うまでもない。
【0043】又、前記例では補助レバーを3個受けたが、この数に限定されない。但し、1個若しくは2個ではウエハを静電チャックプレートのチャック面に接触させずに支持することは難しいので、3個以上必要となる。
【0044】又、前記例では、試料室内で予備チャンバー内でアライメントされた基板の位置合わせのみ行うように成したが、静電チャックプレート内に設けられたテーブルに回転機能も持たせて、ここで精密な回転方向のアライメントも行うようにしても良い。
【0045】又、前記例では、静電チャックプレートをステージと別に設けたが、静電チャックプレートの働きを兼ねたステージを設けるようにしても良い。
【0046】又、前記例では、静電チャックプレート内にテーブル及びその駆動機構を設けるようにしたが、ステージ内にこれらを設けるように成しても良い。
【0047】又、前記例では基板としてノッチ付きウエハを例に上げたが、オリフラ付きウエハを等他の基板ついても本発明が応用可能であることは言うまでもない。尚、ノッチ付きウエハの位置合わせの場合は、固定ピンが1個でも良いが、オリフラ付きウエハの位置合わせの場合には2個以上必要となる。
【0048】又、可動ピンとして、押し付け用が2個、押し戻し用が2個のものを例に上げたが、この様な数に限定されないが、2個以上は必要である。又、この様な可動ピンと同じ働きをするものなら、ピン状のものでなくても良い。例えば、弓状の可動バーでも良い。
【0049】又、前記例では、走査電子顕微鏡によるウエハの検査の場合の試料室内のウエハ保持機構について説明したが、荷電粒子ビーム描画装置のパターン描画や、走査電子顕微鏡などの他の荷電粒子ビーム装置の試料観察,試料分析,試料測定等を行う場合の露光室、試料室などのチャンバー内のウエハ保持持機構についても本発明が応用可能であることは言うまでもない。




 

 


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