米国特許情報 | 欧州特許情報 | 国際公開(PCT)情報 | Google の米国特許検索
 
     特許分類
A 農業
B 衣類
C 家具
D 医学
E スポ−ツ;娯楽
F 加工処理操作
G 机上付属具
H 装飾
I 車両
J 包装;運搬
L 化学;冶金
M 繊維;紙;印刷
N 固定構造物
O 機械工学
P 武器
Q 照明
R 測定; 光学
S 写真;映画
T 計算機;電気通信
U 核技術
V 電気素子
W 発電
X 楽器;音響


  ホーム -> 電気素子 -> 株式会社ニコン

番号 発明の名称
1 光電陰極
2 真空部品の製造方法
3 電子銃、電子線露光装置及び半導体装置の製造方法
4 冷却装置、荷電粒子線露光装置及び半導体装置の製造方法
5 ライナーチューブ及びそれを有する荷電粒子線装置
6 荷電粒子線光学機器用コイル
7 プリント基板用コネクタ及びこれを用いたカメラ
8 基板処理システム
9 荷電粒子線露光装置とデバイス製造方法
10 位置決め方法、位置決め装置およびこれを用いた投影露光装置
11 荷電粒子線転写装置及びこれを用いるデバイス製造方法
12 近接効果補正方法、近接効果補正装置、近接効果補正用マスク及びデバイス製造方法
13 転写マスクブランクス及びその製造方法
14 ビーム形状を可変にできる荷電粒子線投影リソグラフィ
15 投影露光方法及び装置、並びに素子製造方法
16 半導体基板検査装置およびそれを用いた半導体デバイスの製造方法
17 パターン密度計測方法及び計測装置及び膜厚計測方法及びプロセス制御方法
18 真空紫外光リソグラフィー装置、その製造方法、及びフッ化物結晶材料の検査方法
19 露光装置
20 試料保持装置及び露光装置
21 投影光学系、該光学系を備える投影露光装置及び露光方法
22 レーザ装置及びその制御方法、並びに露光装置及び露光方法
23 ステージ装置及び露光装置
24 ステージ装置及び露光装置
25 E−ビーム投影リソグラフィにおけるサブフィールド内配線幅変動の補正
26 搬送装置およびそれを用いた露光装置
27 高精度で、熱的に安定な電磁コイル板の製造方法
28 走査型露光装置及び露光方法
29 投影露光装置
30 光学装置およびこれを用いた露光装置、ガス流入方法
31 投影露光装置及び露光方法、並びに回路の製造方法
32 投影露光方法及び装置、並びに素子製造方法
33 電子ビーム露光システムでの高安定性対称的ブランキング
34 軟X線発生装置及びこれを備えた露光装置及び軟X線の発生方法
35 投影露光装置
36 露光装置
37 照明光学装置及び露光装置
38 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置
39 荷電粒子露光用マスク及び半導体素子製造方法
40 露光装置及び露光方法、光源装置、並びにデバイス製造方法
41 第1部材と第2部材との間の位置合わせを検出する装置およびその決定方法並びにリソグラフィ装置
42 荷電粒子ビームリソグラフィにおける電気ノイズの低減法
43 基板保持装置、基板保持方法および露光装置
44 露光装置、その露光装置における位置検出方法
45 露光装置及び露光方法
46 露光装置及び露光装置の制御方法
47 荷電粒子線露光装置及びそれを利用した半導体装置の製造方法
48 気圧制御方法および装置、これを用いたレーザ計測装置および露光装置
49 ビーム出力制御方法、ビーム出力装置、及び露光システム、並びに当該露光システムを用いるデバイス製造方法
50 信号処理方法、露光方法および露光装置
51 基板搬送方法及び基板搬送装置
52 ステージ装置及び露光装置
53 キャリア及び基板の収納状態検出方法
54 力検出センサ及び力検出センサの製造方法
55 半導体受光素子
56 電子銃、電子光学系及び電子線装置
57 周辺露光装置、周辺露光方法および露光システム
58 X線投影露光装置
59 半導体製造装置とデバイス製造方法
60 荷電粒子ビーム露光方法、荷電粒子ビーム露光装置及びデバイス製造方法
61 露光装置および露光方法
62 荷電粒子線露光装置及び半導体デバイスの製造方法
63 荷電粒子線露光装置及び半導体装置の製造方法
64 光学系要素、非点収差補正器、荷電粒子線露光装置、及び半導体デバイスの製造方法
65 X線発生装置及びこれを備えた投影露光装置及び露光方法
66 ステージ装置及び露光装置
67 位置計測方法、位置計測装置および露光装置並びに露光方法
68 反射マスク、露光装置および集積回路の製造方法
69 転写マスクブランクスの製造方法及び転写マスクの製造方法
70 重ね合わせ電子露光用転写マスク及びその製造方法
71 撮像装置およびこの撮像装置を備えた電子カメラ
72 写像型電子顕微鏡、半導体欠陥検査装置及び半導体デバイスの製造方法
73 光線けられ計測器およびそれを用いた露光装置ならびにけられ計測方法
74 露光装置
75 吸光物質検出方法、並びに露光方法及び装置
76 露光装置及びその露光装置の検査方法
77 電子線転写マスク用保護部材及び電子線投影露光装置
78 駆動機構付き転写マスク及びそれを備えた電子線投影露光装置
79 電子線投影露光装置及びそれを用いた電子線露光方法
80 走査型露光装置、及び該装置を用いる素子製造方法
81 照明光学装置、走査露光装置及び露光方法
82 荷電粒子ビーム顕微鏡、欠陥検査装置及び半導体デバイスの製造方法
83 光学部材保持装置及び露光装置
84 パターンの分割方法及び半導体デバイスの製造方法
85 荷電粒子ビーム露光方法、荷電粒子ビーム露光装置及び半導体デバイス製造方法
86 露光装置
87 荷電粒子線露光装置及びそれを使用した半導体デバイスの製造方法
88 基板処理システム
89 投影露光装置
90 半導体露光装置とデバイス製造方法
91 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置
92 電子線装置の較正方法、電子線装置及び半導体デバイス製造方法
93 マーク検出方法、電子線装置及び半導体デバイス製造方法
94 近接効果補正方法及びデバイス製造方法
95 光源装置、露光装置及び露光方法、並びにデバイス及びその製造方法
96 光源装置及び露光装置
97 照明光学装置及び露光装置
98 露光方法及び装置、並びにデバイスの製造方法
99 露光方法及び装置、デバイスの製造方法、及び露光装置の製造方法
100 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置

[1][2][3][4]
 

 


     NEWS
会社検索順位 特許の出願数の順位が発表

URL変更
平成6年
平成7年
平成8年
平成9年
平成10年
平成11年
平成12年
平成13年


 
   お問い合わせ info@patentjp.com patentjp.com   Copyright 2007-2013