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発明の名称 マスクパターン形状計測評価装置および形状計測評価方法並びに形状計測評価プログラムを記録した記録媒体
発行国 日本国特許庁(JP)
公報種別 公開特許公報(A)
公開番号 特開2001−101414(P2001−101414A)
公開日 平成13年4月13日(2001.4.13)
出願番号 特願平11−276143
出願日 平成11年9月29日(1999.9.29)
代理人
発明者 福島 祐一 / 米倉 勲
要約 目的


構成
特許請求の範囲
【請求項1】マスクパターンの形状計測評価装置において、マスクパターン画像データを入力し、これをコンピュータ処理してパターン形状データを抽出した後、所定の形状特性値を計測処理することにより、パターン形状を評価することを特徴とする、マスクパターン形状計測評価装置。
【請求項2】前記請求項1のマスクパターン形状計測評価装置において、マスクパターン画像データを入力する画像入力手段と、前記マスクパターン画像をコンピュータ処理して所定画像領域から任意のパターンの形状データを抽出するパターン形状抽出処理手段と、該パターン形状データをコンピュータ処理して所定の形状特性値を計測する形状計測手段と、計測した形状特性値データを記録および解析評価する形状評価手段とを備えたことを特徴とする、マスクパターン形状計測評価装置。
【請求項3】請求項1に記載のマスクパターン形状計測評価装置において、マスクパターンを撮影し、撮影された該マスクパターンをディジタルデータに変換してマスクパターン画像データを出力し、該マスクパターン画像データを入力することを特徴とするマスクパターン形状計測評価装置。
【請求項4】請求項2に記載のマスクパターン形状計測評価装置において、マスクパターンを撮影するマスクパターン観察手段と、撮影された該マスクパターンをディジタルデータに変換してマスクパターン画像データを出力する外部画像出力手段とを備え、該マスクパターン画像データを画像入力手段により入力することを特徴とするマスクパターン形状計測評価装置。
【請求項5】マスクパターン形状計測評価方法において、マスクパターン画像データから任意の画像領域のパターン形状データを抽出し、コンピュータ処理によって所定の形状特性値データを計測処理することにより、パターン形状を解析評価することを特徴とする、マスクパターン形状計測評価方法。
【請求項6】前記請求項5のマスクパターン形状計測評価方法において、マスクパターン画像データに対してコンピュータ処理によるエッジ検出処理、平滑化処理、2値化処理、輪郭抽出処理、および細線化処理等の画像処理技術を組み合わせて用いることにより、パターン形状データを抽出することを特徴とする、マスクパターン形状計測評価方法。
【請求項7】プログラムによってマスクパターンの形状計測評価するための形状計測評価プログラムを記録した記録媒体において、該形状計測評価プログラムはコンピュータにマスクパターン画像データを入力させ、これを処理してパターン形状データを抽出させた後、所定の形状特性値を計測処理させることにより、パターン形状を評価させることを特徴とする、マスクパターン形状計測評価プログラムを記録した記録媒体。
【請求項8】請求項7に記載のマスクパターン形状計測評価プログラムを記録した記録媒体において、該形状計測評価プログラムはコンピュータにマスクパターン画像データを入力させる画像入力手段と、前記マスクパターン画像を処理して所定画像領域から任意のパターンの形状データを抽出させるパターン形状抽出処理手段と、該パターン形状データを処理して所定の形状特性値を計測させる形状計測手段と、計測した形状特性値データを記録および解析評価させる形状評価手段とを備えたことを特徴とする、マスクパターン形状計測評価プログラムを記録した記録媒体。
【請求項9】請求項7に記載のマスクパターン形状計測評価プログラムを記録した記録媒体において、該マスクパターン形状計測評価プログラムはコンピュータにマスクパターンを撮影させ、撮影された該マスクパターンをディジタルデータに変換してマスクパターン画像データを出力させ、該マスクパターン画像データを入力させることを特徴とするマスクパターン形状計測評価プログラムを記録した記録媒体。
【請求項10】請求項8に記載のマスクパターン形状計測評価プログラムを記録した記録媒体において、該マスクパターン形状計測評価プログラムはコンピュータにマスクパターンを撮影させるマスクパターン観察手段と、撮影された該マスクパターンをディジタルデータに変換してマスクパターン画像データを出力させる外部画像出力手段とを備え、該マスクパターン画像データを画像入力手段により入力させることを特徴とするマスクパターン形状計測評価プログラムを記録した記録媒体。
【請求項11】コンピュータによってマスクパターンの形状計測評価するための形状計測評価プログラムを記録した記録媒体において、該マスクパターン形状計測評価プログラムはコンピュータにマスクパターン画像データに対してエッジ検出処理、平滑化処理、2値化処理、輪郭抽出処理、および細線化処理等の画像処理技術を組み合わせて用いることにより、任意の画像領域のパターン形状データを抽出させることを特徴とする請求項7〜10のいずれか1項記載のマスクパターン形状計測評価プログラムを記録した記録媒体。
発明の詳細な説明
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体製造のリソグラフィ工程に用いられるフォトマスクのパターン形状をパターン画像から抽出し、所定のパターン形状特性値を計測評価するためのマスクパターン形状計測評価装置及び形状計測評価方法並びに形状計測評価プログラムを記録した記録媒体に関する。
【0002】
【従来の技術】近年の半導体LSIパターンの微細化に伴い、パターン原版としてのフォトマスクも同様に微細化への対応を迫られており、同時に高精度化への要求は非常に厳しい。従来、フォトマスク品質における重要項目として、欠陥・寸法精度・アライメントの3項目が特に重視されており、半導体の微細化が進む現在ではそれぞれの項目を計測するための高精度なフォトマスク専用検査装置が開発され使用されている。しかしフォトマスクパターンの微細化による高精度化への要求は、前記3項目以外のあらゆる品質項目(パターン形状、パターンデータ保証、耐久性、クリーン度等)においても同様になりつつあり、特にパターン形状の精度については直接LSI回路の精度および性能に関わることから、かなり重視されるようになってきた。
【0003】フォトマスクのパターン形状は、半導体回路のマスクレイアウト設計において設計されたマスクパターンの設計図面通りのパターンが精度良くマスク上に再現されていることが望ましいのは当然である。しかし、実際にはリソグラフィ技術を用いてガラス上の金属薄膜に微細なパターンを加工しているため、マスクパターンと設計パターンとは完全に同一形状ではなく、寸法差やコーナー部の丸みなど、微小な違いが存在する。この違いはマスク上で数十〜数百ナノメートル程度の大きさであることがほとんどであるが、近年の超LSIの微細化の進展によって、これが半導体回路の特性に影響を与えることが懸念され始めている。すなわち、微細なパターンであるほど、パターン自体に対して前記のパターン形状の違いが相対的に大きくなり、特性値に影響するようになってきたということである。
【0004】また、近年の急激な微細化に伴い、投影露光技術において光学原理を積極的に利用することで前記のパターン形状の問題を改善しようという試みが盛んになってきている。その代表例は光近接効果補正マスク(以下OPCマスクと称する)である。ここでOPCマスクについて説明する。OPCマスクは、ウェハ露光転写時に回路パターン形状が精度良く転写されるように、本来の回路パターンに近接あるいは接触するようにして微細な光近接効果補正パターン(以下OPCパターンと称する)が付加されているマスクである。OPCパターンは、投影露光転写時に光学的近接効果が原因で生じる転写パターン形状の劣化に対して、近接するパターン同士の光干渉効果を利用して形状補正し、本来の設計パターンが精度よく転写可能にすることを目的とするパターンであり、本来の回路パターンの四隅や隣接するパターンと最も近接する部分に配置されることが多い。また最近では回路パターン全体を複雑に変形させるような種類のOPCパターンも提案されている。ただし、本来の回路パターンとしては不要なため、OPCパターン自身は転写されない程度に微細でなければならない。従って、OPCパターンは従来のパターンよりもかなり微細であるため、マスクパターンの寸法ルールが従来のマスクよりも飛躍的に微細化することになり、マスク製造技術の点では非常に高度な微細加工技術を必要とする。もちろん、微細化の点では従来型のフォトマスクも同様に進展していくことは確実であり、やはり高度な微細加工技術が要求されるようになっている。そこでフォトマスク製造及び検査技術の課題として重視されるようになったのが、前述のパターン形状精度の問題である。
【0005】マスクパターン形状については、マスク検査工程の中で以下に述べるような方法で検査が行われている。まずマスク形状の項目について説明する。マスク品質上の点検項目としてパターン形状を表す場合、様々な項目がある。例えば、パターンコーナー部の丸み(=コーナー形状丸み)、直線パターンエッジ部のギザツキ(=エッジ粗さ)、描画時のパターンズレ(=バッティングエラー)、形状歪み、テーパー形状など、パターンのそれぞれの部分ごとにチェックすべき項目がある。なお、括弧内はフォトマスク検査工程で通常使われている項目名である。
【0006】次に検査工程を説明する。図3に、現在のフォトマスク検査工程におけるパターン形状検査工程のフローを示す。まず高倍率顕微鏡検査31において、光学顕微鏡を用いてマスクパターンの形状観察を行う。一般には600倍から1000倍程度の倍率でパターンを目視観察し、パターンエッジのギザツキやテーパー形状(パターンエッジが垂直でなく斜めにエッチングされた形状)、パターンコーナー部の形状丸み等の項目について異常がないかどうかを判定する。この場合、形状の判定は検査者の目視観察による判断でなされる。
【0007】次に欠陥検査32において、自動欠陥検査機を用いて欠陥の有無を検査するが、この際に欠陥部分を検査機のモニター画面及び付属の光学顕微鏡によって観察することができ、形状異常の有無を判定できる。ただし自動欠陥検査機によって検出された欠陥部分のみ観察することになるため、主として疑似欠陥であるか否かの判断が重視され、形状異常については目立つ場合に偶然検出される程度に過ぎず、信頼性に欠ける。ここで疑似欠陥とは、検査機により欠陥として検出されたが、詳細な観察によって真の欠陥ではないと判定されたものである。疑似欠陥の原因は多くの場合欠陥部分と比較するパターン(検査期の方式により、同一マスク上のパターンと比較する場合と、パターンデータと比較照合する方式がある)画像との微小なズレによるもので、このズレは装置の検出感度・アライメント精度やパターン位置精度、あるいはパターンの寸法差に起因する。
【0008】前記のようなパターン形状の検査工程において、光学顕微鏡(レーザー顕微鏡や共焦点顕微鏡等の、同様に高倍率での観察を目的とするパターン観察装置も含む)による形状検査では、判定は検査者の主観によるため、検査者によってまちまちの判定となるおそれがあった。また、欠陥検査機による欠陥部分の形状判定も検査者による主観的な判定によるため、同様な問題があった。さらに、欠陥検査機によって形状を判定する場合、欠陥として検出された箇所しか判定できないという問題もあった。また欠陥に比べパターン形状異常を検出するためには欠陥よりも微小な部分を観察する必要があり、そのためには欠陥の規格を超えた高感度で検査しなければならず、規格内の微小な欠陥が過剰に検出されたり、検査時間が増大しスループットが低下するという重大な問題が発生する。さらに、疑似欠陥も増大してしまうことがあった。このように、欠陥検査機による検査ではパターン形状を検出するには不充分であった。
【0009】また、前記のような形状検査工程では判定は検査者の主観によるため、検査者によってばらつきのある判定となるおそれがあった。こうした検査方法の根本的な問題は、客観的に評価するための数値表現ができないこと、つまりパターン形状の特性値を定量的に計測し、正確に評価することができないということである。他の品質項目の場合には、欠陥は欠陥個数や大きさ、寸法は寸法値、アライメントはズレ量といったように測定装置が専用に開発され数値測定が可能であるのに対して、形状の場合は明確な規格が定められていないために検査者の目視観察による官能検査的な手法を用いているという問題があった。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の問題点を鑑みてなされたもので、微細なパターンを含むフォトマスクのパターン形状の定量的な計測を可能にすることにより、正確かつ高精度な形状計測評価装置及び形状計測評価方法並びに形状計測評価プログラムを記録した記録媒体を提供することを課題とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明はかかる課題を解決するものであり、請求項1の発明は、マスクパターンの形状計測評価装置において、マスクパターン画像データを入力し、これをコンピュータ処理してパターン形状データを抽出した後、所定の形状特性値を計測処理することにより、パターン形状を評価することを特徴とする、マスクパターン形状計測評価装置としたものである。
【0012】本発明の請求項2の発明は、前記請求項1のマスクパターン形状計測評価装置において、マスクパターン画像データを入力する画像入力手段と、前記マスクパターン画像をコンピュータ処理して所定画像領域から任意のパターンの形状データを抽出するパターン形状抽出処理手段と、該パターン形状データをコンピュータ処理して所定の形状特性値を計測する形状計測手段と、計測した形状特性値データを記録および解析評価する形状評価手段とを備えたことを特徴とする、マスクパターン形状計測評価装置としたものである。
【0013】本発明の請求項3の発明は、請求項1に記載のマスクパターン形状計測評価装置において、マスクパターンを撮影し、撮影された該マスクパターンをディジタルデータに変換してマスクパターン画像データを出力し、該マスクパターン画像データを入力することを特徴とするマスクパターン形状計測評価装置としたものである。
【0014】本発明の請求項4の発明は、請求項2に記載のマスクパターン形状計測評価装置において、マスクパターンを撮影するマスクパターン観察手段と、撮影された該マスクパターンをディジタルデータに変換してマスクパターン画像データを出力する外部画像出力手段とを備え、該マスクパターン画像データを画像入力手段により入力することを特徴とするマスクパターン形状計測評価装置としたものである。
【0015】本発明の請求項5の発明は、マスクパターン形状計測評価方法において、マスクパターン画像データから任意の画像領域のパターン形状データを抽出し、コンピュータ処理によって所定の形状特性値データを計測処理することにより、パターン形状を解析評価することを特徴とする、マスクパターン形状計測評価方法としたものである。
【0016】本発明の請求項6の発明は、前記請求項5のマスクパターン形状計測評価方法において、マスクパターン画像データに対してコンピュータ処理によるエッジ検出処理、平滑化処理、2値化処理、輪郭抽出処理、および細線化処理等の画像処理技術を組み合わせて用いることにより、パターン形状データを抽出することを特徴とする、マスクパターン形状計測評価方法としたものである。
【0017】本発明の請求項7の発明は、プログラムによってマスクパターンの形状計測評価するための形状計測評価プログラムを記録した記録媒体において、該形状計測評価プログラムはコンピュータにマスクパターン画像データを入力させ、これを処理してパターン形状データを抽出させた後、所定の形状特性値を計測処理させることにより、パターン形状を評価させることを特徴とする、マスクパターン形状計測評価プログラムを記録した記録媒体としたものである。
【0018】本発明の請求項8の発明は、請求項7に記載のマスクパターン形状計測評価プログラムを記録した記録媒体において、該形状計測評価プログラムはコンピュータにマスクパターン画像データを入力させる画像入力手段と、前記マスクパターン画像を処理して所定画像領域から任意のパターンの形状データを抽出させるパターン形状抽出処理手段と、該パターン形状データを処理して所定の形状特性値を計測させる形状計測手段と、計測した形状特性値データを記録および解析評価させる形状評価手段とを備えたことを特徴とする、マスクパターン形状計測評価プログラムを記録した記録媒体としたものである。
【0019】本発明の請求項9の発明は、請求項7に記載のマスクパターン形状計測評価プログラムを記録した記録媒体において、該マスクパターン形状計測評価プログラムはコンピュータにマスクパターンを撮影させ、撮影された該マスクパターンをディジタルデータに変換してマスクパターン画像データを出力させ、該マスクパターン画像データを入力させることを特徴とするマスクパターン形状計測評価プログラムを記録した記録媒体としたものである。
【0020】本発明の請求項10の発明は、請求項8に記載のマスクパターン形状計測評価プログラムを記録した記録媒体において、該マスクパターン形状計測評価プログラムはコンピュータにマスクパターンを撮影させるマスクパターン観察手段と、撮影された該マスクパターンをディジタルデータに変換してマスクパターン画像データを出力させる外部画像出力手段とを備え、該マスクパターン画像データを画像入力手段により入力させることを特徴とするマスクパターン形状計測評価プログラムを記録した記録媒体としたものである。
【0021】本発明の請求項11の発明は、コンピュータによってマスクパターンの形状計測評価するための形状計測評価プログラムを記録した記録媒体において、該マスクパターン形状計測評価プログラムはコンピュータにマスクパターン画像データに対してエッジ検出処理、平滑化処理、2値化処理、輪郭抽出処理、および細線化処理等の画像処理技術を組み合わせて用いることにより、任意の画像領域のパターン形状データを抽出させることを特徴とする請求項7〜10のいずれか1項記載のマスクパターン形状計測評価プログラムを記録した記録媒体としたものである。
【0022】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明の内容を詳述する。図1は本発明のマスクパターン形状計測評価装置の構成の一実施例を示すブロック図である。図1において、点線囲み内が形状計測評価装置本体1を示す。形状計測評価装置本体1へはマスクパターン観察装置2から外部画像出力装置3を経て目的のマスクパターン画像データが送られる。マスクパターン観察装置はマスク検査工程で通常使用される観察機能及び画像撮影を持つ装置であればよく、あるいは観察装置外部にオプションとして備え付けられた画像撮影装置を用いてもよい。例えば前述の光学顕微鏡や自動欠陥検査機、あるいは測長SEM(電子顕微鏡)等はこれらの機能を満たすことが多いのでよく用いられる。該マスクパターン観察装置2を用いて目的のマスクパターンを観察し画像を撮影して、その画像を外部画像出力装置3へ送る。前記観察装置2で撮影された画像が写真のようなアナログデータで出力された場合は、前記外部画像出力装置3においてデジタル画像に変換し、形状計測評価装置本体1へ送る。外部画像出力装置3はスキャナーが接続されたコンピュータシステム等が用いられる。ここでの画像データは観察されたマスクパターンの画像であり、デジタル画像データは所定の形式(ほとんどの場合ビットマップ形式で、圧縮形式を用いる場合もある)で画像の濃淡や色の階調が画素単位で記録されている。なお、画像データのアナログからデジタルへの変換はハードウェア及びソフトウェアのどちらでも技術的に変換可能であり、どちらを選んでもよく、どの段階で変換を行ってもよい。また、前記マスクパターン観察装置2に直接デジタル画像出力機能が組み込まれている場合には、外部画像出力装置3は不要となる。また、マスクパターン観察装置2や外部画像出力装置3を形状計測評価装置本体1に取り込んでもよい。
【0023】次に、前記形状計測評価装置本体1に送られた画像データは、画像入力手段4において目的の画像データを選択して入力される。ここで、前記撮影された画像データが複数ある場合にはその中から希望する処理順に選択したり、画像の範囲が広い場合は所望のパターン領域のみを切り取ったり、あるいは画像品質が不適切であった場合は種々の画像変換手段を用いて適切な画像処理を行う等、適宜その後の処理を最適にするような画像が選択入力される。
【0024】前記で入力された画像データはパターン形状抽出処理手段5においてパターン形状を計測するための形状データが抽出される。形状データとは前記画像データをもとにパターンの輪郭線のみを抽出するようにしたもので、いろいろな画像処理アルゴリズムを組み合わせた形状抽出処理ソフトウェアを用いることにより、実現される。
【0025】ここで、図4を用いて形状データについて説明する。図4(a)はマスクパターンの設計図面の例を示したもので、長方形の設計パターンが配置されている。パターンの大きさは現行微細加工技術での最先端デバイスルールに近い大きさ、例えば現在なら0.8μm近辺とする。このような大きさとする理由は、前述のように微細なパターンルールであるほど形状精度の影響が大きく、問題とされることによる。図4(b)は前記設計パターンをマスク上に形成したマスクパターン画像である。マスクパターンは図のように四隅の部分が丸みを帯びている。これをコーナー形状丸みと称しているが、この現象はリソグラフィ技術における特有のもので、電子線描画・現像・エッチング等の各工程において多少なりとも形状精度が劣化してしまうために起きる。図4(c)は(b)のマスクパターン画像から輪郭線を抽出した形状抽出データを示す。この形状抽出データは、マスクパターン画像を元にして公知のデジタル画像処理技術を組み合わせて用いることにより生成している。この形状抽出のための画像処理手順としては、エッジ検出処理、2値化処理、細線化処理の順で画像処理を施すことが基本となる。ただし、画像品質によって処理手順を変更したり、別の画像処理アルゴリズムを用いる等、適宜組み合わせることにより、形状抽出のための最適手順を設定すればよい。こうして生成された形状抽出データは形状の輪郭線部分とそれ以外の部分との2値のみのデータとなっている。データ形式としては画素単位のビットマップ形式またはそれに準じた形式か、あるいは目的用途によってはベクトルデータ形式に変換されることもある。
【0026】次に、図1の説明に戻る。前記パターン形状抽出処理手段5によって抽出されたパターン形状データを用いて、形状計測手段6で所定の形状特性値を計測する。ここで計測される形状特性値については複数存在するが、これはパターンの図形的特徴に合わせて適宜選択される。なお、形状特性値および計測処理の例については後述する。次に形状評価手段7において、計測した形状特性値を解析評価する。すなわち、前記マスクパターン画像から抽出し計測したパターン形状の特性値が規格内かどうか、あるいは同様に計測した他のパターンとの比較等を行う。
【0027】図1の前記説明において、装置本体1内でのすべての手段及び処理はコントロールプロセッサ8により制御される。これらの手段及び処理内容についてはモニター9の画面を通じて操作者が確認・判断でき、処理の指示は入力手段10を用いて送られ、処理結果は出力手段11を用いて出力できる。またこれらの処理内容は適宜選択して、情報記録手段12により情報の保存が可能である。なお、前記の入力手段10についてはキーボード、マウス等の一般的なコンピュータ入力器具を用いればよく、出力手段11についてはプリンタ、フロッピー(登録商標)ディスク等の出力装置を用いればよい。また情報記録手段12については大容量の記録媒体が適しており、ハードディスクやネットワークファイルサーバ等にデータを蓄積することが望ましい。以上の装置構成により、マスクパターン画像からパターン形状データを抽出し、所望の形状特性値を計測評価することが可能となった。
【0028】次に、図2は本発明のマスクパターン形状計測評価方法の手順の実施例を示すフローチャートである。まず図2のパターン形状観察21において、目的のフォトマスクを光学顕微鏡あるいは測長SEM等の高倍率観察が可能な観察装置を用いてパターン観察する。この際、形状測定すべきパターンを決定し、観察装置の画像撮影機能を用いて画像データを生成する。あるいは画像が写真であれば、スキャナーを用いて写真をスキャンし画像データに変換することができる。次に画像データ変換22で、前記画像データが写真あるいは走査線画像のようなアナログデータであれば、スキャナー等を用いて画像を取り込み、デジタル画像データに変換する。これは画像データをコンピュータ処理するために、デジタル情報に変換する必要があるためである。そしてパターン形状抽出処理23において、所定の画像処理アルゴリズムを用いてデータを処理してパターン形状データを抽出する。次に形状計測処理24において、前記パターン形状データをもとに種々の形状特性値を計測処理する。計測結果は形状評価25において所定の条件で評価することにより、形状特性値が基準内であれば合格、基準外であれば不合格とする。この形状評価においては、単一の形状特性値だけでなく、複数個の特性値データを統計的手法を用いて解析評価することも可能である。以上の手順によりパターン形状の計測評価を行うことができた。
【0029】図5は、抽出された前記パターン形状データからいくつかの形状特性値の例を示した図である。これらは形状特性値として定義されるもののごく一部であり、同じパターン形状データからこれら以外の形状特性値を計測することも可能である。すなわち、パターン形状から新たに形状特性値を定義して計測することも、同様の手順で対応するソフトウェアプログラムを作成すれば可能となる。図5(a)はコーナー形状丸みの形状特性値を示している。a、bはそれぞれコーナー部分の横方向と縦方向の長さを表し、sは丸みによって本来のパターンから欠けた部分の面積を表す。これらの特性値を計測するには、パターン形状の輪郭線が曲線的に変化する部分を検知して、直線的形状の場合との差違を求めることにより計測でき、そのためのコンピュータプログラムを作成して処理した。図5(b)はパターンエッジ部分のギザツキ(エッジ粗さ)を計測する場合である。パターンエッジが図のようにぎざついている場合、その平均線を求め、さらに最大振れ幅や平均振れ幅など、統計的手法を用いてエッジ粗さを算出することができる。図5(c)は電子線描画によるパターン描画工程で発生するパターン接続部分のズレを示す。この図ではパターンの右半分と左半分で上下に描画ズレによる段差が生じており、c、dはそれぞれ上部、下部のズレ量を示す。これらは直線部分の縦方向の位置ずれを計測すればよい。
【0030】
【発明の効果】以上のように、マスクパターン形状の検査工程において本発明のマスクパターン形状計測評価装置又は形状計測評価方法又は形状計測評価プログラムを記録した記録媒体を用いることにより、従来は顕微鏡観察による官能検査あるいは欠陥検査装置による欠陥部分のみの観察によって行っていたパターン形状検査が定量的に測定可能となり、正確かつ高精度な評価が可能となった。さらに所望の形状特性値を新たに定義して計測することも、対応するソフトウェアプログラムの作成のみで可能となる。




 

 


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