米国特許情報 | 欧州特許情報 | 国際公開(PCT)情報 | Google の米国特許検索
 
     特許分類
A 農業
B 衣類
C 家具
D 医学
E スポ−ツ;娯楽
F 加工処理操作
G 机上付属具
H 装飾
I 車両
J 包装;運搬
L 化学;冶金
M 繊維;紙;印刷
N 固定構造物
O 機械工学
P 武器
Q 照明
R 測定; 光学
S 写真;映画
T 計算機;電気通信
U 核技術
V 電気素子
W 発電
X 楽器;音響


  ホーム -> 写真;映画 -> 東京応化工業株式会社

番号 発明の名称
1 微細パターン形成方法及びそれに用いる感光性基材
2 ホトレジスト用剥離液組成物およびこれを用いたホトレジスト剥離方法
3 パターン形成用組成物、それを用いた画像記録材料、および記録材料の製造方法
4 微細パターン形成方法
5 ポジ型ホトレジスト組成物
6 ホトリソグラフィー用リンス液およびこれを用いた基板の処理方法
7 ポジ型ホトレジスト組成物およびポリフェノール化合物の合成方法
8 ポジ型ホトレジスト組成物
9 感放射線レジスト組成物
10 多層レジスト型感光材料及びそれを用いたレジストパターン形成方法
11 ネガ型レジスト組成物及びそれを用いた感光材料
12 化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法
13 液晶素子製造用ポジ型ホトレジスト組成物
14 レジスト用剥離液組成物
15 ホトレジスト用剥離液およびこれを用いたホトレジスト剥離方法
16 反射防止膜形成用組成物及びレジストパターンの形成方法
17 ポジ型ホトレジスト組成物、感光性膜付基板、およびレジストパターンの形成方法
18 水溶性感光性組成物およびこれを用いたカラーブラウン管用黒鉛スクリーンの作成方法
19 パターン形成方法及びそれを用いた半導体の製造方法
20 光重合性感光材料用剥離液及びそれを用いたリブパターンの形成方法
21 多層型感光材料
22 光重合性組成物
23 感光性基材、それを用いたレジストパターンの形成方法およびポジ型レジスト組成物
24 放射線感応性レジスト組成物
25 ディフェクトの発生を抑えたホトレジストパターンの形成方法およびディフェクト低減用現像液
26 ホトレジスト用剥離液およびこれを用いたホトレジスト剥離方法
27 ホトレジスト用剥離液およびこれを用いたホトレジスト剥離方法
28 ネガ型レジスト基材及びそれを用いたイオン注入基板の製造方法
29 レジストパターンの表面欠陥減少方法及びそれに用いる表面欠陥減少用処理液
30 ホトリソグラフィー用リンス液およびこれを用いた基板の処理方法
31 ポジ型レジスト組成物
32 アッシング後の処理液およびこれを用いた処理方法
33 感光性樹脂組成物及びこれを用いたパターンの形成方法
34 リソグラフィー用反射防止膜形成用組成物およびこれを用いたレジスト積層体
35 ポジ型ホトレジスト組成物、感光性膜付基板およびレジストパターンの形成方法
36 ポジ型ホトレジスト組成物、感光性膜付基板、レジストパターンの形成方法およびポジ型ホトレジスト組成物の製造方法
37 ポジ型ホトレジスト組成物、感光性膜付基板およびレジストパターンの形成方法
38 ポジ型ホトレジスト組成物、感光性膜付基板およびレジストパターンの形成方法
39 フレキソ印刷版製造用多層感光材料
40 ポジ型ホトレジスト組成物
41 反射防止膜形成用組成物
42 ポジ型レジスト用基材樹脂

[1]
 

 


     NEWS
会社検索順位 特許の出願数の順位が発表

URL変更
平成6年
平成7年
平成8年
平成9年
平成10年
平成11年
平成12年
平成13年


 
   お問い合わせ info@patentjp.com patentjp.com   Copyright 2007-2013