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番号 発明の名称
1 パターン検査方法及びパターン検査装置
2 位相シフトマスクのシフタ残留欠陥修正方法並びに修正装置
3 現像方法、及び、現像装置
4 パターンの形成方法
5 レチクル及び半導体装置の製造方法
6 化学増幅系ポジ型レジスト
7 化学増幅系ポジ型レジスト
8 レジストパターンの形成方法
9 アライメントマーク及びその製造方法
10 原子線ホログラフィ用のホログラム板およびそれを用いた原子線ホログラフィによるパターン形成方法
11 現像装置及び現像方法
12 多孔状感光体およびその製造方法
13 プロジェクター装置及びその障害物認識方法
14 トナー補給装置
15 多孔状感光体及びその製造方法
16 ステンシルマスク及びステンシルマスクの形成方法
17 光近接効果補正方法
18 カメラシステム及び表示装置
19 ウェハパターンの設計マージン設定方法、パターン精度設定方法およびマスクパターンの設計マージン設定方法
20 電子写真感光体
21 プロジェクタ
22 近接効果補正マスク
23 プロジェクタ装置
24 コロナ帯電器
25 露光パターン及び露光原版の検査方法
26 トナーカートリッジ
27 カメラ付き携帯情報端末装置
28 露光方法および位相シフトマスク
29 フォトマスク及びフォトマスク製造方法
30 化学増幅型レジスト
31 レジストパターンの形成方法
32 フォトマスク、パターン形成方法、半導体集積回路
33 スクリーン固定装置及びその固定方法
34 剥離剤組成物および剥離方法
35 レンズシフト機能付プロジェクタ装置
36 投射型液晶表示装置
37 フォトマスクおよびその製造方法
38 画像形成装置
39 噴射式自動写真現像装置及び噴射式自動写真現像方法
40 多孔状感光体及びその製造方法
41 フォトマスクおよびこれを用いた露光方法
42 レチクル
43 半導体集積回路用レチクル
44 画像記録装置の搬送障害予測装置
45 パターンデータ作成方法
46 マスクの検査方法及びマスクの検査装置

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