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番号 発明の名称
1 現像処理方法
2 投射表示装置
3 液晶プロジェクタ
4 マスクパターンの補正方法
5 マスク描画データ作成方法、作成装置および記録媒体
6 パターン形成方法
7 半導体マスク、パターン寸法測定装置、マスク欠陥修正装置およびウェーハ転写装置
8 パターン修正装置
9 ホログラムおよびそれを用いた表示装置および回折波長調整方法
10 表示装置
11 プロジェクタの熱保護装置
12 絶縁膜の加工方法
13 位相シフトマスクの製造方法
14 露光方法およびその装置
15 パターン形成方法及び露光装置
16 フォトマスク、露光装置、および半導体ウェーハ
17 画像形成装置
18 シャドウマスク用ハードマスク及びその製造方法
19 マトリクスアレイ基板の製造方法
20 シャドウマスク製造用フォトレジスト
21 湿式電子写真装置
22 ホトマスク、並びに、このホトマスクを用いたパターン形成方法および電界効果トランジスタの製造方法
23 投写型映像表示装置
24 半導体製造用マスクのパターン補正方法およびそのパターン補正方法を記録した記録媒体
25 湿式電子写真装置
26 湿式電子写真装置
27 湿式電子写真装置
28 露光用マスク、露光装置、及び半導体装置の製造方法
29 マスクパターン補正方法とそれを用いた露光用マスク
30 マスクパターンの補正システム及びマスクパターンの補正方法
31 感光性組成物および半導体装置
32 半導体装置の製造方法
33 パターン形成方法
34 カラー画像形成装置
35 湿式電子写真装置
36 湿式電子写真装置および現像液タンク
37 露光用マスクのパターン補正方法
38 フォーカスモニタ用マスク及びフォーカスモニタ方法
39 露光用マスク及びその製造方法
40 レジスト組成物及びパターン形成方法
41 ミクロパターンの形成方法
42 立体カメラ装置とそれを用いた内視鏡
43 露光用ハードマスクの製造方法および製造装置
44 パターン描画装置
45 現像装置と画像形成装置
46 静電写真用液体現像剤
47 画像形成装置
48 湿式電子写真装置
49 表示装置
50 マスクパターン設計装置、マスクパターン設計方法およびマスクパターン設計プログラムを格納したコンピュータ読取り可能な記録媒体
51 パターンの自動設計方法
52 プロジェクタ装置
53 液晶プロジェクタ装置
54 背面投射型プロジェクタ
55 露光用マスク、及びそれを用いたパターン形成方法
56 マスクパターン補正方法及びマスクパターン作成システム
57 フォトマスクの形成方法及び半導体装置の製造方法
58 レジスト樹脂用モノマーおよびそれを重合単位として含むレジスト用樹脂
59 消去可能な画像形成材料
60 接触帯電部材の製造方法
61 パターンレイアウト方法およびパターンレイアウトプログラムを記憶したコンピュータ読取可能な記録媒体
62 カラーレントゲン方法とカラーレントゲン装置、およびそれに用いられるカラー発光シート
63 導電部材
64 顔画像撮影装置および顔画像撮影方法
65 荷電ビーム描画装置および荷電ビーム描画方法
66 新聞紙面制作システム
67 薬液処理方法
68 光学装置
69 パターン形成用レジストおよびパターン形成方法
70 パターン形成材料、パターン形成方法、及び露光用マスクの製造方法
71 フォトマスクの製造方法
72 マスク欠陥検査方法及びマスク設計データ作成方法
73 フォトマスクの寸法測定方法
74 パターン形成方法
75 下層膜溶液材料及びこの下層膜溶液材料を用いたパターン形成方法
76 パターン形成方法
77 有機光記録媒体および光記録再生装置
78 湿式電子写真装置
79 電子写真装置
80 湿式電子写真装置
81 露光装置
82 フォトマスク、フォトマスクの製造方法、露光方法及び露光装置
83 画像形成装置
84 画像形成装置
85 表示装置用パターンレイアウト方法及びその記録媒体
86 表示装置
87 表示装置
88 表示装置
89 露光装置
90 半導体集積回路のパターン設計方法、フォトマスク、および半導体装置
91 ホトマスク、ホトマスクブランク及び前記ホトマスクを用いた半導体ウェハの露光方法
92 マスクブランクス、描画装置および露光装置
93 デジタルカメラ装置
94 露光装置
95 レジストパターンの形成方法
96 露光用マスク及びそのパターンの補正方法
97 位相シフトマスク

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