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発明の名称 位置合わせ装置、位置合わせ方法および露光装置
発行国 日本国特許庁(JP)
公報種別 公開特許公報(A)
公開番号 特開2001−33976(P2001−33976A)
公開日 平成13年2月9日(2001.2.9)
出願番号 特願平11−206869
出願日 平成11年7月21日(1999.7.21)
代理人 【識別番号】100064908
【弁理士】
【氏名又は名称】志賀 正武 (外5名)
【テーマコード(参考)】
2H097
5F046
【Fターム(参考)】
2H097 AA03 BB10 GB01 KA20 LA10 
5F046 BA05 CC01 CC03 DB05 EB01 EB02 FA10 FC03
発明者 白戸 章仁 / 篠崎 忠明
要約 目的


構成
特許請求の範囲
【請求項1】 所定の検出領域を有するマーク検出系を用いて第1基板の第1マークと第2基板の第2マークとを合わせることにより第1基板と第2基板との位置合わせを行う位置合わせ装置であって、前記第1基板の位置を検出する第1基板位置検出系と、該第1基板位置検出系により検出した前記第1基板の位置に基づいて前記第1マークが前記検出領域内に入るように少なくとも該検出領域を移動させる領域変更系と、前記第1基板位置検出系により検出した前記第1基板の位置に基づいて前記第2マークが前記検出領域内に入るように前記第2基板を移動させる第2基板移動系とを備えることを特徴とする位置合わせ装置。
【請求項2】 前記第2基板の位置を検出する第2基板位置検出系を備え、前記第2基板移動系は前記第1基板の位置と前記第2基板の位置とに基づいて前記第2基板を移動させることを特徴とする請求項1記載の位置合わせ装置。
【請求項3】 前記第2基板を所定位置に保持する保持部材を備え、前記第2基板移動系は、前記保持部材を介して前記第2基板を移動させることを特徴とする請求項1または2記載の位置合わせ装置。
【請求項4】 前記領域変更系は、前記マーク検出系自体を移動させることを特徴とする請求項1、2または3記載の位置合わせ装置。
【請求項5】 前記領域変更系は、前記マーク検出系において前記検出領域のみを移動させることを特徴とする請求項1、2または3記載の位置合わせ装置。
【請求項6】 前記領域変更系は、前記第1基板を移動させる第1基板移動系を備えることを特徴とする請求項1、2、3、4または5記載の位置合わせ装置。
【請求項7】 所定の検出領域を有するマーク検出系を用いて第1基板の第1マークと第2基板の第2マークとを合わせることにより第1基板と第2基板との位置合わせを行う位置合わせ方法であって、前記第1基板の位置を検出し、前記第1基板の位置に基づいて前記第1マークが前記検出領域内に入るように少なくとも該検出領域を移動させ、前記第1基板の位置に基づいて前記第2マークが前記検出領域内に入るように前記第2基板を移動させることを特徴とする位置合わせ方法。
【請求項8】 前記検出領域とともに第1基板を移動させることを特徴とする請求項7記載の位置合わせ方法。
【請求項9】 請求項1、2、3、4、5または6記載の位置合わせ装置を具備する露光装置であって、前記第1基板または前記第2基板のいずれか一方が、転写するパターン像を形成されるマスクであり、前記第1基板または前記第2基板のいずれか他方が、前記パターン像を転写される感光基板であることを特徴とする露光装置。
発明の詳細な説明
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体や液晶基板を製造する際のリソグラフィ工程においてマスクのパターン像を感光基板上に転写露光するための露光装置に関し、特にマスクと感光基板との位置合わせを行う位置合わせ装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体素子や液晶表示基板等の製造におけるフォトリソグラフィ工程では、マスク上に形成された露光パターンを投影光学系を介して感光基板上のフォトレジスト層に転写露光する投影露光装置が用いられている。
【0003】上記露光装置においては、露光開始前に行われるマスクと感光基板との位置合わせ(アライメント)が非常に重要であることはいうまでもない。そこで、従来は感光基板に設けられたアライメントマークとマスクに設けられたアライメントマークとを位置合わせ装置で観察し、両方のマークを同時に認識したうえで画像処理を行い、得られた画像情報に基づいてマスクと感光基板とを移動させ、マークどうしを重ね合わせることで位置合わせを行っている。
【0004】位置合わせの工程を順を追って説明すると、まず、ローダにより基板ステージ上に移載された感光基板に対して外形検査装置を用いて位置測定を行い、基板ステージ上における感光基板の露光光の光軸に垂直なX,Y方向に対する位置ずれ、およびX,Y二方向に垂直なZ軸まわりの回転量のずれを検出する。
【0005】次に、基板ステージを作動させ、感光基板をZ軸まわりに回転させて回転量のずれを解消する。続いて、基板ステージを作動させ、感光基板をX,Y方向に移動させて位置ずれを解消する。
【0006】次に、位置合わせ装置で感光基板に設けられたアライメントマークとマスクに設けられたアライメントマークとを観察し、マスクステージを作動させて感光基板と同じくZ軸まわりの回転、およびX,Y方向にマスクを移動させてマークどうしを重ね合わせる。従来の露光装置では、上記のようにしてマスクと感光基板との位置合わせが行われる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の露光装置には、位置合わせに際し基板ステージに感光基板のZ軸まわりの回転補正を行うステージ機構を設ける必要がある。しかしながら、当該の回転用ステージ機構は非常に大きくかつ重いことから、露光装置に搭載するためには大きなスペースが必要となり露光装置の小型化を阻む一因となっている。
【0008】本発明は上記の事情に鑑みてなされたものであり、基板ステージにおいて回転用ステージ機構を廃することで露光装置の小型、軽量化を図ることを目的としている。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するための手段として採用される位置合わせ装置の構成を図2に示して説明すると、本発明に係る位置合わせ装置は、所定の検出領域(SA,SB)を有するマーク検出系(15)を用いて第1基板(P)の第1マーク(R1)と第2基板(M)の第2マーク(R2)とを合わせることにより第1基板(P)と第2基板(M)との位置合わせを行う位置合わせ装置であって、第1基板(P)の位置を検出する第1基板位置検出系(17B)と、第1基板位置検出系(17B)により検出した第1基板(P)の位置に基づいて第1マーク(R1)が検出領域(SA,SB)内に入るように少なくとも検出領域(SA,SB)を移動させる領域変更系(23)と、第1基板位置検出系(17B)により検出した第1基板(P)の位置に基づいて第2マーク(R2)が検出領域(SA,SB)内に入るように第2基板(M)を移動させる第2基板移動系(16A)とを備えることを特徴とするものである。
【0010】この位置合わせ装置においては、第1基板位置検出系(17B)の検出結果に基づいて第1マーク(R1)が検出領域(SA,SB)に入るように検出領域(SA,SB)を移動させ、次に同じく第1基板位置検出系(17B)の検出結果に基づいて第2マーク(R2)が検出領域(SA,SB)に入るように第2基板(M)を移動させることにより、マーク検出系(15)の検出領域(SA,SB)に第1、第2マーク(R1,R2)が収まるので、これらを正しく一致させることにより、第1基板(P)を移動させなくても第1基板(P)と第2基板(M)との位置合わせが可能になる。
【0011】
【発明の実施の形態】本発明に係る位置合わせ装置、位置合わせ方法および露光装置の第1実施形態を図1〜図3に示して説明する。図1は本発明に係る位置合わせ装置を備えるマルチレンズタイプの走査型露光装置を示している。この露光装置は、マスク(第2基板)Mに形成されたパターンを所定形状の照明領域m1〜m5において照明する複数の照明光学系11A〜11Eと、マスクMを搭載して走査方向であるX方向に駆動されるマスクステージ(保持部材)12と、照明光学系11A〜11Eから射出されてマスクMを通過した各光束を感光基板(第1基板)P上の投影領域p1〜p5にそれぞれ照射して照明領域m1〜m5のパターン像を結像させる複数の投影光学系13A〜13Eと、感光基板Pを搭載してマスクステージ12と同じくX方向に駆動される基板ステージ14と、マスクMと感光基板Pとの位置合わせを行う位置合わせ装置15とを主体として構成されている。
【0012】マスクステージ12は、搭載されたマスクMをX,Y方向およびZ軸回りに変位させるステージ移動機構(図示略)と、このステージ移動機構を制御してマスクMの位置補正を行うマスクステージ制御部(第2基板移動系;図1では不図示)16Aとを備えている。また、マスクステージ12には、マスクMをステージ上の所定位置に保持する真空吸着部(図示略)が設けられており、マスクMはこの真空吸着部16に吸着されることでマスクステージ12上に保持されている。さらに、マスクステージ12には、マスクMの搭載時にマスクステージ12に対してマスクMの位置合わせ(プリアライメント)を行うためのマスク位置検出部(第2基板位置検出系;図1では不図示)17Aが設けられており、これによって得られた位置情報に基づいてマスクMをX,Y方向およびZ軸まわりに変位させて位置補正を行うようになっている。
【0013】基板ステージ14は、搭載された感光基板PをX,Y方向に変位させるステージ移動機構(図示略)と、このステージ移動機構を制御してマスクMの位置補正を行う基板ステージ制御部(第1基板移動系;図1では不図示)16Bとを備えている。また、基板ステージ14には、感光基板Pをステージ上の所定位置に保持する真空吸着部(図示略)が設けられており、感光基板Pはこの真空吸着部に吸着されることで基板ステージ14上に保持されている。
【0014】さらに、基板ステージ14には、搭載された感光基板Pの隣り合う側縁に接して基板ステージ14上における感光基板PのX,Y方向に対する位置ずれ、およびZ軸まわりの回転量のずれを計測する外形検査装置(第1基板位置検出系)17Bが設けられており、これによって得られた位置情報に基づいて感光基板PをX,Y方向に変位させて位置補正を行うようになっている。
【0015】マスクステージ12上のY方向の端縁には反射鏡12aが設置され、反射鏡12aに対向する位置にはレーザ干渉計18aが配置されている。また、マスクステージ12上のX方向の端縁には偏光ビームスプリッタ12bと、偏光ビームスプリッタ12bを通過したレーザ光の波長を変更するλ/4板12cと、基準鏡12dと、コーナキューブ12eとが設置されており、基準鏡12dに対向する位置にはレーザ干渉計18bが配置され、コーナキューブ12eに対向する位置には長尺鏡18cが配置されている。
【0016】基板ステージ14上のY方向の端縁には反射鏡14aが設置され、反射鏡14aに対向する位置にはレーザ干渉計19aが配置されている。また、基板ステージ14上のX方向の端縁には偏光ビームスプリッタ14bと、偏光ビームスプリッタ14bを通過したレーザ光の波長を変更するλ/4板14cと、基準鏡14dと、コーナキューブ14eとが設置されており、基準鏡14dに対向する位置にはレーザ干渉計19bが配置され、コーナキューブ14eに対向する位置には長尺鏡19cが配置されている。
【0017】位置合わせ装置15は、図2、図3に示すように、所定の撮像領域(検出領域)SA,SBをそれぞれ有するCCDカメラ(マーク検出系)20A,20Bと、CCDカメラ20A,20Bを個別にX方向に移動させるカメラ移動機構21A,21Bと、カメラ移動機構21A,21Bの駆動を制御するカメラ位置制御部22と、感光基板P、マスクMそれぞれの位置情報とCCDカメラ20A,20Bから得られた画像情報に基づいてマスクステージ12、基板ステージ14およびカメラ移動機構21A,21Bの駆動を制御する位置合わせ制御部(領域変更系)23と、CCDカメラ20A,20BとマスクMとの間に配置される対物レンズ26とを備えている。
【0018】CCDカメラ20A,20Bは、対物レンズ26を通してマスクMに形成されたアライメントマーク(第2マーク)R2を撮影すると同時に、アライメントマークR2に対応して感光基板Pに形成されたアライメントマーク(第1マーク)R1をマスクMおよび投影光学系11A,11Bを通して撮影することが可能となっている。
【0019】次に、上記のように構成された露光装置において、基板ステージ14に搭載された感光基板Pとマスクステージ12に搭載されたマスクMとの位置ずれを解消して位置合わせを行う工程を図3を参照して説明する。
【0020】図3はいずれも感光基板PとマスクMとを露光光の照射方向から見た図である。ここでは、感光基板P、マスクMがいずれもX,Y方向の位置ずれ、およびZ軸まわりの回転量のずれを生じているとする(図3(a)参照)。
【0021】この場合、まず外形検査装置17Bによって基板ステージ14上における感光基板Pの位置を測定し、その測定結果から感光基板PのX,Y方向に対する位置ずれ、およびZ軸まわりの回転量のずれ(θ)を検出する(図3(b)参照)。
【0022】そして、検出された感光基板Pの位置情報に基づき、感光基板PをY方向に変位させるとともにCCDカメラ20A,20Bを個別にX方向に移動させ、CCDカメラ20A,20Bの撮像領域SA,SBにアライメントマークR1を捕らえる(図3(c)参照)。
【0023】ここで、マスクMについてはマスクステージ12への搭載時に行われるプリアライメントによって位置合わせされるため、マスクステージ12に対するマスクMの位置情報は事前に明らかとなっている(図3(d)参照)。そこで、感光基板Pの位置情報とマスクMの位置情報とに基づき、マスクMをX,Y方向に移動させるとともにZ軸まわりに回転させ、撮像領域SA,SBにアライメントマークR2を捕らえる(図3(e)参照)。
【0024】続いて、各撮像領域SA,SBにおいてアライメントマークR1,R2を同時に認識したうえで画像処理を行い、得られた画像情報に基づいてマスクMの位置を微調整して両方のマークを正しく重ね合わせる。これにより、感光基板Pの下縁部に形成されたアライメントマークR1とマスクMの下縁部に形成されたアライメントマークR2とを用いた位置合わせがなされる。
【0025】この後、マスクMおよび感光基板Pを走査方向(走査方向はマスクM、感光基板Pともそれぞれの両側縁に沿う)に移動させ、マスクM、感光基板Pの上縁部にそれぞれ形成されたアライメントマークR1',R2'を各撮像領域SA,SBに捕らえ、両者が正しく重なることを確認する。マークR1',R2'間にずれがある場合はマスクMを移動させて微調整する。これにより、アライメントマークR1',R2'を用いた位置合わせがなされ、最終的にマスクMと感光基板Pとの位置合わせが完了する。位置合わせが完了すると、露光処理の妨げにならないようにCCDカメラ20A,20Bが照明光学系11A〜11Eの照明領域の外に退避して位置合わせ装置15が作動を停止する。その後、マスクMおよび感光基板Pが初期位置に戻って露光が開始される。
【0026】上記のように構成された露光装置によれば、CCDカメラ20A,20Bを個別に移動させ、これと協同して基板ステージ14を作動させて感光基板PをX,Y方向に変位させることにより、感光基板PのZ軸まわりの回転量のずれを補正しなくてもアライメントマークR1(R1')を撮像領域SA,SBに捕らえることが可能となる。したがって、基板ステージ14にZ軸まわりの回転補正を行うステージ機構を設けなくてもマスクMと感光基板Pとの位置合わせを行えるようになるので、基板ステージ14の構造を簡略化することができ、これによって露光装置自体を小型、軽量化することができる。
【0027】また、マスクMのプリアライメントによって得られた位置情報を利用してマスクMと感光基板Pとの相対的な位置ずれを把握し、これに基づいてマスクMを移動させることで位置合わせの精度を高めることができる。
【0028】また、CCDカメラ20A,20BについてはX方向への駆動機構を個別に設けておき、感光基板Pを走査するために基板ステージ14に最低限必要なステージ機構(X,Y方向への駆動機構)を利用して感光基板Pに対するCCDカメラ20A,20Bの配置変更を相対的に行うことで露光装置に搭載される各駆動機構の共有化を図ることができる。
【0029】なお、本実施形態においては、CCDカメラを2基備え、マスクM、感光基板Pの上縁側、下縁側でそれぞれマークの重合による位置合わせを行う位置合わせ装置について説明したが、CCDカメラを4基備え、マスクM、感光基板Pの四隅で一度に位置合わせを行うようにしても構わない。これによると位置合わせが一括して行えるので作業に要する時間が短縮でき、さらなる生産性の向上が図れる。なお、CCDカメラの数は2基、4基に限定されるものではない。
【0030】本実施形態においては、CCDカメラ20A,20Bはカメラ移動機構21A,21Bにより個別にX方向に駆動されるが、CCDカメラ20A,20BをX,Yの2方向に駆動するようにしても構わない。また、本実施形態においては対物レンズは定位置に固定されているが、CCDカメラ20A,20Bと一体となってX方向(またはX,Y方向)に動くようにしてもよい。
【0031】加えて、感光基板PやマスクMにZ軸まわりの回転量のずれが生じていると、CCDカメラ20A(20B)の撮像領域SA(SB)におけるピクセルの配列がアライメントマークR1,R2の計測方向に一致せず、画像処理が高精度に行えない場合がある。そこで、回転量のずれに応じて撮像領域SA(SB)自体を回転させ、ピクセルの配列をアライメントマークR1,R2の計測方向に一致させるようにすることが望ましい。
【0032】次に、本発明に係る位置合わせ装置、位置合わせ方法および露光装置の第2実施形態を図4、図5に示して説明する。なお、上記第1実施形態において既に説明したい構成要素には同一符号を付して説明は省略する。
【0033】本実施形態における露光装置では、位置合わせ装置15にカメラ移動機構は設けられておらず、CCDカメラ20A,20Bは定位置に固定されている。そして、図4に示すように、マスクMおよび感光基板PとCCDカメラ20A(20B)との間には、光源24と、偏光スプリッタ25と、対物レンズ26と、反射鏡27と、撮像領域変更部28とが設けられている。対物レンズ26には感光基板Pに生じるずれを考慮して有効視野の広いレンズが採用されている。また、撮像領域変更部28は、光軸に対する角度を三次元的に変化させることでCCDカメラ20A(20B)の撮像領域(検出領域)SA(SB)を対物レンズ26の有効視野内で自在に移動させることができるようになっている。
【0034】上記のように構成された露光装置において、基板ステージ14に搭載された感光基板Pとマスクステージ12に搭載されたマスクMとの位置ずれを解消して位置合わせを行う工程を図5を参照して説明する。
【0035】図5はいずれも感光基板PとマスクMとを露光光の照射方向から見た図である。ここでは、感光基板P、マスクMが相互にX,Y方向の位置ずれ、およびZ軸まわりの回転量のずれを生じているとする。
【0036】この場合も、まず外形検査装置17Bによって基板ステージ14上における感光基板Pの位置を測定し、その測定結果から感光基板PのX,Y方向に対する位置ずれ、およびZ軸まわりの回転量のずれを検出する。
【0037】そして、検出された感光基板Pの位置情報に基づいて撮像領域変更部28を作動させ、有効視野UA,UB中央の基準位置にある撮像領域SA,SBを移動させ、撮像領域SA,SBにアライメントマークR1を捕らえる(図5(a)参照)。
【0038】次に、感光基板Pの位置情報とマスクMの位置情報とに基づき、マスクMをX,Y方向に移動させるとともにZ軸まわりに回転させ、撮像領域SA,SBにアライメントマークR2を捕らえる(図5(b)参照)。
【0039】続いて、各撮像領域SA,SBにおいてアライメントマークR1,R2を同時に認識したうえで画像処理を行い、得られた画像情報に基づいてマスクMの位置を微調整して両方のマークを正しく重ね合わせる。これにより、マスクM、感光基板Pの下縁部に形成されたアライメントマークR1,R2を用いた位置合わせがなされる。
【0040】この後、マスクMおよび感光基板Pを走査方向に移動させ、マスクM、感光基板Pの上縁部にそれぞれ形成されたアライメントマークR1',R2'を各撮像領域SA,SBに捕らえて両者が正しく重なることを確認する。マークR1',R2'間にずれがある場合はマスクMの位置を微調整する。これにより、アライメントマークR1',R2'を用いた位置合わせがなされ、最終的にマスクMと感光基板Pとの位置合わせが完了する。位置合わせが完了すると、露光処理の妨げにならないようにCCDカメラ20A,20Bが照明光学系11A〜11Eの照明領域の外に退避し、位置合わせ装置15が作動を停止する。その後、マスクMおよび感光基板Pが初期位置に戻って露光が開始される。
【0041】上記のように構成された露光装置によれば、撮像領域SA,SBを対物レンズ25の有効視野UA,UB内で自在に移動させることにより、感光基板Pの位置補正を行わなくてもアライメントマークR1(R1')を撮像領域SA,SBに捕らえることが可能となる。したがって、基板ステージ14に感光基板Pの位置補正を行うステージ機構を設けなくてもマスクMと感光基板Pとの位置合わせを行えるようになるので、基板ステージ14の構造を簡略化することができ、これによって露光装置自体を小型、軽量化することができる。
【0042】なお、上記第1、第2実施形態においては、マルチレンズタイプの走査露光装置を例に挙げて説明したが、本発明に係る位置合わせ装置は、光源、投影光学系を1基ずつ備える走査露光装置、また、走査露光装置に限らず、いわゆるステップアンドリピート方式の露光装置にも適用可能である。
【0043】また、図4では、マスクMを通して感光基板Pの位置合わせを行う方式(TTM方式)について説明しているが、これに限らず、例えば感光基板Pの位置を感光基板用顕微鏡で計測し、その計測結果に基づいてマスク顕微鏡の位置を移動させ、マスクMのアライメントマークを位置決めするようにしてもよい。
【0044】また、上記第1、第2実施形態では、マスクステージ移動機構でマスクを変位させているが、これに限らず、基板ステージ14によって感光基板Pを変位させるようにしてもよい。
【0045】また、上記第1、第2実施形態では、マスクMと感光基板Pとをほぼ同じ大きさで示しているが、マスクMより感光基板Pのほうが相対的に大きい場合、露光装置の構造上、マスクMを変位させることが応答速度等の点から有利であることはいうまでもない。なお、マルチレンズの配列方向に沿う左右のアライメントマークR1(R1'も同じ)が走査方向の前後に多少シフトしてある場合にも検出領域を移動させることができることはいうまでもない。
【0046】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る請求項1記載の位置合わせ装置によれば、第1基板位置検出系により検出した第1基板の位置に基づいて第1マークが検出領域に入るように検出領域を移動させ、同じく第1基板位置検出系の検出結果に基づいて第2マークが検出領域に入るように第2基板を移動させることにより、第1基板を移動させなくても第1基板と第2基板との位置合わせが可能になる。したがって、第1基板を移動させる機構が不要になるので、装置構成を簡略化して小型、軽量化を図ることができる。
【0047】請求項2記載の位置合わせ装置によれば、第2基板の位置を検出し、第1基板の位置と第2基板の位置とに基づいて第2基板を移動させることで、第1基板と第2基板との位置合わせの精度を高めることができる。
【0048】請求項3記載の位置合わせ装置によれば、第2基板を所定位置に保持する保持部材を介して第2基板を移動させることにより、第2基板を損傷することなく円滑に移動させることができる。
【0049】請求項4記載の位置合わせ装置によれば、領域変更系がマーク検出系自体を移動させて検出領域を移動させることにより、第1基板を移動させることなく第1マークを検出領域内に捕らえられるので、第1基板と第2基板との位置合わせの精度を高めることができる。
【0050】請求項5記載の位置合わせ装置によれば、領域変更系がマーク検出系において検出領域のみを移動させることにより、第1基板を移動させることなく第1マークを検出領域内に捕らえられるので、第1基板と第2基板との位置合わせの精度を高めることができる。
【0051】請求項6記載の位置合わせ装置によれば、領域変更系が第1基板を移動させる第1基板移動系を備えることにより、マーク検出系と合わせて第1マークと第2マークとの相対的な位置合わせが可能になるので、第1基板と第2基板との位置合わせの精度を高めることができる。
【0052】請求項7記載の位置合わせ方法によれば、検出した第1基板の位置に基づいて第1マークが検出領域に入るように検出領域を移動させ、同じく第1基板位置検出系の検出結果に基づいて第2マークが検出領域に入るように第2基板を移動させることにより、第1基板を移動させなくても第1基板と第2基板との位置合わせが可能になる。したがって、位置合わせの工程を簡略化して作業性の向上を図ることができる。
【0053】請求項8記載の位置合わせ方法によれば、検出領域とともに第1基板を移動させることにより、マーク検出系と合わせて第1マークと第2マークとの相対的な位置合わせが可能になるので、第1基板と第2基板との位置合わせの精度を高めることができる。
【0054】請求項9記載の露光装置によれば、第1基板または第2基板のいずれか一方が、転写するパターン像を形成されるマスクであり、第1基板または第2基板のいずれか他方が、パターン像を転写される感光基板であり、これによって感光基板を移動させることなくマスクとの位置合わせが可能になる。したがって、感光基板を移動させる機構が不要になるので、位置合わせの工程を簡略化して作業性の向上を図るとともに露光装置自体の構成を簡略化して小型、軽量化を図ることができる。




 

 


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