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発明の名称 感光剤除去装置
発行国 日本国特許庁(JP)
公報種別 公開特許公報(A)
公開番号 特開2001−5202(P2001−5202A)
公開日 平成13年1月12日(2001.1.12)
出願番号 特願平11−177007
出願日 平成11年6月23日(1999.6.23)
代理人
発明者 松本 俊一
要約 目的
少量の溶媒でしかも速やかに基体から感光剤を除去することができる感光剤除去装置を提供する。

構成
基体に担持された感光剤を溶解するための溶媒を貯溜した溶媒層と該溶媒層の上方に位置し溶媒蒸気を冷却して液滴下させるための冷却部とからなる溶解槽と、該溶媒層の下方に位置し使用済み溶媒を貯溜する貯溜部と該貯溜部の溶媒を蒸気化させるための加熱部とからなる貯溜槽と、溶媒層の溶媒を貯溜槽に導くための第1の経路と、該貯溜槽で発生した溶媒蒸気を溶解槽に導く第2の経路とを有し、該第1の経路にサイフォン部を設ける。
特許請求の範囲
【請求項1】基体表面の感光剤層を溶媒によって溶解、除去する感光剤除去装置において、基体に担持された感光剤を溶解するための溶媒を貯溜した溶媒層と該溶媒層の上方に位置し溶媒蒸気を冷却して液滴下させるための冷却部とからなる溶解槽と、該溶媒層の下方に位置し使用済み溶媒を貯溜する貯溜部と該貯溜部の溶媒を蒸気化させるための加熱部とからなる貯溜槽と、溶媒層の溶媒を貯溜槽に導くための第1の経路と、該貯溜槽で発生した溶媒蒸気を溶解槽に導く第2の経路とを有し、該第1の経路にサイフォン部を設けたことを特徴とする感光剤除去装置。
【請求項2】前記第1の経路のサイフォン部の下流側に塞き止め部を設けたことを特徴とする請求項1に記載の感光剤除去装置。
発明の詳細な説明
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、感光体を構成する基体から感光層を溶剤によって除去する感光剤除去装置に関する。
【0002】
【従来の技術】複写機、ファクシミリ装置、プリンタ等の画像形成装置では、ドラム等の基体表面に画像露光によって表面電位が減衰する感光剤の層が設けられた感光体を用いて、静電潜像を形成し現像剤で現像した後、トナー転写、クリーニング等を経て繰り返し使用される。感光層は長期間の使用による材料の特性劣化や、層の削れ、摩耗などの為に、本来の性能が発揮できなくなっていく。感光剤の劣化や汚損によって使用に適さなくなった感光体の基体は、感光剤層を除去し新たな感光剤層を設けることで再使用される。通常、基体からの感光剤の除去は、基体表面を傷つけることが無いように、溶媒を収容した溶解槽に基体を浸して感光剤を溶解させることによって行われる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところが、基体表面に新たな感光剤の層を均一に形成するためには古い感光剤を完全に除去しなければならず、溶解槽の溶媒は何度も交換されるので多量の溶媒が必要となり溶媒の収容スペース、コストがかさむなどの問題が発生する。また多量の廃溶媒が発生しその処理も容易ではない。
【0004】また、従来の装置では時間の経過とともに溶媒中の感光剤濃度が上昇していくため、感光剤の洗浄効果が低下する。このため、基体から感光剤を除去するのに長時間を要していた。
【0005】本発明は、上記問題点に鑑みてなされたもので、少量の溶媒でしかも速やかに基体から感光剤を除去することができる感光剤除去装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は基体表面の感光剤層を溶媒によって溶解、除去する感光剤除去装置であって、請求項1の発明は基体に担持された感光剤を溶解するための溶媒を貯溜した溶媒層と該溶媒層の上方に位置し溶媒蒸気を冷却して液滴下させるための冷却部とからなる溶解槽と、該溶媒層の下方に位置し使用済み溶媒を貯溜する貯溜部と該貯溜部の溶媒を蒸気化させるための加熱部とからなる貯溜槽と、溶媒層の溶媒を貯溜槽に導くための第1の経路と、該貯溜槽で発生した溶媒蒸気を溶解槽に導く第2の経路とを有し、該第1の経路にサイフォン部を設けたことを特徴とする感光剤除去装置である。
【0007】請求項2の発明は、前記第1の経路のサイフォン部の下流側に塞き止め部を設けたことを特徴とする請求項1に記載の感光剤除去装置である。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、本発明の感光剤除去装置の実施形態について、図1を参照しながら説明する。本感光剤除去装置の溶解槽1は、主に溶媒層10、冷却部11からなっている。溶媒層10は溶媒Sを収容しており、上方の冷却部11には水冷管などの冷却器が組み込まれている。また、溶媒槽1には該溶媒Sを撹拌させるための撹拌部材14が設けられており、また右下方部には第1の経路2につながる排出口12が設けられている。第1の経路2にはサイフォン部20が設けられており、該第1の経路2の途中には溶媒層10よりも下方の位置に塞き止め部としてのバルブ22が設けられ、溶媒槽1から貯溜槽3につながっている。貯溜槽3は使用済み溶媒Sを貯溜する貯溜部30とその下方に加熱装置としてのヒータ31が設けられている。貯溜部30は、第1の経路2につながる開口32と第2の経路4につながる開口33が設けられている。第2の経路4は、溶解槽1の受入口13につながっている。
【0009】続いて、作用について説明する。まず、基体5の入った溶媒層10にサイフォン部20の頂部21よりも高い位置まで溶媒Sが入った状態で、第1の経路2の途中にある塞き止め部としてのバルブ22を開くことによって、サイフォンにより溶媒層10内の全ての溶媒Sは第1の経路2を通って溶媒層10より下方の位置にある貯溜部30へ流れる。この後、次の溶媒循環のためにバルブ22は閉じておく。貯溜部30へ貯溜された使用済み溶媒Sはヒータ31によって加熱され、溶媒蒸気Aを発生させる。このとき感光剤成分を溶解した使用済み溶媒Sであっても、加熱によって溶媒成分のみが気化するので、該溶媒蒸気Aは非常に純度が高いものとなっている。該溶媒蒸気Aは、貯溜部30の開口33から第2の経路4を通り、溶解槽1の受入口13を通って溶解槽1内に溶媒蒸気Aを充満させる。該溶媒蒸気Aは冷却部に設置された水冷管等によって冷却され、結露することによって、液化し下方に滴下する。このようにして、溶媒層10の溶媒Sが増え、サイフォン部20の頂部21よりも高い位置になったとき、再びバルブ22を開いて溶媒層10内の溶媒Sが貯溜層30へ流出する。このようにして、上記作用を繰り返し行うことで、溶媒を再度利用することが可能となる。
【0010】溶媒Sとしては、基体5に対して不活性で、感光剤Pを良好に溶解させるものが使用できる。例えば、ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類、トルエン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロフォルム等のハロゲン化炭化水素類、エチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、メタノール、エタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類を始め、種々の有機溶媒が使用可能である。これらの内、好ましくは低沸点で気化熱の小さいもの、例えばジエチルエーテルや塩化メチレンを用いることが望ましい。溶媒Sは感光剤Pの種類に応じて特に溶解度を考慮し選択すればよい。
【0011】また、本実施形態ではバルブ22を設けたが、該バルブに変えてコック等を用いるてもよいが、これらの塞き止め部を設けなくてもサイフォンを利用して本発明を構成することも可能である。塞き止め部を設けない場合は、装置の大きさや使用する溶媒の物性によって、サイフォン部20の頂部21であるU字管を適度な太さに変更するとよい。また、サイフォン部及び溶媒層はその中の状態を把握するには透明もしくは半透明にすることが好ましい。さらに、撹拌部材14に変えて超音波によって溶媒層の溶媒を振動させ撹拌することも可能であるが、特にこのような撹拌部材を設けなくても本発明の実施は可能である。
【0012】
【発明の効果】本発明の感光剤除去装置によれば、少量の溶媒でしかも速やかに基体から感光剤を除去することができるので、装置の収容スペースやコストの点でメリットがあり、しかも廃溶媒の処理を行う必要がなくなる。
【0013】




 

 


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