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発明の名称 電磁弁
発行国 日本国特許庁(JP)
公報種別 公開特許公報(A)
公開番号 特開2001−289350(P2001−289350A)
公開日 平成13年10月19日(2001.10.19)
出願番号 特願2000−104500(P2000−104500)
出願日 平成12年4月6日(2000.4.6)
代理人 【識別番号】100060025
【弁理士】
【氏名又は名称】北村 欣一 (外3名)
【テーマコード(参考)】
3H106
【Fターム(参考)】
3H106 DA07 DA23 DA26 DA27 DB02 DB12 DB23 DB32 DC14 DC17 DD03 EE39 GA14 GB06 GB10 GB11 GD03 KK12 
発明者 岩尾 博志 / 松井 浩二 / 清水 正則
要約 目的


構成
特許請求の範囲
【請求項1】 底部にガス通路となる孔部を備えた有底凹状の空間が形成されたマニホールド部を有し、進退自在のプランジャが非接触状態で挿通される挿通孔が開設された磁性基板でマニホールド部の空間開口を塞ぎ、プランジャの先端に取り付けた樹脂製の弁体で孔部を開閉する電磁弁において、弁体の周縁全域から外方に延びるシール膜を形成し、シール膜をプランジャの進退を阻害しない状態にしてシール膜の外周縁を上記空間開口の周縁部と磁性基板とで挟持したことを特徴とする電磁弁。
発明の詳細な説明
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、電流を流す方向を反転させることによりプランジャが進退し、電流を停止してもプランジャの位置が保持されるラッチ式の電磁弁やその他の進退自在のプランジャを備えた電磁弁に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のこの種の電磁弁として、例えば図3に示すように、有底凹状の空間111を備えたマニホールド部101を有するラッチ式の電磁弁が知られている。該電磁弁では空間111の底部にガス通路となる孔部112が形成されている。該孔部112は上下方向に進退自在のプランジャ102の先端に取り付けられた樹脂製の弁体121によって開閉される。電磁コイル105に通電するとプランジャ102の上端はコア141に吸着される。一旦吸着されると永久磁石104の磁力によりプランジャ102は吸着されたままの状態で保持される。次に電磁コイル105に対して逆方向に通電すると永久磁石104の磁力が打ち消され、プランジャ102はばね106の付勢力も加わって押し下げられる。プランジャ102とコア141との間に隙間が形成されるので通電を停止してもプランジャ102がコア141に吸着されることはない。このような本図に示す電磁弁では、プランジャ102に対して磁束を通すため磁路となる磁性基板103で空間111の開口が塞がれている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記図3に示した従来の電磁弁では、プランジャ102は僅かな力で進退するため摺動抵抗の大きなOリングを直接接触させることができない。そのため、プランジャ102が遊嵌されるガイドパイプ107を設け、ガイドパイプ107の内側を通ってくるガスをOリングS1でシールし、ガイドパイプ107の外側はOリングS2でシールする必要がある。また、磁性基板103とマニホールド部101との間はOリングS3によりシールする必要がある。このように、従来の電磁弁ではガイドパイプ107を設け、更に3つのOリングを必要とする。また、Oリングが接触する面は面粗度が要求される。従って、従来の電磁弁では部品点数が多くなるばかりか加工コストが高くなるという不具合がある。
【0004】そこで本発明は、上記の問題点に鑑み、部品点数が少なく、且つ加工コストが高くならない電磁弁を提供することを課題とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するために本発明は、底部にガス通路となる孔部を備えた有底凹状の空間が形成されたマニホールド部を有し、進退自在のプランジャが非接触状態で挿通される挿通孔が開設された磁性基板でマニホールド部の空間開口を塞ぎ、プランジャの先端に取り付けた樹脂製の弁体で孔部を開閉する電磁弁において、弁体の周縁全域から外方に延びるシール膜を形成し、シール膜をプランジャの進退を阻害しない状態にしてシール膜の外周縁を上記空間開口の周縁部と磁性基板とで挟持したことを特徴とする。
【0006】上記構成によれば、マニホールド部の空間は弁体から延びるシール膜で蓋されることになる。そのためシール膜の外周縁を上記空間開口の周縁部と磁性基板とで挟持し、シール膜と空間開口の周縁部との間からガスが漏れないようにすればシール膜の外側へガスが漏れることがない。尚、弁体を構成する樹脂はゴムや可撓性を有する軟質樹脂を含む物である。
【0007】
【発明の実施の形態】図1を参照して、1はマニホールド部であり、底部にガス通路となる孔部12を備えた空間11が形成されている。2は図において上下方向に進退自在なプランジャである。該プランジャ2の先端にはゴム製の弁体7が取り付けられている。該弁体7は図2に示すように略円柱形状に成形されており、中央に凹設された係合穴71にプランジャ2の先端21が挿入されることによりプランジャ2の先端21に取り付けられる。また、弁体7の外周から薄膜状のシール膜72が延設されている。シール膜72の外周縁には環状に成形された肉厚のリング部73が形成されている。該リング部73は図1に示すように、空間11の開口周縁と磁性基板3とで挟まれ、空間11内のガスがリング部73と開口周縁との間を通って漏出しないように構成されている。該磁性基板3は磁性材料で形成されており、略中央にはプランジャ2が挿通される挿通孔31が貫設されている。5は電磁コイルであって該電磁コイル5のボビン51によってプランジャ2は進退自在に保持されている。プランジャ2とボビン51との間にはプランジャ2が摺動抵抗なく進退できるように若干の隙間が確保されているが、該隙間は挿通孔31の周縁部32がプランジャ2に接触しないように設定されている。電磁コイル5の上部には磁路部材42に吸着した永久磁石4が配設されている。該永久磁石4の下面にはコア41が吸着されており、コア41とプランジャ2との間にはばね6が縮設されている。図1に示す状態ではプランジャ2はばね6の付勢力により下方に押し下げられている。そのため弁体7が孔部12に押接され該孔部12は気密に閉塞されている。永久磁石4の磁束と同じ方向の磁束が生じるように電磁コイル5に対して通電すると、電磁コイル5による磁束と永久磁石4の磁束との協働によりプランジャ2はばね6の付勢力に抗して吸引されコア41に吸着する。すると弁体7は孔部12から離れ、そのため孔部12は開放される。その状態で電磁コイル5への通電を停止しても永久磁石4の磁力よりプランジャ2はコア41に吸着されたままの状態を保持する。電磁コイル5に逆方向の通電を行うと電磁コイル5による磁束が永久磁石4の磁力を打ち消し、プランジャ2はばね6の付勢力との協働により押し下げられ、孔部12は弁体7で再び閉塞される。
【0008】ところで、弁体7から外方に延設されたシール膜72は図2に示すように、薄膜状に成形され、かつ途中で階段状に曲げられているため、プランジャ2が進退する際にプランジャ2の移動に対して大きな抵抗にはならない。また、空間11の上方に対するシールは弁体7、シール膜72、リング部73により完全に行われるため、シール膜72以外にOリング等の別途のシール部材を一切用いる必要がない。また、上記実施の形態ではラッチ式の電磁弁について説明したが、永久磁石を備えない一般的な電磁弁やその他の形式であって進退自在のプランジャを備えた電磁弁であれば本発明を適用することができる。尚、上記弁体7はゴムで成形したが、可撓性を有する軟質樹脂で成形してもよい。更に、上記実施の形態では弁体7とシール膜72とリング部73とを一体に成形したが別個に成形し相互に接着してもよい。その際、弁体7とシール膜72とリング部73との材質は必ずしも同一にする必要はない。
【0009】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明は、弁体の周縁全域から外方に延びるシール膜でマニホールド部の空間を閉塞するので、ガイドパイプやOリングを用いなくてもガスの漏出を防止できる。




 

 


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