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番号 発明の名称
1 排水処理の制御方法
2 エピタキシャル成長方法
3 炭化珪素薄膜ウェハ及びその製造方法
4 光ファイバールースチューブ用樹脂組成物、光ファイバールースチューブおよびその製造法
5 III−V族化合物半導体の気相成長方法
6 光ファイバ母材の製造方法
7 半導体結晶の製造方法および製造装置
8 銅管の製造方法
9 スパッタ用銅ターゲット材およびその製造方法
10 気相エピタキシャル成長方法
11 高強度高導電率高耐熱性銅基合金及びその製造方法
12 無鉛快削性銅合金材
13 高強度銅合金鋳塊の製造方法
14 部分めっきプラスチック成形体の製造方法
15 部分めっきプラスチック成形体の製造方法
16 電子部品用リード線の製造方法
17 化合物半導体結晶の製造装置及びそれを用いた製造方法
18 化合物半導体単結晶の製造装置及びそれを用いた製造方法
19 LEC法化合物半導体単結晶の製造方法
20 光ファイバ用多孔質母材の製造装置
21 透明導電膜の形成方法
22 透明導電膜形成基板及び形成方法
23 化合物半導体単結晶の成長方法
24 GaAs半導体単結晶製造方法
25 導電用耐熱Al合金線材及びその製造方法
26 化合物結晶の作製方法
27 石英ボート及びそれを用いたボート法化合物半導体単結晶製造方法
28 化合物半導体結晶の製造方法及び製造装置
29 化合物半導体単結晶の製造方法
30 ワイパーブレード用エラストマー組成物及びワイパーブレード
31 線材の表面に亜鉛を厚くメッキする方法及び装置
32 導体の防錆剤塗布方法及び塗布装置
33 半絶縁性GaAs単結晶の熱処理方法
34 熱間加工性に優れた銅合金
35 単結晶成長用ヒータ及びそれを用いた化合物半導体単結晶の製造装置
36 液相エピタキシャル成長方法
37 線材連続焼鈍装置
38 溶融めっき複合線の製造方法
39 環境に配慮した難燃性樹脂組成物並びにそれを用いた絶縁電線、テープ又はチューブ
40 化合物半導体結晶成長方法及びその装置
41 化合物半導体単結晶の製造方法およびそれに用いられるPBN製容器
42 銅薄膜の形成方法、及び薄膜を用いて作製した装置
43 排水からの鉛除去方法及び鉛除去装置
44 ポリ塩化ビニル樹脂組成物及び絶縁電線
45 防錆剤塗布方法及び装置
46 難燃性樹脂組成物およびこれを用いた電線ケーブル
47 放熱体
48 極細銅合金撚線の製造方法
49 銅または銅合金の焼鈍方法
50 銅および銅合金の光輝焼鈍方法
51 銅および銅合金の変色防止方法
52 金属伝熱管の表面親水処理方法及び金属伝熱管
53 改質ふっ素樹脂の製造方法
54 熱間加工性に優れた銅合金
55 熱間加工性に優れた銅合金
56 電子部品用リード線の製造方法
57 光ファイバプリフォームの製造方法及び製造装置
58 光ファイバ母材の製造方法
59 光ファイバ母材の製造方法
60 耐屈曲銅合金線及びそれを用いたケーブル
61 薄膜形成方法
62 光ファイバ母材の製造方法
63 化合物半導体単結晶の成長方法及びそれを用いた成長装置
64 溶接用銅材およびこれを用いたLiイオン2次電池構造物
65 多孔質母材の焼結方法
66 光ファイバ用母材の製造方法及び製造装置
67 多孔質ガラス母材の製造方法及び製造装置
68 光テープファイバの製造方法
69 粉体状架橋ポリテトラフルオロエチレンの製造方法
70 架橋ポリテトラフルオロエチレン粉体の製造方法
71 ノンハロゲン難燃組成物及びノンハロゲン難燃電線
72 線材の連続焼鈍装置
73 プラズマ励起化学的気相成長装置を用いたガラス膜の形成方法
74 線状添加剤の供給装置
75 アルミニウム合金材及びそれを用いた配線材の製造方法
76 無電解めっき方法
77 GaAs単結晶ウエハ

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