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日産化学工業株式会社 - 特許情報
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番号 発明の名称
1 脂環式テトラカルボン酸無水物及びその製造法
2 研磨用組成物
3 1,2,3,4−ベンゼンテトラカルボン酸誘導体の製造法
4 メラミン誘導体の修飾方法
5 ピラゾールベンゾオキサジンまたはピラゾールベンゾチアジン化合物および農園芸用殺菌剤
6 シクロアルカンベンジルエーテル化合物
7 六員環複素環類
8 エピクロロヒドリンの微生物分解
9 脂環式ジ(メタ)アクリレート及びその製造法
10 アゾール縮合ピリミジン誘導体及び除草剤
11 光学活性ポリエステル及びその製造方法
12 光学活性なイソシアヌレート及びその誘導体を用いた光学分割剤
13 新規カルバモイルテトラゾリノン化合物および除草剤
14 5−ヒドロキシイソフタル酸の製造法
15 ポリイミド及びポリイミド系溶液並びにポリイミド膜の形成方法
16 ポリイミドの製造方法
17 ジアミノベンゼン誘導体及びそれを用いたポリイミド並びに液晶配向膜
18 ガラス製ハードディスク用研磨剤
19 エチレン誘導体および有害生物防除剤
20 4(5)−クロロメチル−2−フェニル−1,2,3−トリアゾール誘導体の製造法
21 アクリロニトリル化合物および有害生物防除剤
22 難燃剤及び難燃性樹脂組成物
23 安定型結晶を製造する方法
24 光学活性残基修飾シクロデキストリン、その製法及びその用途
25 高屈折率ハードコート膜及び反射防止基材
26 5−ブロモ−イソフタル酸ジアルキル化合物の製造方法
27 アクリレート化合物及びその製造方法
28 アクリレート化合物及びその製造法
29 コーティング組成物及び光学部材
30 4,6−ビス(置換)フェニルアゾレゾルシノール及び4,6−ジアミノレゾルシノールの製造法
31 カルバモイルテトラゾリノン化合物および除草剤
32 光学活性オキサゾリジノン化合物の製造法
33 脂環式ジカルボン酸誘導体の製造法及び脂環式ジカルボン酸誘導体
34 ベンゾピラン誘導体
35 4−オキシベンゾピラン誘導体
36 4−オキシベンゾピラン誘導体
37 メレムの製造方法
38 プール水の残留塩素濃度の自動制御方法
39 4,6−ジアミノレゾルシノール又はその塩の製造方法
40 5−(置換)アニリノ−4,6−ジアミノレゾルシノール又はその塩及びその製造法
41 トリアゾール化合物およびその製造法
42 インドール化合物及び農園芸用殺菌剤
43 キノリルアクリロニトリルの製造法及びその中間体
44 キノリルプロペナールの製造法
45 キノリルプロペナールの製造方法
46 アクリロニトリル化合物
47 2−アルコキシエトキシ−1,3,2−ジオキサホスホラン−2−オン類の製造方法
48 脂環式エポキシ化合物の製造法
49 3−(2−置換インドール−1−イル)スルホニル−1,2,4−トリアゾール誘導体及び製造法
50 トリアジン化合物および除草剤
51 カルバモイルテトラゾリノン類および除草剤
52 脂環式エステル化合物及びその製造法
53 高強度粉体塗料用樹脂組成物
54 耐衝撃性の向上した粉体塗料用樹脂組成物
55 ジヒドロピリダジノン化合物および除草剤
56 メタンスルホン酸メラム、その製造法及びそれを用いた難燃性ポリアミド樹脂組成物
57 光学活性コバルト錯体及び不斉シクロプロパン化反応
58 カルバモイルテトラゾリノン化合物および除草剤
59 光学活性オキサゾリン化合物及び該化合物を用いる光学活性アリルアルコール誘導体の製造法
60 即時脱型コンクリート製品の製造方法
61 アクリロニトリル化合物
62 カルバモイルテトラゾリノン誘導体および除草剤
63 アゾール縮合ヘテロ環アニライド化合物及び除草剤
64 キノリンカルバルデヒドの製造方法
65 キノリン誘導体の製造方法
66 5−ヒドロキシ−テトラヒドロ−2−ピリミジノンの製造法
67 アニライド化合物及び除草剤
68 トリス−(2,3−エポキシプロピル)−イソシアヌレート結晶体中の残留有機溶媒の低減化方法
69 キノリンカルボアルデヒドの製造法
70 アレン化合物を配位子としたβ−ジケトネート銅(I)錯体およびその製造法
71 アクリレート化合物及びその製造法
72 カルバモイルテトラゾリノン類及び除草剤
73 アクリロニトリル化合物
74 N−置換−5−ヒドロキシ−テトラヒドロ−2−ピリミジノンの製造方法
75 4−メチルピラゾール−5−カルボン酸化合物の製造方法
76 エポキシ化合物の製造方法
77 難燃性エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂組成物及びシアヌル酸尿素の製造方法
78 ノルボルナンt−ブチルエステル化合物及びその製造法
79 ジt−ブチルエステル化合物及びその製造法
80 ピペリジンカルボン酸誘導体の光学分割法

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