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番号 発明の名称
1 難燃剤
2 真空成膜装置
3 レンズ成形方法
4 ガラス光学素子の成形装置および成形方法
5 ガラスレンズの成形方法および成形装置
6 絶縁物の表面処理方法、プリンタヘッド及び記録媒体用基材
7 気相成長装置
8 真空蒸着装置
9 無電解めっき方法及び無電解めっき液
10 浄化装置
11 成膜方法及び成膜装置
12 薄膜パターンの形成方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法
13 ジュロリジン置換スチリル化合物及びその合成中間体、並びにこれらの製造方法
14 磁気シールド用鋼板およびその製造方法
15 ワーク移動式反応性スパッタ装置とワーク移動式反応性スパッタ方法
16 ガラス又はプラスチック成形品の成形方法及びこの方法により製作されたガラス又はプラスチック成形品
17 保護膜成膜装置
18 ヘテロ五員環で拡張されたビピリジン類及びその製造法
19 薄膜製造装置および薄膜製造方法
20 無電解めっき方法及びその装置
21 水性インク
22 電子ビーム蒸着方法
23 圧電セラミックスの製造方法
24 表面加工用冶具及び表面加工方法
25 スパッタリング用ターゲットおよびその製造方法
26 ブラウン管の防爆テープ及びその防爆構造
27 ビス(アミノスチリル)アントラセン化合物及びその合成中間体、並びにこれらの製造方法
28 ビス(アミノスチリル)ナフタレン化合物及びその合成中間体、並びにこれらの製造方法
29 磁気記録媒体の製造方法
30 磁気記録媒体の製造方法
31 化学的気相成長法用原料とこれを用いて製造したビスマス層状化合物、半導体装置の製造方法、並びに強誘電性メモリの製造方法
32 エピタキシャル成長方法及び成膜用ウエハ
33 ベータバリウムボレイト単結晶の製造方法
34 蒸着装置
35 ビス(アミノスチリル)スチルベン系化合物及びその合成中間体、これらの製造方法、並びに有機電界発光素子
36 バソフェナントロリン化合物及びその製造方法
37 スチロール樹脂廃材のリサイクル方法
38 電子薄膜材料、誘電体キャパシタおよび不揮発性メモリ
39 触媒スパッタリングによる薄膜形成方法及び薄膜形成装置並びに半導体装置の製造方法
40 半導体製造装置
41 イオン注入装置
42 窒化物系III−V族化合物の結晶製造方法、窒化物系III−V族化合物結晶基板、窒化物系III−V族化合物膜およびデバイスの製造方法
43 スパッタリング装置
44 プラズマクリーニング装置
45 機能フィルムへの粘着剤塗布方法と粘着剤塗布装置
46 プラズマ加工装置
47 無電解メッキ浴および導電膜の形成方法
48 基板処理装置および基板処理方法
49 めっき方法及びめっき構造
50 表面処理装置および表面処理方法並びに表面処理物
51 有機化合物の分解方法
52 防汚膜の形成方法、表示素子用フィルタおよびその製造方法
53 ガラス平板の張り合わせ方法および表示装置の製造方法
54 熱転写記録液
55 表面処理方法及びその装置
56 電鋳装置
57 樹脂成型体
58 制振性熱可塑性樹脂組成物および成形品
59 発光性結晶粒子、発光性結晶粒子組成物、表示用パネル及び平面型表示装置
60 真空加工装置
61 ゲーサイトウィスカー及びその製造方法
62 土壌改質剤及びその製造方法
63 常圧CVD装置
64 抗菌剤及びその製造方法
65 成膜方法及びその装置
66 常圧CVD法及びその装置
67 熱転写型ラミネートフィルム
68 アミノスチリルアントラセン化合物及びその合成中間体、並びにこれらの製造方法
69 土壌改質剤及びその製造方法
70 気化器、気化器の使用方法および液体原料の気化方法
71 単結晶の作製方法
72 液晶表示素子
73 カラー陰極線管用磁気シールド鋼板およびその製造方法
74 磁気シールド用鋼板およびその製造方法
75 無電解メッキ装置および導電膜の形成方法
76 めっき方法及びめっき構造
77 水溶性高分子化合物及びその製造方法、並びに使用済みプラスチックの再利用方法
78 表面処理装置用排気ガス処理システム
79 成膜装置
80 熱転写記録液
81 廃液処理方法、薬液処理方法及び薬液処理装置
82 スパッタリング装置
83 マンガン亜鉛フェライト単結晶の製造方法
84 無電解メッキ処理方法およびその装置

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