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発明の名称 施釉設備
発行国 日本国特許庁(JP)
公報種別 公開特許公報(A)
公開番号 特開2001−64088(P2001−64088A)
公開日 平成13年3月13日(2001.3.13)
出願番号 特願平11−239150
出願日 平成11年8月26日(1999.8.26)
代理人
発明者 冨岡 豊 / 堀内 智 / 笠原 慎吾 / 川上 克博 / 上野 徹 / 高田 宏行 / 松本 幸成 / 須田 稔光 / 中島 靖 / 山田 茂幸
要約 目的


構成
特許請求の範囲
【請求項1】 釉薬原料以外にAg及び/又はCuを含有する抗菌剤を含む釉薬を調製するための調製手段と、前記調製した釉薬の粒度を調整し異物を除去するための釉薬精製手段と、前記精製した釉薬を貯蔵するための貯蔵手段と、前記釉薬を施釉するための施釉手段と、前記調製手段から前記釉薬精製手段へ調製された釉薬を搬送するための第一の送釉経路と、前記釉薬精製手段から前記貯蔵手段へ精製された釉薬を搬送するための第二の送釉経路と、前記貯蔵手段から前記施釉手段へ釉薬を搬送するための第三の送釉経路とを備え;前記第二の送釉経路、前記第三の送釉経路、前記施釉手段のうちの少なくとも1箇所には異物除去手段がさらに設けられていることを特徴とする施釉設備。
【請求項2】 さらに、施釉後回収された釉薬及び/又は未使用のまま施釉手段を通過した釉薬を、前記貯蔵手段に返送するための第四の送釉経路を備え、かつ前記第四の送釉経路には、異物除去手段が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の施釉設備。
【請求項3】 前記異物除去手段は、ストレーナー、メッシュ、フィルター、マグネット、イオン交換樹脂のうちの少なくとも1種を備えていることを特徴とする請求項1又は2に記載の施釉設備。
【請求項4】 前記第二の送釉経路、前記貯蔵手段、前記第三の送釉経路、前記施釉手段、前記第四の送釉経路、前記異物除去手段のうちの1つ以上における釉薬と接触する部分は、高アルミナセラミックス、各種ステンレス、樹脂のいずれかにより形成されていることを特徴とする請求項1〜3に記載の施釉設備。
【請求項5】 前記第二〜第四の送釉経路中の搬送ポンプ、ポンプの圧力制御用調圧弁、前記施釉手段のうちの1つ以上における釉薬と接触する部分は、高アルミナセラミックス又は各種ステンレスにより形成されていることを特徴とする請求項1〜4に記載の施釉設備。
発明の詳細な説明
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、AgやCuを含有する抗菌剤を含む釉薬の施釉に好適な施釉設備に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、AgやCuを含有する抗菌剤を含まない釉薬の施釉設備には、釉薬を調製するための調製手段と、前記調製した釉薬の粒度を調整し異物を除去するための釉薬精製手段と、前記精製した釉薬を貯蔵するための貯蔵手段と、前記釉薬を施釉するための施釉手段と、前記調製手段から前記釉薬精製手段へ調製された釉薬を搬送するための第一の送釉経路と、前記釉薬精製手段から前記貯蔵手段へ精製された釉薬を搬送するための第二の送釉経路と、前記貯蔵手段から前記施釉手段へ釉薬を搬送するための第三の送釉経路とを備えた施釉設備を用いていた。すなわち、異物の除去は、釉薬原料中の異物を除去するために、釉薬を貯蔵する前にのみ行っていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】近年、消費者の清潔志向が高まり、表面に抗菌性を付与した施釉製品が開発されている。施釉製品表面に抗菌性を付与する手段として、釉薬中に抗菌剤を混入し、その銀系抗菌剤含有釉薬を施釉製品の表面に施釉するという方法が知られている。しかし、この方法を実施する場合、上記抗菌剤を含まない場合の処理を行うと、貯蔵中に釉薬中に添加された抗菌剤からAg成分が釉薬スラリー中に徐々に溶出して、特に貯蔵手段より搬送される釉薬スラリーに接触する金属部品との間で様々な化学反応を起こし、生成した金属化合物が各種部品上に析出し、または釉薬中に混ざり込み、結果として施釉製品表面に混入し、焼成後の製品の外観欠点に繋がるという問題点があった。そこで、本発明では、施釉製品の表面外観を低下させることなく、抗菌性を有する施釉製品を製造するための施釉設備を提供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するために、本発明では、釉薬原料以外にAg及び/又はCuを含有する抗菌剤を含む釉薬を調製するための調製手段と、前記調製した釉薬の粒度を調整し異物を除去するための釉薬精製手段と、前記精製した釉薬を貯蔵するための貯蔵手段と、前記釉薬を施釉するための施釉手段と、前記調製手段から前記釉薬精製手段へ調製された釉薬を搬送するための第一の送釉経路と、前記釉薬精製手段から前記貯蔵手段へ精製された釉薬を搬送するための第二の送釉経路と、前記貯蔵手段から前記施釉手段へ釉薬を搬送するための第三の送釉経路とを備え;前記第二の送釉経路、前記第三の送釉経路、前記施釉手段のうちの少なくとも1箇所には異物除去手段がさらに設けられていることを特徴とする施釉設備を提供する。貯蔵手段より搬送される釉薬スラリーに接触する部分の少なくとも1箇所に異物除去手段を設けることで、釉薬スラリー中の異物が施釉前に除去されやすくなり、施釉製品の外観不良が生じにくくなる。
【0005】本発明の好ましい態様においては、さらに、施釉後回収された釉薬及び/又は未使用のまま施釉手段を通過した釉薬を、前記貯蔵手段に返送するための第四の送釉経路を備え、かつ前記第四の送釉経路には、異物除去手段が設けられているようにする。そうすることで、異物が混入されやすい施釉後回収された釉薬及び/又は未使用のまま施釉手段を通過した釉薬を利用した場合にも、釉薬スラリー中の異物が施釉前に除去されやすくなり、施釉製品の外観不良が生じにくくなる。
【0006】本発明の好ましい態様においては、前記第二の送釉経路、前記貯蔵手段、前記第三の送釉経路、前記施釉手段、前記第四の送釉経路、前記異物除去手段のうちの1つ以上における釉薬と接触する部分は、高アルミナセラミックス、各種ステンレス、樹脂のいずれかにより形成されているようにする。そうすることで、釉薬スラリーと部品とが接触しても、様々な化学反応が生じにくくなる。従って、施釉製品の外観不良がより生じにくくなる。
【0007】本発明の好ましい態様においては、第二〜第四の送釉経路中の搬送ポンプ、ポンプの圧力制御用調圧弁、前記施釉手段のうちの1つ以上における釉薬と接触する部分は、高アルミナセラミックス又は各種ステンレスにより形成されているようにする。上記部材は、タングステンカーバイド、アルミ合金、鋳鉄、真鍮等の特にAg等との腐食反応の激しい部材であり、腐食により生成したそれ自身の化合物及び/又はそれに含まれる不純物成分のCo,Cr,Ni等の金属または化合物が、抗菌性釉薬中に混入し、焼成後色ボツ等の外観欠点に繋がることがある。上記の部材をあらかじめ反応性の低い部材に取り替えることにより、異物混入を未然に防止し、釉薬表面に外観欠点のない施釉製品を提供することができる。また、同時に上記部材はアブレジョン摩耗しやすいので、樹脂製よりは高アルミナセラミックス又は各種ステンレス製が好ましく、ステンレスの内、より好ましくは、SUS304が好適に利用される。
【0008】
【発明の実施の形態】以下に本発明の一実施態様を図1に基づいて説明する。図1は本発明の装置における一実施態様の設備の説明図を示している。Ag及び/又はCuを含有する抗菌剤を含有する抗菌性釉薬は調製手段101で粉砕、混合され、精製手段102で篩処理等の方法で粒度を調整され、また篩処理、マグネット処理等の方法で異物除去されて、貯蔵手段103で保管される。各々の手段は送釉配管で繋がれており、その入口及び/又は出口には目開き0.3mm以下の複数の性質の異なるストレーナー1が設けられている。複数の性能の異なるストレーナーを組合わせることにより、異物の段階的な除去が可能となり、ストレーナーの清掃及び/又は交換頻度を減少することが可能になる。それにより抗菌性釉薬およびそれを施釉した抗菌性衛生陶器の生産性を向上させることができる。また送釉配管2の材質としては、塩化ビニル樹脂が使用されている。
【0009】その後、抗菌性釉薬は必要に応じて貯蔵手段103からダイアフラムポンプ等の搬送ポンプ5によりスプレーガン等の施釉手段104に送られ、スプレーコーティングが行われる。施釉手段104の直前には異物除去手段が取付けられており、製品表面への異物の付着を防止している。ここで、異物除去手段には、ストレーナー、メッシュ、フィルター、マグネット、イオン交換樹脂のうちの少なくとも1種が利用できるが、特に、目開き0.3mm以下のフィルターが好適に利用できる。
【0010】また同時に、施釉ブース105内に飛散した抗菌性釉薬は回収され、再利用釉として送釉配管2を通って貯蔵手段103に返送される。この時貯蔵手段の入口には、異物除去手段が取り付けられている。ここで、異物除去手段には、ストレーナー、メッシュ、フィルター、マグネット、イオン交換樹脂のうちの少なくとも1種が利用できるが、特に、振動式の篩3及びマグネット4が設けられているようにすると、より確実に、異物の混入を未然に防げるので好ましい。
【0011】上記設備を利用して、施釉製品を作製すると、釉薬スラリー中の異物が施釉前に除去されやすくなり、施釉製品の外観不良が生じにくくなる。
【0012】
【発明の効果】本発明によれば、施釉製品の表面外観を低下させることなく、抗菌性を有する施釉製品を製造するための施釉設備を提供することが可能となる。




 

 


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