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番号 発明の名称
1 オレフィン重合用触媒及びそれを用いたオレフィン重合体の製造方法
2 フェニレン基含有(共)重合体組成物
3 難燃性材料
4 水性被覆組成物
5 膜形成用組成物、膜の形成方法および低密度膜
6 膜形成用組成物、膜の形成方法および低密度膜
7 膜形成用組成物、膜の形成方法および低密度化膜
8 膜形成用組成物、膜の形成方法および低密度化膜
9 膜形成用組成物、膜の形成方法および低密度化膜
10 1,4−ジエン類の製造方法
11 フェノール系化合物中の金属除去方法
12 含フッ素ヒドロキシ化合物、その重合体、その硬化性樹脂組成物、およびその製造方法
13 ケイ素ポリマーおよびその製造方法
14 膜形成用組成物、膜の形成方法および低密度膜
15 膜形成用組成物、膜の形成方法および低密度膜
16 膜形成用組成物、膜形成用組成物の製造方法および絶縁膜形成用材料
17 下塗り用コーティング組成物
18 膜形成用組成物、膜の形成方法および低密度膜
19 ストリッパブル膜形成用組成物
20 ストリッパブル膜形成用組成物
21 ガラスペースト組成物、転写フィルムおよびプラズマディスプレイパネル
22 無機造形物の製造方法
23 膜形成用組成物、電子材料、膜の形成方法及び膜
24 膜形成用組成物の製造方法、膜形成用組成物および絶縁膜形成用材料
25 銅の化学機械研磨用水系分散体
26 親水性ポリマー組成物
27 反射防止膜形成組成物
28 共重合体ラテックス
29 共重合体ラテックスおよび紙塗工用組成物
30 共重合体ラテックス
31 共重合体エマルジョンおよびその製造方法
32 光学用成形材料および光ディスク
33 耐候性ゴム組成物
34 膜形成用組成物および絶縁膜形成用材料
35 建材用コーティング組成物および建材
36 膜形成用組成物の製造方法、膜形成用組成物および絶縁膜形成用材料
37 反射防止膜形成組成物
38 着雪・着氷防止用コーティング組成物および着雪・着氷防止用塗膜の形成方法
39 含フッ素ビニル化合物、その重合体、その硬化性樹脂組成物、その硬化物、およびその製造方法
40 チタン−シリコン複合酸化物前駆体、その前駆体溶液、その製造方法、およびチタン−シリコン複合酸化物
41 ポリアルキレンオキサイド誘導体の精製方法、膜形成用組成物、膜形成方法および低密度膜
42 有機ケイ素化合物、その製造方法および半導体製造用材料
43 膜形成用組成物および絶縁膜形成用材料
44 膜形成用組成物および絶縁膜形成用材料
45 ガラス用コーティング組成物およびコーティングガラス塗膜の形成方法
46 膜形成用組成物、膜の形成方法および低密度化膜
47 膜形成用組成物、膜の形成方法および低密度化膜
48 膜形成用組成物、膜の形成方法および低密度化膜
49 膜形成用組成物、膜の形成方法および低密度化膜
50 膜形成用組成物、膜の形成方法および低密度化膜
51 膜形成用組成物、膜の形成方法および低密度化膜
52 衛生陶器用コーティング組成物および衛生陶器
53 膜形成用組成物、膜の形成方法および低密度化膜
54 テトラトリアゼン化合物、および高分子化合物用架橋剤
55 フェニレン基含有共重合体の製造方法、膜形成材料、絶縁材料、光学材料、処理方法及びフェニレン基含有共重合体膜
56 ケイ素ポリマーの製造方法
57 フェニレン基含有(共)重合体組成物
58 膜形成用組成物および絶縁膜形成用材料
59 ポリマー組成物
60 膜形成用組成物および絶縁膜形成用材料
61 化学機械研磨用水系分散体
62 ノルボルニル基を持つシリコン化合物、コーティング組成物およびシリコン膜の製造法
63 硬化性組成物およびカラーフィルタ保護膜
64 ノルボルネン系開環重合体組成物
65 ケイ素含有重合体の製造方法
66 シロキサン結合含有重合体の製造方法
67 研磨用組成物および研磨方法
68 研磨用組成物および研磨方法
69 半導体部品用洗浄剤および半導体部品の洗浄方法
70 半導体部品用洗浄剤および半導体部品の洗浄方法
71 半導体部品用洗浄剤、半導体部品の洗浄方法、研磨用組成物、および研磨方法
72 半導体部品用洗浄剤、半導体部品の洗浄方法、研磨用組成物、および研磨方法
73 半導体部品用洗浄剤、半導体部品の洗浄方法、研磨用組成物、および研磨方法
74 半導体部品用洗浄液
75 診断用粒子の製造方法
76 ロール用ゴム組成物
77 熱可塑性樹脂組成物および熱可塑性樹脂製成形体
78 耐候性樹脂組成物
79 車両用コーティング組成物、硬化体および車両への塗膜の形成方法
80 液晶配向剤および液晶表示素子
81 エポキシ化ポリイソプレンとアミノ基含有ポリマーからなる組成物およびその成形物。
82 コーティング組成物および硬化体
83 ガラスペースト組成物、転写フィルムおよびプラズマディスプレイパネル
84 リン変性ケイ素ポリマー、その製法、それを含有する組成物ならびにリン変性シリコンの製法
85 硬化性樹脂組成物および硬化物
86 硬化性樹脂組成物および樹脂硬化物
87 硬化性組成物およびその製造方法
88 含フッ素オキセタン共重合体、その製造方法、その組成物、およびその硬化物
89 複合粒子及びその製造方法
90 ゴム組成物およびタイヤ
91 電着用水性分散液、高誘電率フィルムおよび電子部品
92 半導体部品用洗浄剤、半導体部品の洗浄方法、研磨用組成物、および研磨方法
93 新規ポリヒドロキシ化合物およびそれを用いて得られたポリエステル
94 (変性)共役ジエン系重合体の製造方法
95 架橋発泡体及びその製造方法
96 ジオレフィン系重合体組成物、その製造方法、および加硫用ゴム組成物
97 高硬度加硫ゴム組成物
98 ジオレフィン系重合体組成物、その製造方法、および加硫用ゴム組成物
99 ポリオルガノシロキサン系組成物の製造方法、ポリオルガノシロキサン系組成物、および膜
100 膜形成用組成物、膜の形成方法およびシリカ系膜

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