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番号 発明の名称
1 電子ビーム排ガス処理装置
2 化学処理プラントにおけるアルカリの連続供給方法及びその装置
3 廃棄物炭化装置
4 CO2固定/不活性化方法
5 ポリッシング装置
6 表面処理用薬液の再利用方法及び装置
7 研磨装置
8 研磨装置
9 水処理用高分子凝集助剤及びその製造方法
10 電気集塵装置
11 電気集塵装置
12 紫外線を利用したガス分解装置
13 光電子放出材とそれを用いた負イオン発生装置
14 ドレッシング装置及びポリッシング装置
15 ポリッシング装置
16 研磨装置
17 ポリッシング装置
18 有機性廃棄物の処理方法
19 PCB汚染物の除染方法
20 汚泥掻寄せ機
21 基板洗浄・乾燥装置の制御装置
22 紫外線ランプ保護管清掃装置及び紫外線殺菌装置
23 ポリッシング装置
24 窒素化合物を含む排ガスの処理方法及び装置
25 揮発性有機物及び/又は悪臭物質を含む排ガスの処理方法と装置
26 真空処理装置
27 基板洗浄装置
28 超臨界水・亜臨界水利用装置用部材
29 親水性ナノ多孔材料及びその製造方法
30 PCB類汚染物洗浄排ガスの処理方法およびその装置
31 基板処理装置
32 脱塩素化分解プロセス副生成物の処理方法
33 溶融炉における溶融飛灰の処理方法
34 研磨用砥石
35 水分吸脱着材料
36 低温プラズマ反応装置
37 灰溶融処理方法
38 廃油の精製・再生方法
39 懸濁液濃縮方法及び濃縮装置
40 濾過面の洗浄方法及び固液分離装置
41 水処理用固液分離装置の濾過面の洗浄方法及び固液分離装置
42 焼却飛灰の無害化処理方法
43 CMP装置及びその砥液供給方法
44 凝集沈殿設備および凝集沈殿方法
45 排ガス処理装置及びその運転方法
46 横型パドル式発酵装置及び運転方法
47 研磨装置及びドレッシング方法
48 複合金属超微粒子及びその製造方法
49 悪臭ガスの脱臭方法および装置
50 フッ素含有化合物を含む排ガスの処理方法及び装置
51 吸着材及び脱臭方法
52 基板保持装置及び該基板保持装置を備えたポリッシング装置
53 スラリーポンプ
54 金属合金多孔質体の製造方法
55 気体浄化用フィルタ
56 水素分離用合金膜の製造方法
57 除湿又は熱交換用機能素子とその製造方法
58 固液分離処理方法及び固液分離装置
59 多段伸縮機構及び研磨装置
60 ポリッシング装置及び方法
61 砥液供給装置
62 触媒を担持した多孔質体の製造方法
63 PCB汚染機器の浄化方法
64 焼却灰と集塵灰の溶融処理方法及びその装置
65 ポリッシング装置および方法
66 排ガスの処理方法
67 担持触媒の製造方法
68 切削油剤供給装置
69 研磨装置及びその研磨方法
70 光触媒と光電子放出材及びこれらを用いた反応装置
71 生ごみを収容した生分解性プラスチック袋の処理方法と装置
72 電気再生式脱塩装置
73 凝集剤及び水処理における凝集処理方法
74 排ガスの生物処理方法及び装置
75 研磨装置
76 金属の接合方法
77 懸濁液の固液分離方法
78 汚泥の脱水乾燥装置及び方法
79 生物脱臭方法
80 研磨装置
81 固液分離装置
82 ポリッシング装置
83 有害塩素化合物含有固体の処理方法及び装置
84 研磨装置
85 砥液供給装置
86 ろ過体及びそれを用いた固液分離装置及びその方法
87 ウエハ保管庫の清浄方法及び装置
88 研磨用砥粒及びその製造方法
89 負イオンの発生方法とその装置
90 負イオンの発生方法
91 気体の清浄化ユニット装置及び清浄化方法
92 粒子状物質の捕集装置と捕集方法
93 汚水のろ過分離方法及び装置
94 廃液処理システム
95 気体の清浄化ユニット装置及び清浄化方法
96 吸着性構造体及び吸着性構造体の製造方法
97 イソプロピルアルコールを含む排ガスの生物処理方法
98 有機性廃棄物の堆肥化設備における脱臭方法及び脱臭装置
99 フッ素含有化合物を含む排ガスの処理方法
100 光触媒及びその製法とそれを用いる気体清浄化装置

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