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ウェーブろう付けまたは錫めっきの機械、その方法および不活性化装置 - レール・リキード・ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード
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発明の名称 ウェーブろう付けまたは錫めっきの機械、その方法および不活性化装置
発行国 日本国特許庁(JP)
公報種別 公開特許公報(A)
公開番号 特開平10−113765
公開日 平成10年(1998)5月6日
出願番号 特願平9−115943
出願日 平成9年(1997)5月6日
代理人 【弁理士】
【氏名又は名称】鈴江 武彦 (外4名)
発明者 マルク・レテュルミ
要約 目的
層流波の平坦面の制限された不活性化を達成できるウェーブろう付けまたは錫めっきを提供しようとするものである。

構成
ろう材受槽(9)と、いわゆる層流形(8b)を有する少なくとも1つのろう材波を形成する手段と、前記層流波に接触してろう付けまたは錫めっきされる部品を運ぶコンベアシステム(2)と、前記波の近辺にガスを噴射する噴射手段(12)とを具備するウェーブろう付けまたは錫めっき機械であって、前記手段は、隣接し、前記波の下流の位置に配置され、かつろう材波に向き合う壁17を持つ噴射器を備え、前記壁は前記ろう材波の平坦面に向けて導入される第1ガス噴射を供給するように位置される少なくとも第1開口群(15)を有る。
特許請求の範囲
【請求項1】 ろう材受槽(9);いわゆる層流形(8b)を有する少なくとも1つのろう材波を形成する手段;前記層流波に接触してろう付けまたは錫めっきされる部品を運ぶコンベアシステム(2);前記波の近辺にガスを噴射する噴射手段(12);下流方向の波のオーバーフローの流速を制御できる前記波に対する高さ調節のダムシステム(10)であって、前記ダムシステムは前記ろう材受槽内に浸漬するシュートの形態を有するか、前記ろう材受槽内に浸漬するスカート構造を備えるか、または前記ろう材受槽内に浸漬するプレートの形態を有する;を具備したウェーブろう付けまたは錫めっき機械において、前記噴射手段は、隣接し、前記波の下流の位置に配置され、かつろう材波に向き合う壁17を持つ噴射器を備え、前記壁は前記ろう材波の平坦な表面に向けて導入される第1ガス噴射を生成するように位置される第1開口群(15)を有し、かつ前記壁は場合において前記浸漬されたシュートもしくはスカートの内部、または前記プレートと前記噴射器の間に位置する空間に第2ガス噴射をなすように前記壁に位置される第2開口群(16)を有する。
【請求項2】 前記噴射器およびシュートは、共通の壁を有する請求項1記載の機械。
【請求項3】 第1開口群は、第1ガス噴射を前記層流波の平坦な表面に対して接線に沿って導入されるように位置される前述の請求項1、2のいずれか1つの記載の機械。
【請求項4】 前記2つの開口群の少なくとも1つの開口は、前記開口から0.5〜30m/s、好ましくは0.5〜10m/sで出るガス速度を得るのに必要な大きさにする請求項1〜3いずれか1つの記載の機械。
【請求項5】 前記2つの開口群の少なくとも1つは、少なくとも1つがスリット(18)の列からなる請求項1〜4いずれか1つの記載の機械。
【請求項6】 前記ガス噴射器は、前記層流波の全幅を横切って延出する請求項1〜5いずれか1つの記載の機械。
【請求項7】 前記噴射器は、上壁(19)を備える前述の請求項のいずれか1つの記載の機械。
【請求項8】 前記噴射器の上壁に強固に取り付けられる偏向部品(13)を備える請求項7記載の機械。
【請求項9】 前記偏向部品は、前記噴射器の全幅に亘って延出する請求項8記載の機械。
【請求項10】 ろう付けまたは錫めっきされる部品はいわゆる層流形を持つ液状ろう材の少なくとも1つの波に接触して運ばれ、保護ガスは前記波の少なくとも一部に亘って導入され、かつ下流方向のろう材波のオーバーフロー流速は前記波に対して調節された高さを有するダムシステムによって制御され、前記ダムシステムはろう材受槽内に浸漬するシュートの形態を有するか、前記ろう材受槽内に浸漬するスカート構造を備えるか、または前記ろう材受槽内に浸漬するプレートの形態を有するウェーブろう付けまたは錫めっきの方法において、前記保護ガスは、隣接し、前記波の下流に位置され、かつろう材波に向き合う壁を持つ噴射手段によって前記波に亘って導入され、前記壁は前記ろう材波の平坦な表面に向けて導入される第1ガス噴射を生成するように位置される開口の第1群と、場合において前記浸漬されたシュートもしくはスカートの内部、または前記プレートと前記噴射器の間に位置する空間に第2ガス噴射をなすように前記壁に位置される第2開口群を有する。
【請求項11】 前記2つの群の少なくとも1つの開口から出るガスの速度は、0.5〜30m/s、好ましくは0.5〜10m/sである請求項10記載の方法。
【請求項12】 ウェーブろう付けまたは錫めっき機械の不活性化装置であって、前記ウェーブろう付けまたは錫めっき機械は、下流方向の波のオーバーフロー流速を制御できる層流波に対する高さ調節のダムシステムを備え、前記ダムシステムはプレートまたはシュートの形態を有し、前記装置は、隣接し、前記層流波の下流の位置に配置され、かつ前記層流波に向き合う壁を持つガス噴射器を備え、前記壁は前記層流波の平坦な表面に向けて導入される第1ガス噴射を生じるように位置される第1開口群を有し、かつ前記壁は前記シュート内部、または前記プレートと前記噴射器の間の空間の内部に第2ガス噴射を生じるように前記壁に位置される第2開口群を有する。
【請求項13】 前記噴射器は、上壁(19)を備え、かつ前記噴射器の上壁に強固に取り付けられる少なくとも1つの偏向部品(13)を備える請求項12記載の装置。
発明の詳細な説明
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、“静止槽”か“ウェーブろう付け”機械として知られた機械での運動に置かれる液状ろう材の槽を備えた装置を用いてなされるろう付けまたは錫めっき操作に関する。
【0002】
【従来の技術】これらの機械は、特に電気回路のような支持体に電気部品をろう付けしたり、電気部品の端子に錫めっきするために用いられる。
【0003】ウェーブろう付け装置は、ろう付けされる回路(または錫めっきされる部品)がノズルを介在するタンクを存するろう材浴槽を汲み上げることによって生成される液状ろう材の波に接触して運ばれるように設計されている。
【0004】前記部品は、一般に前記機械から上流ゾーンで予めフラックス処理され、主に前記ろう材よるそれらの十分な濡れを促進するために金属表面を脱酸化する。フラックス処理操作は、前記回路にすでに堆積されたフラックスを活性にするためと前記回路と部品をホットソルダリングゾーンに達する前に予備加熱するための両方をなす予備加熱操作が後に続く。
【0005】前記ノズルの結合構造は、ろう材波の形で決定される。ウェーブろう付け機械は、通常、2つの波、“乱流”と呼ばれる第1波と比較的大きな平坦上面を出現させる“層流”と呼ばれる第2波、を有する。
【0006】前記機械にろう付けまたは錫めっきされる部品が存在しない場合において、この層流波領域の液状ろう材は前記機械の上流向かって非常に低速度で流れる。部品が前記層流波に接触して達すると、部分反転の合金流が生じ、合金の一部は前記機械の下流方向に流れる。
【0007】前記機械は、それゆえ通常、ダムシステムと述べることができるものを備え、その高さは前記ろう材の下流流れの流速を制御するために用いられる。このダムシステムは、ろう材を周囲の槽に戻すための単純な金属プレートまたはガイドシュートからなる。
【0008】1つは、この槽流波領域での前記流速と合金の流れ方向は得られたろう材の性質上で決められる影響を有することに気が付く。
【0009】あるユーザは、それらの生産物の非常に特有の性質に適合するために、実質的にこの下流ろう材流れを規制する、好ましくはろう材の下流オーバフローを非常に僅かかもしくはほぼ零にすることに気が付く。
【0010】ウェーブろう付け(錫めっき)機械は、通常、大気の空気雰囲気に開放される。そのような機械のユーザによって遭遇される一つの問題は、空気へのその露出の結果としてろう材槽の表面での酸化層(ドロス)の形成であり、実質のないろう材のロスのみならず、定期的に槽を清浄する必要をもたらす。例えば、中型機械では1時間操作あたり1kg以上のドロスの形成をもたらす。
【0011】層流波の特別の場合を考慮すると、前記層流波の平坦な表面に定常的に形成するドロスは効果的に除去できず、従ってろう付けまたは錫めっきの結果の性質に十分に逆の効果として前記部品上に堆積されるので、ろう材の零もしくは過度に少ない下流オーバーフローは多くの不利益を現れるはずである。
【0012】詳細には述べないが、ウェーブろう付け機械の層流波の平坦面の場合においてここでくどくど述べたドロス形成現象は、制止槽の平坦面でさえも供する。
【0013】多様な技術解決策は、周囲空気による酸化からろう材槽を保護するために以下に提案されている。
【0014】a)解決策の第1カテゴリーは、限られた保護雰囲気、少なくともろう材槽の上方、に置くことからなるが、休止の機械に時々同様に置かれる。したがって、完全に不活性化された機械は気密トンネルとして外付けが出現し、設計しているが、大気空気に開放の既にある従来の機械に少なくともろう材槽の領域に窒素ブランケットを配置して用いることができる単純な覆いまたはフードシステムもまた出現している。
【0015】解決策の第1カテゴリーにおいて、出願人の米国特許第5161727は少なくともろう材槽の直接的な上方で規定している覆いの配置、拡散取り付け覆いの上部に開口しているガス噴射チャンネルのシステムを持つ気密手段によって周囲雰囲気から分離される内部空間を備えた不活性化装置を提案した。
【0016】前述した文献で述べられた不活性化装置は、既にあるシステム(特に噴射ガスの流速と、ろう材槽上方に達する残余酸素の濃度との間の折衷を最大限に活用する点から見て)の性能の実質的な改善を示すと同時に、このシステムは市場に出回っているウェーブろう付け機械のそれぞれの型に対して実質的に特注となるので比較的複雑で高価な設計となる。
【0017】b)解決策の第2のカテゴリーは、波上方の閉鎖空間のないろう材波の近辺に位置される噴射器を用いる不十分な保護雰囲気を配置することを含む。
【0018】前記装置は、この第2カテゴリーの関与するWO93/11653の教示した。
【0019】それらの非常に制限された形態を考慮すると、これらの方法によってなされる不活性化の性状を制御することは困難であると考えられ、実際には低酸素レベルを達成するのに2つの対称的噴射器を必要とする。
【0020】さらに、このカテゴリーの解決策に関し、層流波によりもたらつれる特別の問題に対する解決を扱かったり、供したりする文献はどこにもない。
【0021】c)ドロス形成の問題に対する第3のカテゴリーの解決策は、層流波の表面で高い被覆力を持つ油膜の使用を適用する。
【0022】前記油保護システムは、ボード上の油堆積物の存在(困難でかつ不完全に清掃の履行を必要とすること)、ろう材槽内の油の蓄積による機械保守の頻繁な時間を費やす必要、および人々や装置のいずれかの環境への害をもたらす油蒸発速度を含む油使用に関連する典型的な不利益(特に加熱源の存在で)を有する。
【0023】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、層流波(既に示したように層流波は極端に低い流れによる非常に特別な操作問題をもたらす)の平坦面の制限された不活性化(制限システムの使用を要求せずに)を達成できるウェーブろう付けまたは錫めっきを提供し、その機械設計は層流波の表面で達成される残余酸素量とこの波に供給されるガスの流速との間の非常に好ましい折衷を簡単かつ経済的に得ることができ、この流速は特別のユーザ側の経済的仕様書に適合することを必要とする場合、10m3/h以下にでき、好ましくは5m3 /h以下である。
【0024】本発明の別の目的は、機械の層流波の平坦な表面上のドロス形成を十分低減することができる条件を提供する。
【0025】
【課題を解決するための手段】出願人による研究は、そのような結果が隣接し、層流波の下流の位置に配置され、かつこの波に向き合う前記層流波の平坦な表面に向けて導入される第1ガス噴射を生成するように位置される開口群の少なくとも1つを有する壁を備えるガス噴射器の使用によって得ることを示す。
【0026】これらの研究は、次の測定の組合わせ使用の有益な形態を証明する:槽中のろう材の下流溢れ対し例えばプレートまたはガイドシュートの形態を有するダムシステムの使用で、前記波に対する前記ダムシステムの高さ調節は前方向(すなわち機械の下流方向)への層流波の流速調節をなす;プレートの使用の場合、ろう材槽に浸漬されたプレートを用いる;シュートの使用の場合、前記槽に浸漬されたシュートを用いるか、またはシュートにある程度機能されるように槽に浸漬されたスカートを付設する;および隣接し、前記層流波の下流の位置に配置され、かつこの波に向き合う壁を持つガス噴射器の使用で、この壁は前記層流波の平坦な表面に向けて導入される第1ガス噴射を生成するように位置される第1開口群と、前記噴射器とプレート(この場合“プレート”ダム)間に位置する空間またはスカート(この場合“シュート”ダム)の内部に第2ガス噴射をなすように前記壁に位置される第2開口群とを持つ前記波に向かうガスを導く少なくとも2つの開口群を有する。
【0027】例示して以下に詳細に述べるるように、それら測定の組合わせ使用は殆ど澱んだ層流波の困難な場合でさえ、いかなる制限手段を要求せずに非常に効果的な不活性を与える。ボードの通過時に、数10ppmのみの残余酸素量が非常に適度のガス放出速度(数m3 /h)を得ることができることを証明する。
【0028】本発明に係わるウェーブろう付けまたは錫めっき機械は、ろう材受槽;いわゆる層流形を有する少なくとも1つのろう材波を形成する手段;前記層流波に接触してろう付けまたは錫めっきされる部品を運ぶコンベアシステム;前記波の近辺にガスを噴射する噴射手段;を具備し、前記噴射手段は、隣接し、前記波の下流の位置に配置され、かつろう材波に向き合う壁を持つ噴射器を備え、前記壁は前記ろう材波の平坦な表面に向けて導入される第1ガス噴射を生成するように位置される少なくとも1つの第1開口群を有する。
【0029】前述したようにこの発明の遂行の有益な形態において、前記機械は下流方向の波のオーバーフロー流速を制御できる前記波に対する高さ調節のダムシステムを備え、前記ダムシステムは前記ろう材受槽内に浸漬するシュートの形態を取るか、または前記ろう材受槽内に浸漬するスカート構造を備え、かつ前記壁は前記シュートもしくは前記スカートの内部に第2ガス噴射をなすようにそれに位置される第2開口群を有する。
【0030】本発明の一つの例において、前記噴射器および前記シュートは噴射口が供される共通の壁を有する。その形態に関連して後により明確に示すように、そのような形態において第2噴射ガスは噴射器の内部からスカートの内部に直接通過する。
【0031】この形態は、組立物の構築の容易さ、従ってコストの遂行の観点から十分な有益さを与える。
【0032】前記スカート内部への第2ガス噴射の注入は、例えば適合される初期結合構造に依存してスカートの壁に存する境界の穴、もしくはスカートとシュートの境界、またはシュートの下部に向かい合う第2開口群を配置することによって遂行される。
【0033】この発明のもう一つの例において、機械は前記ろう材受槽内に浸漬するプレートの形態を取るダムシステムを備え、前記噴射器の壁は前記噴射器と前記プレートの間に位置する空間に第2ガス噴射を行うようにその壁に位置される第2開口群を有する。すぐ前の形態における“シュート”は、前記プレートと前記噴射器の間にある手法で形成される。
【0034】“下流”方向は、ろう付けされるべき部品が機械で運ばれる方向として理解されるべきである。
【0035】この発明に係わるガス放出“開口”は、ガスが前記噴射器から逃散するいかなる種類の穴形態として理解されるべきであり、場合により例えば従来の円形開口またはスリットを持つ。
【0036】第1開口群は、層流波の平坦面に対して接線に沿って導入されるように前記噴射器の壁に効果的に位置される。このような配置は、前記波の表面にガス噴射に対するコアンダ効果の生成を助長し、それゆえ不活性化をより効果的になす。
【0037】前記スカート内部への第2ガス噴射の注入の前述の配置は、第1ガス噴射による空気侵入の寄生的現象を避けるための予期しない効果をもたらす。
【0038】前記開口群の少なくとも1つの開口は、開口外に0.5〜30m/sのガス速度が得られるのに必要な大きさにすることが好適である。好ましくは、ガス速度は0.5〜10m/sの範囲の速度、より好ましくは0.5〜5m/sのより狭い範囲である。
【0039】この発明の1つの例において、前記噴射手段は前記層流波の全幅に亘って延出し、従って考慮されるべき機械で処理される全ての部品の寸法に、より効果的に適合する。
【0040】この発明の1つの例において、第1開口群は少なくとも1つのスリット列からなり、それらの境界は前記波に向き合う噴射器の壁にある。
【0041】前記噴射手段は、前記噴射器内部にガスを放出する手段を備え、その手段は例えば前記噴射器内部に配置される多孔質チューブからなり、外側に供給されるガスに合わされるか、もしくは穴あけされたチューブとして従来より供されている用語である単純な“クラリネット”からなる。
【0042】本発明の1つの形態において、噴射器は上面または上壁を有する。出願人による研究は、この上壁に強固に取り付ける偏向部品(deflecting piece)を供することが有効であることを証明した。
【0043】そのような偏向部品は前記噴射器の全長さに沿って延出することが好ましい。
【0044】この発明の有効な例において、前記偏向部品(前記波に対する噴射器の位置を考慮することが必要なように)は少なくともダムシステム(例えばシュート)を覆うような幅に必要な大きさである。
【0045】前記噴射器の位置は、水平および/または垂直に調節されることが好ましい。
【0046】当業者にとって明らかなように、この発明に係わるろう付けまたは錫めっき機械は生成モードおよび純度に関連しない窒素のような中性ガスか、もしくは中性ガスと還元ガスの混合物のようなより活性なガスのいずれかの種類のガスの噴射器の使用を許容する。
【0047】この発明は、ろう付けまたは錫めっきされる部品はいわゆる層流形を持つ液状ろう材の少なくとも1つの波に接触して運ばれ、保護ガスは前記波の少なくとも一部に亘って導入される前記部品のウェーブろう付けまたは錫めっきの方法に関し、前記方法は、前記保護ガスが隣接し、前記波の下流に位置され、かつろう材波に向き合う壁を持つ噴射手段によって前記波に亘って導入され、かつ少なくとも1つの開口群は前記層流波の平坦面に向けて導入される第1ガス噴射を生成するように前記壁に位置され、前記開口から出るガスの速度は0.5〜30m/s、好ましくは0.5〜10m/s、より好ましくは0.5〜5m/sである。
【0048】この発明に係わる方法の有益な例において、下流方向のろう材波のオーバーフロー流速は前記波に対して調節された高さを有するダムシステムによって制御され、前記ダムシステムはろう材受槽内に浸漬するシュートの形態を有するか、前記ろう材受槽内に浸漬するスカート構造を備え、そして前記噴射器の壁は下がっているシュートまたはスカートの内部に第2ガス噴射を注入するようにその壁に位置する第2開口群を有する。
【0049】他の例において、下流方向のろう材波のオーバーフロー流速は前記ろう材受槽内に浸漬するプレートの形態を有するダムシステムの使用により調節され、前記噴射器の壁は前記プレートと前記噴射器の間に位置する空間に第2ガス噴射をなすように前記壁に位置される第2開口群を有する。
【0050】この発明は、ウェーブろう付けまたは錫めっき機械の不活性化装置に関し、隣接し、前記層流波の下流の位置に配置され、かつ前記層流波に向き合う壁を持つガス噴射器を備え、前記壁は前記層流波の平坦面に向けて導入される第1ガス噴射を生じるように位置される少なくとも第1開口群を有する。
【0051】この発明の1つの遂行において、前記噴射器は上壁を備え、かつ前記装置は前記噴射器の上壁に強固に取り付けられた偏向部品を備える。
【0052】この発明の1つの形態において、ろう付けまたは錫めっき機械はタムシステムを備え、前記波に対するその高さ調節は機械の下流方向のろう材波のオーバーフロー流速を制御するのに供し、前記ダムシステムは前記ろう材受槽に浸漬するプレート板、もしくは前記ろう材受槽に浸漬するガイドシュート、または前記ろう材受槽に浸漬するスカートを備え、前記装置の噴射器の壁は前記シュート内部、または前記プレートと前記噴射器の間の空間の内部に第2ガス噴射を生じるように前記壁に位置される第2開口群を有する。
【0053】この発明の別の特徴、有益さは図示される遂行形式に詳細にしたがって想像されるが、これに限定されない。
【0054】
【実施例】図1に概要的に示されるウェーブろう付け機械は、3つのゾーン:フラックスシステム(例えば湿式)で部品1をフラックスするゾーンI;例えば赤外ランプからなる手段4を使用してフラックス部品を予備加熱するゾーンII;部品1が存在しない遂行形式で、ろう材ノズル6を通してろう材槽9を汲み上げることによって得られた単一ろう材波8と出会う特有のろう付するゾーンIII 、を備える。
【0055】ボード1は、例えば機械のそれぞれの側部に位置する2側ベルトに沿って移動するフレームまたは“爪”型コンベアチェーンからなるコンベアシステムによって機械の異なるゾーンに運ばれる。
【0056】図2は、ろう材槽9が“2つの波”構造、比較的急勾配構造(ノズル6aの構造の結果として得られる)を有する第1のいわゆる乱流波8aと比較的大きな寸法の平坦上面を提示し、ノズル6bの構造の結果として得られる層流構造の第2波8bとを生成するのに使用される場合の部分断面図を供する。
【0057】図3および図4は、それぞれ部品の到達前およびボード1のろう付中の層流波8bのろう材流れを示す。ここで示された例は、ノズルから下流に位置するガイドシュートの形態を取る場合のダムシステム10の使用を含む。ガイドシュートの高さを調節することは、下流方向(ここで、所定の環境下で零もしくはほぼ零の流れ)のろう材溢れ速度を制御するように機能する。
【0058】この図は、シュート構造の縦断面を示しているが、当業者であれば明らかなように、前記シュートの2つの“壁”の間の空間は受槽の側面またはそれぞれの端部に配置された2つの特別のプレート(矩形または矩形様構造のの水平断面を規定する)によって2つの端部が閉鎖されている。
【0059】部分的下流溢れの可能な現象は、図4の中でより観察される。
【0060】前記層流上の部品1の到達は、前記機械の下流方向(すなわち、前方向)への液状ろう材の流れの部分反転を引き起こす。前方向の溢れ流速は、シュートシステム10の高さによって制御することができる。また、そのようなシュート(ノズル6bに結合する単純なプレートの置き換え)はより良好なガイドと槽9中へのろう材溢れの返送を与える。
【0061】図5は、この発明に係わるウェーブろう付または錫めっきの遂行の一つの形式を示す。この図は、層流/噴射器/シュート/スカートの配列を写す部分図である。
【0062】ここで、波は上流方向の流れ持つ部品の到達前の状態を示している。
【0063】図は、シュートシステム10に強固に取り付けられる浸漬スカート11を示し、前記シュートシステムは図7の斜視図との関連で後述する構造の2つの開口群15、16を有する1つの面または壁17を有するガス噴射器12に向き合っている。
【0064】前述を鑑みて理解されるように、我々は図の理解をより容易にするために2つの異なる種類のラインによってそれらに強固に取り付けられたシュートおよびスカートを図5に示すことを選んだ。既に示したように、この発明に係わるシュートおよびスカートは強固に取り付けられた2つの部材をばらばらにする必要はなく、むしろ1つは初めから浸漬されたシュートを使用することができる。
【0065】開口群15、16は、層流波8bの平坦面に向かう第1ガス噴射および浸漬スカート11の内部に向かう第2ガス噴射を導くようにそれぞれ位置される。前に示したように、浸漬スカートの存在および前記スカート内部への第2ガス噴射は層流波の平坦面への空気侵入の効果を避けるための特別の効果がある。
【0066】前記噴射器12の内部は、多孔質チューブ14を含み、この多孔質チューブ14は外部からガスが供給され、かつ前記噴射器12の本体を構成する広がったチャンバの内部にこのガスを分配する。
【0067】図6に概略的に示される構造は、前記噴射器12の上壁19に強固に取り付けられ偏向部品13の存在を除いて図5に示されたのと同様である。
【0068】例示に関連して以下に詳細に述べるように偏向部品13の存在は、必要でれば、層流波の平坦面の領域に非常に低残余酸素レベルを達成するのに非常に効果的である。
【0069】この図6は、この発明の有益な例を示し、前記偏向部品の幅は、必要であれば、前記波に対する前記噴射器の位置に関連して前記シュートシステムを少なくとも覆うに十分に延出することを許容する。
【0070】図6の噴射器12および偏向部品13の詳細要部である図7は、偏向部品13および噴射器12のそれぞれの位置、特に前記噴射器の上壁19へのこの偏向部品13の配置をより理解させる。この図は、また2つの開口群15、16の開口形態の良好な透視を供する。
【0071】示された例において、開口群15、16はそれぞれ3列のスリット18および1列のスリット18からなり、各スリットは前記噴射器12の壁17に位置し、かつこの噴射器の長さ方向に延出されている。
【0072】図8はこの発明の特別の形態を示し、前記シュートと前記噴射器は共通の壁を有する。前記噴射器の壁17はシュートのいくつかの壁の一つを形成し、この壁をスカート11の側壁の一つして延出することが効果的であることが気が付く。
【0073】第2開口群16で生じるそのような形態の第2ガス噴射は、噴射器12の内部からスカート11内部に直接通過する。
【0074】図9〜図11は、以下に詳述する例を遂行する形態を示す:図9:シュート10は、スカートを備えず(またはより簡潔にシュートは浸漬シュートではない)、かつ噴射器の壁17は第2開口群を備えない;
図10:シュート10はスカート11を備え、かつ噴射器の壁17は第2開口群を備えない;および図11:図10のそれと全く同じ形態であるが、偏向部品13を備える。
【0075】第1の評価は2つの波のろう付け機械にこれら3つの形態を用いてなされた:層流の表面の残余酸素レベルはろう付けされるべきボードの有無の両方で測定された。層流波の平坦面上のドロスの形成またはドロスなしは同様に相称的に評価された。
【0076】全ての場合において、噴射器によって供給される窒素放出速度は約80L/リットルであった。
【0077】使用される窒素は、10ppm以下の残余酸素濃度を持つ低温窒素であった。
【0078】第2の評価は、図11の構造を用いてなされ、2種のろう材欠陥の有無(ろう材ギャップ(割れ目、裂き目)および短絡(ろう材架橋))は機械でろう付けされた配線基板に対して計算された。評価は、窒素(前記放出速度)下および空気下の両方でなされた。
【0079】観察結果は、次のように表わされることができる。
【0080】a1)残余酸素レベル(体積比率)
図9の場合:ボード無:ほぼ120,000ppm;
ボード有:<1%;
図10の場合ボード無:ほぼ30,000ppm;
ボード有:ほぼ70ppm;
図11の場合ボード無:ほぼ8,000ppm;
ボード有:ほぼ45ppm;
a2)ドロス評価:ボードの存在におけるドロスの割合は、全ての試験形態で非常に低減され、かつ最後の2つの形態は前記波の平坦面を典型的な鏡を保持することをなした。
【0081】b)ろう付け欠陥の割合:ここで(ppm欠陥)述べられた結果は、200ろう付けボードに対する累積結果を示す。
空気下 窒素下 短絡 ほぼ4800 ほぼ2000 ろう材の割れ目 ほぼ200 ほぼ70【0082】したがって、全体のこれらの結果としわかることは、この発明に係わるウェーブろう付け機械および方法は、劇的形態および非常に適度な窒素消費で層流の表面で非常に低残余酸素レベルを達成し、それは得られたろう付け性能およびドロス形成の観点から優れた結果として明確な改善に一貫して相当することを証明している。




 

 


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