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番号 発明の名称
1 プラズマ質量分析装置
2 大気圧イオン化質量分析装置
3 X線TV装置
4 半導体素子製造装置
5 回転陽極X線管
6 回転陽極X線管
7 負イオン銃
8 真空処理装置
9 表面分析装置
10 誘導結合プラズマ/質量分析計
11 X線管装置
12 四重極型MS/MS質量分析装置
13 薄膜形成装置
14 イメージインテンシファイア
15 四重極質量分析装置
16 X線発生装置
17 成膜装置
18 粒子分離装置
19 回転陽極X線管装置
20 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置
21 多重極電極の製造方法
22 半導体センサ及びその製造方法
23 イオン散乱分析装置
24 質量分析装置
25 四重極質量フィルタ
26 X線透視撮影装置
27 超伝導トランジスタおよびその製造方法
28 超伝導電気回路のインターフェース
29 チタン酸ストロンチウム基板の表面処理方法
30 波長変換レーザ装置
31 分析装置の試料ステージ駆動装置
32 元素分析装置
33 イオン質量分析装置
34 MS/MS質量分析装置用データ処理装置
35 イメージインテンシファイヤ
36 X線管用陽極
37 X線装置の陽極回転制御方法およびその方法を用いたX線装置
38 荷電粒子光学系
39 質量分析装置
40 イオン検出装置
41 X線制御装置
42 X線制御装置
43 イオン散乱表示装置
44 X線発生装置
45 超伝導トランジスタおよびその製造方法
46 イオン銃
47 分析装置
48 放射線検出器
49 フォトダイオード及びフォトダイオードアレイ
50 回転陽極X線管
51 集束イオンビーム装置
52 連続真空処理装置
53 負イオン源
54 X線発生装置
55 走査型電子線回折装置
56 イオン散乱分析装置
57 ジョセフソン素子
58 集光型半導体レーザ
59 X線撮影装置
60 X線TV装置
61 同軸形直衝突イオン散乱分光装置
62 同軸形直衝突イオン散乱分光装置
63 負イオン源
64 X線管装置
65 X線管
66 走査型電子線回折装置
67 液体クロマトグラフ質量分析装置及び分析方法
68 液体クロマトグラフ質量分析装置
69 同軸形直衝突イオン散乱分光装置
70 同軸形直衝突イオン散乱分光装置
71 ジョセフソン接合素子の製造方法
72 ジョセフソン接合素子の製造方法
73 利得導波型半導体レーザ
74 X線制御装置
75 回転陽極X線管装置
76 X線装置
77 微細パターン作成方法
78 アレイ型分光検出器
79 四重極質量フィルタ
80 粒子検出装置
81 イオン質量分析装置
82 X線テレビジョン装置
83 X線高電圧装置
84 X線管陽極高速回転駆動装置
85 ICP質量分析装置
86 試料導入装置
87 MS/MS型四重極質量分析装置
88 電子線マイクロアナライザ

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