米国特許情報 | 欧州特許情報 | 国際公開(PCT)情報 | Google の米国特許検索
 
     特許分類
A 農業
B 衣類
C 家具
D 医学
E スポ−ツ;娯楽
F 加工処理操作
G 机上付属具
H 装飾
I 車両
J 包装;運搬
L 化学;冶金
M 繊維;紙;印刷
N 固定構造物
O 機械工学
P 武器
Q 照明
R 測定; 光学
S 写真;映画
T 計算機;電気通信
U 核技術
V 電気素子
W 発電
X 楽器;音響


  ホーム -> 電気素子 -> ソニー株式会社

番号 発明の名称
1 操作装置
2 小板材の製造方法
3 カラーブラウン管の組立方法
4 カラー陰極線管の色選別電極装置の製造方法
5 陰極線管の色選別電極製造方法
6 カラー陰極線管用色選別機構体の組立方法
7 カラーブラウン管製造方法
8 陰極線管の製造方法
9 カラー陰極線管の蛍光面形成方法
10 カラー陰極線管用蛍光体スラリー
11 陰極線管の製造方法
12 テープリール
13 位置測定方法及びその方法に用いる測定用治具
14 陰極線管のノッキング方法と陰極線管
15 偏向ヨークの傾き調整装置
16 陰極線管
17 カラー表示装置
18 リチウムイオン二次電池
19 調整装置
20 ロータリートランス
21 半導体製造装置
22 平坦化方法及び半導体装置の製造方法
23 塗布液塗布方法及び塗布液塗布装置
24 半導体装置の製造方法
25 半導体装置の製造方法
26 研磨装置およびこれを用いた研磨方法
27 研磨装置およびこれを用いた研磨方法
28 半導体装置の製造方法、及び半導体装置の製造装置
29 絶縁膜の平坦化方法
30 配線形成方法及び配線構造
31 半導体製造用エッチング装置
32 半導体装置の製造方法
33 O3 −TEOSによるNSG膜の成膜方法
34 高温化学的気相成長酸化膜の形成方法
35 シリコン系酸化膜の製造方法
36 化学的気相成長法による絶縁膜の製造方法
37 絶縁膜形成方法
38 絶縁膜形成方法
39 Si3 N4 膜の形成方法及びMIS型半導体素子
40 配線及びその形成方法
41 配線形成方法
42 MIS型トランジスタモニター
43 半導体装置及びその製造方法
44 半導体プラグの形成方法
45 配線層形成方法及び配線構造
46 半導体装置の製造方法
47 半導体記憶装置の製造方法
48 2層ゲートを備えた半導体装置およびその製造方法
49 不揮発性記憶素子およびその形成方法
50 不揮発性半導体記憶装置およびその製造方法
51 半導体装置の製造方法
52 マーキング装置
53 半導体装置の製造方法
54 撮像素子とその製造方法
55 オンチップレンズの製造方法
56 量子素子
57 固体撮像素子の製造方法および固体撮像素子
58 受光装置の製造方法
59 固体撮像装置
60 半導体回路装置および半導体回路装置の製造方法
61 薄膜半導体装置の製造方法
62 入力変換装置
63 電力増幅回路の実装構造
64 配線基板及び表面実装型電子部品実装方法
65 電子回路装置
66 エアー供給装置
67 部品の挿入装置
68 部品実装機の高速位置決め方法
69 部品実装機
70 複合アンテナ装置および携帯無線機
71 高周波用ステップアッテネータ
72 緊急警報放送の受信機
73 位相検出装置および方法
74 周波数シンセサイザ及び周波数シンセサイズ方法
75 電極構造及びその形成方法
76 陰極線管の電子銃組立装置及びその組立方法
77 陰極線管の内部導電膜の形成方法
78 露光装置の位置決め機構
79 非水電解液二次電池
80 バッテリパック制御装置および方法
81 コネクタ装置及びその組立方法
82 多ピン接続器及び印刷配線基板接続装置
83 軟磁性膜及びこれを用いた磁気ヘッド
84 レジストパターンの合わせずれ判定方法
85 半導体装置の製造方法
86 偏平な被切削物の切断方法及びその装置
87 プラズマ処理方法およびこれに用いるプラズマ装置
88 化合物半導体のプラズマエッチング方法
89 半導体装置の製造方法
90 半導体装置の製造方法及び半導体製造装置
91 半導体装置の素子分離用酸化膜形成方法
92 成膜構造、半導体装置、及び該半導体装置の製造方法
93 半導体装置のアルミニウム系金属配線
94 半導体装置
95 位置合わせ精度検出方法および半導体装置並びにその製造方法
96 配線形成方法
97 半導体装置およびその製造方法
98 ダイオードおよび保護ダイオード内蔵型電界効果トランジスタ
99 半導体製造装置及び方法
100 半導体製造装置及び方法

[1][2][3][4][5][6][7][8][9][10][11][12][13][14][15]  次15へ 
 

 


     NEWS
会社検索順位 特許の出願数の順位が発表

URL変更
平成6年
平成7年
平成8年
平成9年
平成10年
平成11年
平成12年
平成13年


 
   お問い合わせ info@patentjp.com patentjp.com   Copyright 2007-2013