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発明の名称 磁気ヘッドおよびその製造方法
発行国 日本国特許庁(JP)
公報種別 公開特許公報(A)
公開番号 特開平7−121814
公開日 平成7年(1995)5月12日
出願番号 特願平5−266455
出願日 平成5年(1993)10月25日
代理人 【弁理士】
【氏名又は名称】武田 元敏
発明者 夏井 昭長
要約 目的
高品位VTRやデジタルVTR等の高周波信号を効率よく記録再生する磁気ヘッドを提供する。

構成
金属磁性層3の両側を非磁性基板4で挟持したリング型磁気ヘッドにおいて、巻線7に高周波電流を流すことによって金属磁性層3に渦電流が発生し、その渦電流損失により金属磁性層3の磁気ギャップ10周辺が発熱して、あたかも外部より熱処理を施したようになる。このとき、第1の発明では磁石8を磁気ヘッドの周囲に配置することにより、また第2の発明では巻線7に高周波電流を流すことにより発生する磁界自身を磁気ギャップ10近傍に集中させることにより、磁界を発生させて磁界中熱処理が行われ、これにより磁気ギャップ10近傍の金属磁性層3に磁化容易軸9が形成される。
特許請求の範囲
【請求項1】 金属磁性膜の両側を非磁性基板で挟持したリング型磁気ヘッドにおいて、前記磁気ヘッドの磁気ギャップ近傍だけ磁気異方性を制御するようにしたことを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項2】 金属磁性膜の両側を非磁性基板で挟持したリング型磁気ヘッドにおいて、前記磁気ヘッドの周囲に少なくとも1つの磁石を配置する工程と、前記磁気ヘッドの巻線に高周波電流を流し前記金属磁性膜に渦電流を発生させ前記金属磁性膜を発熱させて熱処理する工程とを有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【請求項3】 金属磁性膜の両側を非磁性基板で挟持したリング型磁気ヘッドにおいて、磁気ギャップ近傍に磁界が集中するように巻線に高周波電流を流し前記金属磁性膜に渦電流を発生させ前記金属磁性膜を発熱させて熱処理する工程を有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【請求項4】 金属磁性膜が当該金属磁性膜と絶縁膜との積層膜であることを特徴とする請求項1記載の磁気ヘッド。
【請求項5】 金属磁性膜が当該金属磁性膜と絶縁膜との積層膜であることを特徴とする請求項2または3記載の磁気ヘッドの製造方法。
【請求項6】 金属磁性膜がアモルファス磁性膜であることを特徴とする請求項4記載の磁気ヘッド。
【請求項7】 金属磁性膜がアモルファス磁性膜であることを特徴とする請求項5記載の磁気ヘッドの製造方法。
発明の詳細な説明
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は高品位VTRやデジタルVTR等の高周波信号を効率よく記録再生するのに適した磁気ヘッドおよびその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、高品位VTRやデジタルVTR等の広帯域の信号を取り扱うシステムの開発が盛んになってきており、磁気ヘッドとしても高飽和磁束密度を有し周波数特性の優れた磁気ヘッドの開発が望まれている。現在、飽和磁束密度の高い金属磁性材料を用いた磁気ヘッドの開発が行われているが、その高周波特性は強磁性共鳴によるスヌークの限界線で制約されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】高品位VTRやデジタルVTR等の広帯域の信号を取り扱うシステムでは、磁気ヘッド用コア材料として高周波帯域で高い初透磁率を有するものが要求される。しかし、ほとんどの磁性膜は初透磁率の高周波特性が強磁性共鳴によるスヌークの限界線で制約されており、30MHz以上の周波数帯での初透磁率は500以下となる。
【0004】したがって、このような無配向の磁性膜をヘッドコアとして用いたのでは前記のような高周波システムに対応する高性能ヘッドを実現するのは困難である。
【0005】一方、一軸異方性を有するアモルファス磁性膜をその磁化容易軸方向を揃えて積層した多層膜の初透磁率特性は、磁化容易軸方向に測定すると全周波数帯で低い初透磁率特性となるのに対し、磁化困難軸方向に測定した場合は高周波まで高い透磁率を維持する。したがって、磁化困難軸方向だけで磁路を形成すれば高周波まで高い再生効率のヘッドが実現できるが、ビデオヘッド等のリングタイプのヘッドにおいては磁化困難軸方向だけで磁路を構成することはヘッドの製造工程上極めて難しい現状である。
【0006】本発明はこのような事情に鑑み、30MHz以上の高周波帯でも十分高い高率で記録再生できる高周波用の磁気ヘッドおよびその製造方法を目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成するため、その磁気ヘッドは金属磁性膜の両側を非磁性基板で挟持したリング型磁気ヘッドにおいて、磁気ギャップ近傍だけ磁気異方性を制御するようにしたことを特徴とする磁気ヘッドである。また、その製造方法は、巻線に高周波電流を流し前記金属磁性膜に渦電流を発生させ、前記金属磁性膜の磁気ギャップ周辺を発熱させて磁界中熱処理する工程を有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法であり、第1の発明では磁石を前記磁気ヘッドの周囲に配置することにより前記磁界を発生させ、第2の発明では巻線に高周波電流を流すことにより発生する磁界自身をギャップ近傍に集中させて前記磁界を発生させることを特徴とする。
【0008】
【作用】本発明によれば、巻線に高周波電流を流すことによって金属磁性膜に渦電流が発生し、その渦電流損失により金属磁性膜の磁気ギャップ周辺が発熱して、あたかも外部より熱処理を施したようになる。このとき、第1の発明では磁石を磁気ヘッドの周囲に配置することにより、また第2の発明では巻線に高周波電流を流すことにより発生する磁界自身をギャップ近傍に集中させることにより、磁界を発生させて磁界中熱処理が行われ、これにより金属磁性膜の磁気ギャップ近傍に磁気異方性が付与され磁化容易軸が形成され、高周波特性の優れた高性能磁気ヘッドが実現できる。
【0009】
【実施例】図1は本発明の第1の発明の一実施例における磁気ヘッドの構成およびその製造工程を説明する磁気ヘッドの斜視図である。図1に示すように、Co系アモルファス合金からなる金属磁性膜1と、SiO2からなる絶縁膜2とが交互に積層された金属磁性層3の両側をチタン酸マグネシウム系の非磁性基板4で挟持した構造になっている。金属磁性層3と非磁性基板4との接着は接着ガラス5で行われている。6は巻線窓で、ここに巻線7が施されている。巻線7に高周波電流(100MHz、200mA、10分)を流すことにより金属磁性層3の磁気ギャップ10周辺が発熱し、磁気ヘッド周囲に配置された磁石8から発生する磁界により磁界中熱処理が行われ、磁気ギャップ10近傍の金属磁性層3に磁気異方性が付与され、磁化容易軸9が形成される。
【0010】図2は本発明の第2の発明の一実施例における磁気ヘッドの構造およびその製造工程を説明する磁気ヘッドの斜視図である。図2に示すように、Co系アモルファス合金からなる金属磁性膜1と、SiO2からなる絶縁膜2とが交互に積層された金属磁性層3の両側をチタン酸マグネシウム系の非磁性基板4で挟持した構造になっている。金属磁性層3と非磁性基板4との接着は接着ガラス5で行われている。6は巻線窓で、ここに巻線7が施されている。巻線7に高周波電流(100MHz、500mA、10分)を磁界が集中するように流し、金属磁性層3の磁気ギャップ10周辺を発熱させ、同時に巻線7に流す電流により発生する磁界自身を磁気ギャップ10近傍に集中させることから発生する磁界により磁界中熱処理が行われ、磁気ギャップ10近傍の金属磁性層3に磁気異方性が付与され、磁化容易軸9が形成される。
【0011】以上の方法により作製した磁気ヘッドは、磁界が熱処理中に印加されることにより、磁気ギャップ10近傍に磁化容易軸9が形成され、高周波特性の優れた高性能磁気ヘッドが実現できる。
【0012】図3は本発明の製造方法による磁化容易軸が形成された磁気ヘッド(a)および従来の無配向の積層金属磁性膜を用いた磁気ヘッド(b)の相対出力の周波数特性を示す。30MHz以上の高周波において、本発明の磁気ヘッドは、従来の磁気ヘッドを大きく上回る高周波特性を示していることがわかる。
【0013】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の磁気ヘッドおよびその製造方法によれば、30MHz以上の高周波帯でも十分高い効率で記録再生できる高周波用の磁気ヘッドが容易に得られる。




 

 


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