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番号 発明の名称
1001 半導体集積回路装置
1002 半導体装置及びその製造方法
1003 電界効果トランジスタ
1004 半導体集積回路装置
1005 半導体集積回路装置
1006 TCPおよびその製造方法
1007 半導体装置
1008 高集積電子回路装置とその製造方法
1009 半導体装置用リードフレームのリード加工方法
1010 半導体集積回路装置
1011 ゲートターンオフサイリスタ及びそれを用いた電力変換装置
1012 半導体装置の製造方法
1013 光素子モジュール
1014 多層セラミック基板の製造方法
1015 電子機器の回路基板固定構体
1016 可変遅延回路の校正方式
1017 半導体装置
1018 主回路開閉装置
1019 ガス遮断器
1020 パッファ式ガス遮断器
1021 電磁接触器
1022 熱動形過電流継電器
1023 陰極構体のエージング方法
1024 高エネルギーイオン打ち込み装置
1025 燃料電池水素供給システム
1026 酸化物系超電導コイルの製造方法
1027 超電導磁石
1028 外鉄形静止誘導電器用積層鉄心
1029 マグネトロン用貫通コンデンサ
1030 投影露光装置
1031 プラズマ処理装置
1032 非晶質シリコンのドライエッチング方法およびそれを用いた薄膜トランジスタの製造方法
1033 基板洗浄装置
1034 半導体デバイスの製造方法および製造装置ならびに半導体ウエハ
1035 半導体装置
1036 半導体素子検査装置およびその製法
1037 真空装置
1038 半導体集積回路装置
1039 ショットキバリアダイオードおよび半導体集積回路装置
1040 逆導通型絶縁ゲートバイポーラトランジスタ及びその製造方法
1041 超電導デバイス
1042 半導体発光装置の製造方法
1043 部品搭載済み基板
1044 電子回路基板の冷却構造
1045 ヒ−トシンクおよびそれを用いた電子装置およびその電子装置を用いた電子計算機
1046 イコライザフィルタ制御方式
1047 情報変換装置
1048 ブラウン管の製造方法
1049 陰極線管
1050 電子顕微鏡
1051 質量分析装置
1052 静止誘導電器の異常監視装置
1053 テーブル装置、縮小投影露光装置及び電子線描画装置
1054 CVD装置
1055 ウエハチャック
1056 静電吸着装置およびその吸着方法
1057 LSI実装構造
1058 半導体装置、並びに容量素子およびその製造方法
1059 半導体レーザ装置
1060 半導体レーザ
1061 シールド方法及びこれを用いた回路基板
1062 インタフェース回路
1063 誤り訂正符号化復号化方法
1064 ガス絶縁真空遮断器
1065 磁界形電子レンズおよびこれを用いた電子線装置
1066 半導体装置の製造方法
1067 半導体製造方法およびこれに用いる半導体製造装置
1068 半導体装置およびその製造方法
1069 超電導量子干渉素子
1070 回路修正機能を有する多層回路配線基板とその回路修正方法及び電子回路装置
1071 弾性表面波素子の製造方法
1072 電圧制御発振器
1073 駆動音源コードブックの設計法
1074 カラー陰極線管の螢光面形成装置
1075 電界放出型透過電子顕微鏡
1076 表面加工方法
1077 荷電ビームを用いた試料加工装置
1078 低圧放電灯
1079 重水素ランプおよび分析装置
1080 リチウム二次電池
1081 燃料改質システム
1082 加速器の多極磁石
1083 電磁スイッチコイル用ボビン
1084 ガス絶縁誘導電器
1085 静止誘導電器
1086 縮小投影露光装置
1087 パターンデータ処理方法
1088 電子線描画装置
1089 電子ビーム描画装置
1090 ヘテロエピタキシャル成長方法
1091 プラズマプロセシング装置及びその運転方法
1092 エッチング方法及び装置
1093 半導体のエッチング方法
1094 洗浄方法および装置
1095 ベーパ乾燥装置
1096 選択酸化装置
1097 半導体装置のトランスファモールド方法
1098 位置決め装置
1099 半導体ウェハの保持治具
1100 ウェハキャリア

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