米国特許情報 | 欧州特許情報 | 国際公開(PCT)情報 | Google の米国特許検索
 
     特許分類
A 農業
B 衣類
C 家具
D 医学
E スポ−ツ;娯楽
F 加工処理操作
G 机上付属具
H 装飾
I 車両
J 包装;運搬
L 化学;冶金
M 繊維;紙;印刷
N 固定構造物
O 機械工学
P 武器
Q 照明
R 測定; 光学
S 写真;映画
T 計算機;電気通信
U 核技術
V 電気素子
W 発電
X 楽器;音響


  ホーム -> 電気素子 -> 株式会社日立製作所

番号 発明の名称
801 エッチング方法および装置
802 プラズマ処理装置
803 集束イオンビーム装置における試料位置等の表示方法
804 ITOのエッチング方法
805 ITOのエッチング方法
806 金属/ITO多層膜のエッチング方法
807 金属パターンの形成方法
808 半導体装置及びその製造方法
809 半導体装置
810 ヘテロ接合バイポーラトランジスタの製造方法
811 半導体装置
812 電界効果トランジスタおよびそれを用いた増幅回路
813 樹脂封止型半導体装置
814 ワイヤボンディング方法
815 半導体製造装置およびそれを用いた半導体製造方法
816 ウェーハパターン装置
817 半導体集積回路装置
818 半導体装置およびその製造方法
819 半導体装置およびその製造方法
820 半導体集積回路装置およびその製造方法
821 半導体装置
822 半導体装置の組み立て方法および半導体装置
823 集積回路用パッケージ
824 半導体集積回路装置
825 半導体集積回路素子
826 半導体集積回路装置及びその製造方法
827 量子結合素子
828 自己消弧機能を有する半導体素子
829 半導体集積回路装置
830 超電導トランジスタ装置
831 超電導三端子素子
832 色素レーザ装置
833 量子井戸光素子
834 分布帰還型半導体レーザ素子
835 配線パターン形成方法
836 二層膜構造
837 多層基板の製造方法
838 多層印刷配線板の修復方法
839 多層プリント配線板の穴明け方法
840 プリント基板の多層化接着法
841 電子機器の筐体構造及びその再生処理方法
842 電子機器の内面シールド板固定構造及びかかる構造を採用した電子機器、並びに、かかる構造を採用した電子機器の内面シールド板取外方法
843 光受信回路
844 データ変換方法および装置
845 回路遮断器
846 マグネトロン
847 シャドウマスク型カラーブラウン管
848 電界放出形電子顕微鏡
849 走査電子顕微鏡
850 荷電粒子等の多段加速管
851 試料処理装置
852 燃料電池発電装置の保温断熱方法
853 アルカリ金属熱電発電装置
854 ビーム出射装置
855 サイリスタバルブ用避雷器およびそれを用いた直流送電用サイリスタバルブ
856 高電圧分圧抵抗器
857 多層磁気抵抗効果膜及び磁気ヘッド
858 電源装置
859 樹脂モールド変圧器
860 露光方法および露光装置
861 傾き、高さの検出方法とそれを用いた投影露光装置
862 露光方法及び露光装置
863 電子線描画装置
864 電子線描画方法
865 チャンバおよびそれを用いたエッチング装置
866 プラズマ処理装置
867 プラズマ処理装置
868 電極の冷却方法
869 ドライエッチング装置
870 表面処理方法及び表面処理装置
871 組み立て方法および半導体装置
872 微小粒体装着方法
873 半導体装置の測定装置
874 配線基板
875 試料保持装置のモニタ方法
876 半導体装置
877 導電膜積層配線構造を有する半導体装置
878 半導体装置
879 電力変換器の冷却装置
880 電気車用インバータ装置の冷却装置
881 連鎖状薄膜部品
882 半導体装置およびその実装方法
883 半導体メモリおよびその応用システム
884 薄膜抵抗体の形成方法
885 半導体集積回路装置
886 半導体装置及びその製造方法
887 半導体装置の製造方法
888 半導体集積回路装置の製造方法
889 高耐圧半導体装置及びその製造方法並びにそれを用いた電力変換装置
890 電圧駆動型半導体装置
891 半導体装置とその製造方法
892 発光Si超微粒子パターンの形成方法
893 デジタルスクイッド
894 半導体レ−ザ装置
895 多層配線基板の製造方法
896 電子装置収納箱構造
897 装置の分解手順表示方法及び複数の分解単位部品からなる装置
898 弾性表面波装置
899 化合物超電導線材とその製造方法
900 マグネトロン

[1][2][3][4][5][6][7][8][9][10][11][12][13][14][15]  次15へ 
 

 


     NEWS
会社検索順位 特許の出願数の順位が発表

URL変更
平成6年
平成7年
平成8年
平成9年
平成10年
平成11年
平成12年
平成13年


 
   お問い合わせ info@patentjp.com patentjp.com   Copyright 2007-2013