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株式会社日立製作所 - 特許情報
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番号 発明の名称
701 分子線散乱を利用した表面処理方法および表面処理装置
702 結晶欠陥検査装置
703 フッ素系不活性液体を用いた装置の水分除去システム
704 樹脂封止型半導体装置
705 半導体レーザ装置及びその製造方法
706 配線回路成形基板及びインバータ装置
707 パッド用はんだの平坦化方法
708 電子装置
709 電子交換機
710 弾性表面波装置及びその製造方法
711 波形等化器
712 波形形成回路
713 信号処理装置および磁気記録再生装置
714 過負荷保護装置
715 二層構造を持つパターン形成方法
716 走査電子顕微鏡
717 重水素放電管
718 イオンビーム加工装置
719 転写マスクおよびこれを用いた荷電ビーム描画装置
720 半導体製造装置
721 半導体製造装置
722 CVD装置
723 プラズマエッチング装置のエッチングモニタ
724 薄膜のエッチング方法
725 半導体装置の製造方法および装置
726 異物付着防止溶液とそれを用いた洗浄方法及び洗浄装置
727 半導体装置
728 半導体装置およびそれを用いた集積回路
729 低ノイズ半導体パッケ−ジ
730 半導体パッケージ
731 マルチチップモジュールとそれを組み込んだ電子装置
732 ファン搭載半導体装置
733 半導体装置
734 薄膜光センサ
735 固体撮像素子及びその製造方法
736 半導体装置およびクロック信号供給装置
737 ゲートターンオフサイリスタ
738 半導体装置等における捩じれ多層配線の形成法
739 表面実装形ICのはんだ接続方法と装置およびそれにより作製した電子機器
740 電源配線の共振抑制機能を有する電子回路装置
741 高圧リード線保持具
742 弾性表面波素子および弾性表面波素子の実装方法
743 適応信号処理方法およびそれを用いた信号処理装置
744 導体ペースト
745 遅延電流リレー
746 含浸形カソード構体の製造方法
747 マグネトロン
748 カラー陰極線管
749 投写形ブラウン管
750 イオン源システム
751 電子ビーム絞り装置
752 電子顕微鏡の真空リーク機構
753 走査電子顕微鏡
754 電子顕微鏡
755 パルス計数用2次電子増倍管
756 化学プラントにおける化学反応容器の交換方法
757 ガス絶縁開閉装置用避雷器
758 薄膜抵抗体とそれを内蔵した多層回路基板の製造方法
759 露光方法
760 投影露光装置
761 電子線描画装置
762 半導体装置及びそれを用いた電子装置
763 パッケージの形状検査方法及びパッケージの形状検査装置
764 半導体集積回路装置
765 封止方法
766 容量絶縁膜の形成方法
767 半導体装置の製造方法
768 光電変換装置及びそれを用いた放射線撮像装置
769 半導体記憶装置の製造方法
770 発光素子及びその製造方法
771 電界効果型超電導素子
772 樹脂部材の締結構造
773 フィルタの自動調整回路
774 フィルタ回路
775 半導体集積回路装置と情報処理システム
776 断路器
777 含浸形陰極および電子管の製造方法
778 荷電粒子ビーム集束装置及びこれを用いたブラウン管用電子銃
779 3次元表示用ブラウン管
780 電子顕微鏡用焼出し装置
781 走査電子顕微鏡
782 走査電子顕微鏡
783 メタルハライドランプ
784 燃料電池
785 電解質基板及びその製造方法並びにその電解質基板を用いた燃料電池
786 加速器用ビームダクト
787 薄膜抵抗体の製造方法
788 超電導磁石のクエンチ予知巻線
789 超電導磁石装置
790 静止誘導電器
791 油入電器
792 変圧器巻線
793 トランスおよび電源装置
794 半導体集積回路パターンの位置合わせ方法および装置
795 焦点位置検出方法及び焦点位置合わせ方法
796 電子線描画方法および装置
797 半導体ウエーハの形成方法
798 薄膜製造装置および製造方法
799 気相成長装置
800 金属膜の形成方法

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