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株式会社日立製作所 - 特許情報
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番号 発明の名称
301 カーボン分子とその集合体の製造方法
302 半導体装置
303 半導体容量装置とその形成方法
304 半導体レーザ素子
305 搬送基板位置決め装置
306 ウォッチドッグタイマー
307 レベル変換回路
308 半導体装置
309 断路器及び断路器収納キュービクル
310 カラー陰極線管の部品洗浄方法およびカラー陰極線管並びに部品洗浄用イオン交換純水の水質評価方法
311 カラーブラウン管蛍光面及びその形成方法
312 電磁集束型投写型陰極線管
313 金属イオン発生用イオン源
314 イオン打込み方法
315 荷電粒子線装置
316 イオンビーム加工装置
317 ESI質量分析計
318 低圧放電灯
319 メタルハライドランプ
320 螢光水銀ランプ
321 荷電粒子加速器のビームダクト
322 高周波四重極加速器
323 粒子加速器
324 直線抵抗体
325 荷電粒子加速器用の電磁石装置および荷電粒子加速器システム
326 静止誘導電器
327 薄膜コンデンサおよびその製造方法
328 化合物半導体装置とその製法
329 ラテラル超格子素子
330 プラズマ処理装置
331 高融点酸化物のエッチング方法
332 半導体の表面処理方法
333 有機物除去装置
334 半導体装置の製造方法
335 配線形成方法および装置および配線形成用試料ホルダ
336 電子部品の基板からの取外し方法及び装置
337 絶縁被覆ワイヤのボールボンディング装置とボンディング方法
338 バンプ形成方法
339 はんだ接続用金属層及びそれを有する電子部品もしくは回路基板とそれを用いた電子回路装置
340 半導体集積回路装置
341 集積回路
342 電極配線の製造方法及び処理装置
343 半導体装置
344 マルチチップモジュール
345 電子回路装置
346 集積回路装置とその製造方法
347 半導体装置及びその製造方法
348 半導体記憶装置
349 不揮発性半導体記憶装置
350 半導体装置
351 極低温容器及び使用方法
352 半導体レーザ素子
353 半導体レーザ素子
354 実装部品着脱装置
355 多層回路基板および電子モジュ−ルならびに電子装置
356 多層プリント板の成形方法
357 印刷回路板
358 多層配線基板に内装した薄膜抵抗素子およびその製造方法
359 多層回路基板及びその製法
360 強制空冷式インバータ装置
361 包絡線信号生成回路と線形送信装置
362 ドライバ回路
363 周波数シンセサイザー
364 細線支持陰極における細線取付方法
365 陰極線管のゲッターフラッシュ方法およびその装置
366 電子銃カソードの欠陥検出方法
367 ブラウン管実装試験装置
368 カラー受像管
369 陰極線管用電子銃
370 陰極線管
371 陰極線管用電子銃の格子電極およびその加工方法
372 起動補助装置内蔵放電ランプ
373 燃料電池
374 電気コネクタ
375 放電管点灯装置
376 半導体集積回路装置とその製造方法及び半導体集積回路製造装置
377 半導体製造装置の停電処理装置
378 半導体製造ラインの構成方法
379 薄膜特性測定方法及びその装置並びに縮小投影式露光装置
380 回転機構
381 回転機構
382 半導体装置の製造方法及びそれに用いられる半導体装置の製造装置
383 GaAs単結晶の製造方法
384 InP基板上へのAs系材料の分子線エピタキシ法
385 半導体ウエーハの形成方法及びその測定方法
386 プラズマ処理装置
387 減圧容器のクリーニング方法および装置
388 清浄表面形成方法および選択的薄膜形成方法
389 洗浄装置
390 異物付着防止方法
391 スパッタリング装置
392 配線切断方法及びその装置
393 薄膜多層基板の製造方法
394 基板の電極形成方法
395 バイポーラトランジスタおよびその製造方法
396 半導体装置
397 1次元チャネルトランジスタとその製造方法
398 半導体ウェハにおける少数キャリアのライフタイム測定装置
399 検査方法および装置
400 薄膜多層回路の製造方法

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