米国特許情報 | 欧州特許情報 | 国際公開(PCT)情報 | Google の米国特許検索
 
     特許分類
A 農業
B 衣類
C 家具
D 医学
E スポ−ツ;娯楽
F 加工処理操作
G 机上付属具
H 装飾
I 車両
J 包装;運搬
L 化学;冶金
M 繊維;紙;印刷
N 固定構造物
O 機械工学
P 武器
Q 照明
R 測定; 光学
S 写真;映画
T 計算機;電気通信
U 核技術
V 電気素子
W 発電
X 楽器;音響


  ホーム -> 電気素子 -> 株式会社日立製作所

発明の名称 電極の冷却方法
発行国 日本国特許庁(JP)
公報種別 公開特許公報(A)
公開番号 特開平6−163464
公開日 平成6年(1994)6月10日
出願番号 特願平4−311629
出願日 平成4年(1992)11月20日
代理人 【弁理士】
【氏名又は名称】高田 幸彦
発明者 伊藤 陽一
要約 目的
静電吸着力の安定化を図るのに好適な電極の冷却方法を提供することにある。

構成
ウエハ1を支持する静電吸着電極15と静電吸着電極15を0℃以下に冷却するサ−キュレ−タ23とウエハ1裏面にHeガス19を導入する手段から構成されるウエハ冷却手段を有するプラズマ処理装置において、まず、サ−キュレ−タ23のヒ−タ21により冷媒24を設定温度T1℃まで加温しながら下部電極9内を循環して静電吸着電極15をT1℃まで昇温する。その後、静電吸着電極15をT1℃に時間t1だけ保持した後、逆にサ−キュレ−タ23の冷凍機22により冷媒24を処理温度T2℃まで冷却しながら下部電極9内を循環して静電吸着電極15をT2℃まで冷却する。
特許請求の範囲
【請求項1】電極を冷却する手段とウエハを支持する手段とウエハ裏面に冷却ガスを導入する手段から構成されるウエハ冷却手段を有するプラズマ処理装置の電極の冷却方法において、電極を一端昇温して一定時間高温に保持した後所定の処理温度に冷却するようにしたことを特徴とする電極の冷却方法。
発明の詳細な説明
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はウエハを静電吸着力により支持してプラズマにより処理するプラズマ処理装置において、特に0℃以下の温度で静電吸着力の安定化を図るのに好適な電極の冷却方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のプラズマ処理装置に用いられているウエハの冷却方法としては、例えば特開平1−302726号公報記載のものがある。すなわち、処理中のウエハを載置する陰極を0℃以下に冷却する手段とウエハを支持する手段とウエハ裏面に冷却ガスを導入する手段を設け、0℃以下の温度に冷媒により冷却された陰極上にウエハを支持した状態で裏面に冷却ガスを導入して行っている。また、ウエハの支持手段としては電極をポリイミド等の高分子材料やアルミナ等のセラミックス等からなる強誘電体ではさんで構成した静電チャックを用いている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】前記、従来技術を電極を0℃以下に冷却してウエハを連続してプラズマにより処理するエッチング装置に適用することを考えると、次のような解決すべき課題がある。それは、絶縁膜の表面または内部に吸着されている水分は電極を0℃以下に冷却した場合には氷となって除去できなくなり、この氷によって絶縁膜の静電容量が見かけ上小さくなるため静電吸着力にばらつきを生じ、ウエハを安定して支持できないという問題がある。
【0004】本発明の目的は、吸着力の安定化を図るのに好適な静電吸着電極の特に0℃以下への冷却方法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するために、例えば、処理室の清掃後の立ち上げシ−ケンス実行時に処理室を高真空排気しながら静電吸着電極をサ−キュレ−タにより一度昇温して設定温度に一定時間保持した後、0℃以下の所定の処理温度まで冷却するようにしたものである。
【0006】
【作用】静電吸着電極を真空中で昇温して一定時間保持することにより、絶縁膜の表面または内部に吸着されている水分を短時間で確実に蒸発させて除去し、その後0℃以下の所定の処理温度まで冷却するので、絶縁膜の表面あるいは内部に氷を生じることがなく、吸着力の安定化を図ることができる。
【0007】
【実施例】以下、本発明の一実施例を適用したいわゆる有磁場マイクロ波エッチング装置の構成を図1により説明する。ウエハ1のエッチングは、放電管2内をロ−タリ−ポンプ3、タ−ボ分子ポンプ4により真空排気した後、所定の流量導入したプロセスガス5をマイクロ波6とソレノイド7による磁場の相互作用によりプラズマ8化し、さらに、下部電極9に高周波電源10により高周波を印加してウエハ1に入射するイオンのエネルギ−を制御しながら行う。
【0008】ウエハ1のエッチングが終了すると、該エッチング済みのウエハ1はウエハ押し上げ装置11の作動により下部電極9から搬送装置(図示省略)に渡された後、該搬送装置により他の場所に搬送される。
【0009】また、下部電極9上にはタングステン電極12にSiC焼結体13をろう材14により接合して構成した静電吸着電極15が固定されており、さらに、下部電極9と直流電源16の間にはスイッチ17が設けてあり、スイッチ17をオン,オフすることによりに静電吸着電極15に直流電圧を印加できるようにしてある。
【0010】一方、エッチングされるウエハ1の冷却は、スイッチ17をオンして静電吸着電極15とウエハ1間に直流電源16により直流電圧を印加した後、前述した方法によりプラズマ8を生成することにより生じる静電吸着力によりウエハ1を支持した状態で、マスフロ−コントロ−ラ18を開いてHeガス19をウエハ1裏面に導入することにより行う。また、下部電極9はヒ−タ21と冷凍機22を内蔵したサ−キュレ−タ23により冷媒24を循環することにより温度調節されている。
【0011】次に、本発明による静電吸着電極15の初期冷却方法を図2により説明する。エッチング装置の立ち上げシ−ケンスが開始されて放電管2内がタ−ボ分子ポンプ4により高真空排気されると、静電吸着電極15の冷却が開始される。まず、サ−キュレ−タ23のヒ−タ21により冷媒24を設定温度T1℃まで加温しながら下部電極9内を循環して静電吸着電極15を室温以上のT1℃まで昇温する。その後、静電吸着電極15をT1℃に時間t1だけ保持した後、逆にサ−キュレ−タ23の冷凍機22により冷媒24を0℃以下の処理温度T2℃まで冷却しながら下部電極9内を循環して静電吸着電極15をT2℃まで冷却する。
【0012】以上の手順により静電吸着電極15の初期冷却を行うことにより、絶縁膜の表面または内部に吸着されている水分を短時間で確実に蒸発させて除去することができる。なお、設定温度T1℃,処理温度T2℃,保持時間t1はシ−ケンスコントロ−ラにより任意に設定可能な値である。
【0013】
【発明の効果】本発明によれば、特に0℃以下の処理温度において静電吸着力の安定化を図ることができる。




 

 


     NEWS
会社検索順位 特許の出願数の順位が発表

URL変更
平成6年
平成7年
平成8年
平成9年
平成10年
平成11年
平成12年
平成13年


 
   お問い合わせ info@patentjp.com patentjp.com   Copyright 2007-2013