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発明の名称 プラズマ処理装置
発行国 日本国特許庁(JP)
公報種別 公開特許公報(A)
公開番号 特開平6−163463
公開日 平成6年(1994)6月10日
出願番号 特願平4−311628
出願日 平成4年(1992)11月20日
代理人 【弁理士】
【氏名又は名称】高田 幸彦
発明者 伊藤 陽一
要約 目的
静電吸着力の安定化を図るのに好適な装置を提供することにある。

構成
プラズマ6により処理中のウエハ1を支持する静電吸着電極13と静電吸着電極13を0℃以下に冷却するサ−キュレ−タ20とウエハ1裏面へHeガス19を導入する手段から構成されたウエハ1冷却手段を有するプラズマ処理装置において、ウエハ1裏面へHeガス19を導入する手段の途中に吸着剤17を充填した吸着塔18を設ける。
特許請求の範囲
【請求項1】電極を冷却する手段とウエハを支持する手段とウエハ裏面に冷却ガスを導入する手段から構成されるウエハ冷却手段を有するプラズマ処理装置において、ウエハ裏面に冷却ガスを導入する手段の途中に吸着剤を充填した冷却塔からなる水分の吸着手段を設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。
発明の詳細な説明
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はウエハを静電吸着力により支持して冷却しながらプラズマにより処理するプラズマ処理装置において、静電吸着力の安定化を図るのに好適なプラズマ処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のプラズマ処理装置に用いられているウエハの冷却方法としては、例えば特開平1−302726号公報記載のものがある。すなわち、処理中のウエハを載置する陰極を0℃以下に冷却する手段とウエハを支持する手段とウエハ裏面に冷却ガスを導入する手段を設け、0℃以下の温度に冷媒により冷却された陰極上にウエハを支持した状態で裏面に冷却ガスを導入して行っている。また、ウエハの支持手段としては電極をポリイミド等の高分子材料やアルミナ等のセラミックスからなる強誘電体ではさんで構成した静電チャックを用いている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】前記、従来技術をウエハを連続してプラズマにより処理するエッチング装置に適用することを考えると、次のような解決すべき課題がある。それは、静電吸着用の絶縁膜の表面または内部に吸着された水分により絶縁膜の静電容量は見かけ上小さくなるために、吸着されている水分量により静電吸着力にばらつきを生じウエハを安定して支持できないという問題がある。
【0004】本発明の目的は、静電吸着力の安定化を図るのに好適なプラズマ処理装置を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するためにウエハ冷却ガス導入手段の途中に吸着剤を充填した吸着塔を設け、冷却ガス中の水分を吸着剤により除去してウエハ裏面に導入するようにしたものである。
【0006】
【作用】冷却ガス中に含まれる水分量が減少するので露点が低くなり、電極とウエハのすきまを通って処理室に流れる際に電極表面に水分が吸着されることを防止でき、静電吸着力の安定化を図ることができる。
【0007】
【実施例】以下、本発明の一実施例を適用したいわゆるマイクロ波エッチング装置の構成を図1により説明する。ウエハ1のエッチングは、放電管2内に導入したプロセスガス3をマイクロ波4とソレノイド5による磁場の相互作用によりプラズマ6化し、さらに、下部電極7に高周波電源8により高周波を印加してウエハ1に入射するイオンのエネルギ−を制御しながら行う。ウエハ1のエッチングが終了すると、該エッチング済みのウエハ1はウエハ押し上げ装置9の作動により下部電極7から搬送装置(図示省略)に渡された後、該搬送装置により他の場所に搬送される。
【0008】また、下部電極7上にはタングステン電極10にSiC焼結体11をろう材12により接合して構成した静電吸着電極13が固定されており、さらに、下部電極7と直流電源14の間にはスイッチ15が設けてあり、スイッチ15をオン、オフすることにより静電吸着電極13に直流電圧を印加できるようにしてある。
【0009】一方、エッチングされるウエハ1の冷却は、まずスイッチ15をオンして静電吸着電極13に直流電圧を印加した状態で前述した方法によりプラズマ6を生成することにより生じる静電吸着力によりウエハ1を支持する。その後、マスフロ−コントロラ−16を開いてモリキュラシ−ブ等の吸着剤17が充填された吸着塔18を通してHeガス19をウエハ1裏面に導入することにより行う。
【0010】また、下部電極7はサーキュレ−タ20により冷媒21を循環することにより温度調節されている。
【0011】本発明では、ウエハ1冷却用Heガス19中の水分を吸着剤17により除去して露点を低くした状態でウエハ1裏面に導入するので、ウエハ1裏面を通って処理室に流れる際に静電吸着電極13のSiC焼結体11の表面に水分が吸着されることを防止でき、静電吸着力の安定化を図れる。
【0012】
【発明の効果】本発明によれば、静電吸着力の安定化を図るのに好適な装置を提供することができる。




 

 


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