米国特許情報 | 欧州特許情報 | 国際公開(PCT)情報 | Google の米国特許検索
 
     特許分類
A 農業
B 衣類
C 家具
D 医学
E スポ−ツ;娯楽
F 加工処理操作
G 机上付属具
H 装飾
I 車両
J 包装;運搬
L 化学;冶金
M 繊維;紙;印刷
N 固定構造物
O 機械工学
P 武器
Q 照明
R 測定; 光学
S 写真;映画
T 計算機;電気通信
U 核技術
V 電気素子
W 発電
X 楽器;音響


  ホーム -> 電気素子 -> 株式会社日立製作所

発明の名称 電子線描画装置
発行国 日本国特許庁(JP)
公報種別 公開特許公報(A)
公開番号 特開平6−140314
公開日 平成6年(1994)5月20日
出願番号 特願平4−285688
出願日 平成4年(1992)10月23日
代理人 【弁理士】
【氏名又は名称】小川 勝男
発明者 南出 宜徳 / 河崎 勝浩
要約 目的
本発明の目的は、矩形ビーム毎の照射時間の設定をハードウエアが行うことにより、描画データ変換ソフトウエアから照射時間設定の処理を除去し、データ変換時間を含めたトータルの描画時間を短縮し、電子線描画装置の生産性を向上させることである。

構成
照射時間設定回路は、矩形ビーム寸法判定部,照射時間テーブル、および、照射時間データ付加部から構成される。描画データは、矩形ビーム寸法判定部でその面積が判定され、その判定に応じて照射時間テーブル中の照射時間データが選択され、照射時間データ付加部において、照射時間データが描画データに付加される。
特許請求の範囲
【請求項1】電子ビームをオン,オフ制御、および任意の矩形に可変成形して、電子線レジストを塗布した試料に所望のパターンを形成するように構成した電子線描画装置において、矩形ビーム寸法に応じて、ビームの照射時間を設定するハードウエアを設けたことを特徴とする電子線描画装置。
【請求項2】請求項1の電子線描画装置において、矩形ビーム寸法として、矩形ビームの面積を使用することを特徴とする電子線描画装置。
【請求項3】請求項1の電子線描画装置において、矩形ビーム寸法として、矩形ビームの短辺の長さを使用することを特徴とする電子線描画装置。
【請求項4】請求項1の電子線描画装置において、矩形ビーム寸法として、矩形ビームの短辺と長辺の両方の長さを使用することを特徴とする電子線描画装置。
発明の詳細な説明
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は可変成形ビーム方式の電子線描画装置に関し、特に、データ変換時間を含めてのトータルの描画時間を短縮する電子線描画装置に関する。
【0002】
【従来の技術】可変成形ビーム方式の電子線描画装置では、寸法の大きいビーム(>2μm□程度)を電子線レジストを塗布した試料に照射した場合、クーロン効果と試料の熱変質等により、描画した図形の周辺にボケが生じる。これを防ぐには、描画する図形の中央部は大きい矩形ビームで照射時間を短くして描画し、図形の周辺部は小さい寸法の矩形ビームに分割し、照射時間を長くして描画すればよい。この描画方法は、近接効果補正と呼ばれているものである。
【0003】従来は、分割された各矩形ビーム毎の照射時間の設定は、描画データのCADデータフォーマットから電子線描画装置固有のデータフォーマットにデータ変換する際に、データ変換ソフトウエアが算出して行っていた。
【0004】この従来法では、分割された各矩形ビーム毎の照射時間の設定をソフトウエアが行っていたため、描画データ量が多くなると処理時間を多大に要するという問題があった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、分割された矩形ビーム毎の照射時間の設定をハードウエアが行うことにより、描画データ変換ソフトウエアから照射時間設定の処理を除去し、データ変換時間を含めたトータルの描画時間を短縮し、電子線描画装置の生産性を向上させることである。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するために、描画データ処理制御回路の中に、矩形ビーム寸法に応じてビーム照射時間を設定する回路を設ける。
【0007】
【作用】制御計算機から描画データ処理制御回路に転送された描画データは、図形分解回路で矩形ビームのパターンに分解され、照射時間設定回路で、その矩形ビームの寸法に応じて照射時間が設定され、その後、偏向制御回路へ転送される。
【0008】
【実施例】本発明の実施例を図1〜図2により説明する。
【0009】図1は、本発明を実施するための装置構成である。描画データは制御計算機11から描画データ制御回路12に転送される。そのデータは、図形分解回路13で、矩形ビームで描画可能な大きさまで分解され、分解されたデータ毎に、矩形ビーム寸法に応じて照射時間設定回路14で照射時間が設定される。その後データは、偏向制御回路15に転送され、本体16の偏向器を制御し、所望の描画を実現する。
【0010】図2に、照射時間設定回路の構成を示す。本回路は、矩形ビーム寸法判定部21,照射時間テーブル22、および、照射時間データ付加部23から構成される。描画データは、矩形ビーム寸法判定部21でその面積が判定され、その判定に応じて照射時間テーブル22中の照射時間データが選択され、照射時間データ付加部23において、照射時間データが描画データに付加される。
【0011】矩形ビームの面積の判定および照射時間データの選択は、例えば次のように行う。矩形ビームの面積Sは0から最大25.0〔μm×μm〕までを0.5〔μm×μm〕ずつ50階調に分割して、S0=0,S1=0.5,S2=1.0,S3=1.5,……,S50=25.0〔μm×μm〕とする。それに対応して、照射時間テーブル22も50階調の照射時間データを用意する。例えば、照射時間データ1=402〔ns〕,照射時間データ2=404〔ns〕,……,照射時間データ50=500〔ns〕とする。
【0012】矩形ビーム寸法判定部21は描画データから矩形ビームの面積Sを判定し、面積SがS0<S≦S1ならば照射時間テーブル22から照射時間データ1を選択し、S1<S≦S2ならば照射時間データ2を選択し、……、S49<S≦S50ならば照射時間データ50を選択し、そのデータを照射時間データ付加部23に送る。照射時間データ付加部23はその照射時間データを描画データに付加する。
【0013】上記実施例では、矩形ビームの面積Sの判定値および照射時間テーブルの階調を50としたが、これに限定されない。また、面積の判定値S0〜S50、および、照射時間データ1〜50も上記の値に限定されない。
【0014】また上記実施例では、矩形ビーム寸法判定部21は矩形ビームの面積を判定する構成としたが、これに限定されない。矩形ビームの面積を判定に用いる代わりに、(1)矩形ビームの短辺の長さ、(2)矩形ビームの短辺と長辺の両方の長さを判定に用いるという構成もある。
【0015】
【発明の効果】矩形ビーム毎の照射時間の設定をハードウエアが行うという本発明により、描画データ変換ソフトウエアから照射時間設定の処理が除去され、データ変換時間を含めたトータルの描画時間が短縮され、電子線描画装置の生産性が向上する。例えば、256MbitDRAM 相当のウエーハを直接描画する場合、(1)矩形ビーム毎の照射時間の設定をデータ変換ソフトウエアで行うならば、トータルの描画時間は、データ変換時間20h+直接描画時間(1h/ウエーハ)を要するが、(2)本発明のように、矩形ビーム毎の照射時間の設定をハードウエアが行うならば、トータルの描画時間は、データ変換時間2h+直接描画時間(1h/ウエーハ)となり、大幅に短縮される。




 

 


     NEWS
会社検索順位 特許の出願数の順位が発表

URL変更
平成6年
平成7年
平成8年
平成9年
平成10年
平成11年
平成12年
平成13年


 
   お問い合わせ info@patentjp.com patentjp.com   Copyright 2007-2013